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金属化学抛光液的进展被引量：1

Advance on Chemical Polishing Solutions for Metals

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摘要长期以来,各国电镀工作者不断探索,研究最新的镀前处理方法,改善金属表面的显微几何形状,以降低金属表面的显微粗糙程度,使零件表面变得光亮,符合电镀规范.除人们熟悉的机械抛光、电解抛光外,普遍采用化学抛光技术.这里介绍国外金属和合金化学抛光液的研究进展情况。

作者吴水清

机构地区中科院高能物理研究所

出处《电镀与涂饰》 CAS CSCD 1991年第1期57-62,99,共7页 Electroplating & Finishing

关键词金属化学抛光抛光剂

分类号 TG175 [金属学及工艺—金属表面处理]

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电镀与涂饰

1991年第1期

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