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铜及铜合金的化学抛光工艺改进
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1
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摘要
本文介绍了改进的铜及铜合金化学抛光工艺,简介了该工艺的流程,化学抛光液和脱膜液的配方及工艺条件,还分析了硝酸及过氧化氢浓度,乙醇及LC添加剂、抛光时间及搅拌速度等对该工艺的影响。
作者
蔡棣清
陈旭东
机构地区
中国科学院广州电子技术研究所
广州市东科工艺有限公司
出处
《化工腐蚀与防护》
1997年第1期15-17,共3页
关键词
铜
铜合金
化学抛光
分类号
TG175.3 [金属学及工艺—金属表面处理]
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化工腐蚀与防护
1997年 第1期
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