摘要
在深入探讨DMD(DigitalMirrorDevice)灰度图形传递的特点基础上,把曝光量分布作为分析数字光刻成像的物理量,建立了数字灰度光刻的成像模型.以制作微米量级微透镜为例,通过模拟分析,讨论了数字光刻过程中DMD的工作方式、成像系统参量对抗蚀剂曝光量分布的影响,揭示了数字灰度光刻成像机理,为开展数字光刻实验研究提供了理论根据.
The characteristic of the gray-tone pattern generated by DMD is discussed and an imaging model for describing the digital gray-tone lithography process is developed. In addition, the effects of DMD operation mode and the parameters of imaging system to the distribution of the exposure dose on the photoresist are simulated and discussed. The model will be helpful for the experimental research on the digital lithography.
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第9期1412-1416,共5页
Acta Photonica Sinica
基金
国家自然科学基金(60376021)
微细加工国家重点实验基金资助
关键词
数字灰度光刻
DMD
成像模型
曝光量
Digital gray-tone lithography
DMD
Imaging model
Exposure dose
