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用于脉冲γ强度测量的Ф60,1000μmPIN探测器 被引量:9

Ф60,1000 μm Si-PIN Detectors for pulsed γ flux measurement
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摘要 采用电阻率为10000-20000Ω·cm的高阻单晶硅材料,研制成功灵敏区尺寸为φ60mm,耗尽层厚度-1000μm的大面积厚PIN半导体探测器.设计了该类探测器厚度测量专用的反冲质子测量系统,对探测器的时间响应、γ灵敏度、漏电流、γ/n分辨等物理参数进行了测量和分析,结果表明,这类探测器可满足低强度裂变n/γ混合场中脉冲γ强度测量的需要. Using high-resistivity (10000-20000 Ω·cm) n-type Si wafers, we have developed 460 PIN semiconductor detector with depletion thickness -1000 microns for low-intensity pulsed γ-ray flux measurement. For determination of thickness of the depletion depths, a recoil proton chamber with 20% scattering angle has been constructed. The detector' s performance have been measured and analyzed, which indicates that the developed detector satisfactorily meets the expected specifications. Compared with the existing detectors with depletion depths of 200-300 microns, the detector has much greater γ detecting sensitivity and suited for measuring pulsed γ-my flux in low-intensity mixed γ/n fields.
出处 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期1353-1357,共5页 Acta Physica Sinica
关键词 大面积 电流型 半导体探测器 强度测量 large area PIN detector, current mode, semiconductor detector
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献3

  • 1欧阳晓平.物理学报,2002,51:1502-1502.
  • 2欧阳晓平.低强度脉冲裂变中子探测技术研究[Z].上海:复旦大学,2002..
  • 3金玉仁 欧阳晓平 李琳.西北核技术研究所科技报告B[R].,2001.2986.

共引文献30

同被引文献78

引证文献9

二级引证文献41

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