电镀电源的发展与新技术被引量：5

Development of Plating Power and the New Technology

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摘要介绍了电镀的工作原理及电镀电源的发展历程。脉冲电镀是一项新的电镀技术,脉冲电镀电源是发展的方向,针对脉冲电源这项新技术重点进行了介绍。 The working principle of plating and development course of plating power are introduced. The pulse plating is a new plating technology and the pulse power is introduced.

作者韩桂利

机构地区天津电子信息职业技术学院

出处《天津冶金》 CAS 2007年第1期45-47,共3页 Tianjin Metallurgy

关键词电镀电源脉冲电流密度扩散控制 plating power pulse current density difussion control

分类号 TG174 [金属学及工艺—金属表面处理]

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