硅的离子束抛光技术研究被引量：3

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摘要介绍了用离子束抛光法获得硅的超光滑表面的方法，并给出了不同抛光条件下表面粗糙度的原子力显微镜（AFM）测量结果，其中最好的表面粗糙度达0.12nm（有效值）。

作者洪义麟付绍军陶晓明黄文浩褚家如 L.Monica A.M.Baro

出处《真空科学与技术》 CSCD 1995年第6期429-431,共3页 Vacuum Science and Technology

基金国家自然科学基金

关键词离子束抛光硅超光滑表面硅表面

参考文献1

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真空科学与技术

1995年第6期

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