离子注入的N的GaP中的浓度研究
出处
《北京师范大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
1990年第2期26-30,共5页
Journal of Beijing Normal University(Natural Science)
参考文献5
-
1丁维清，北京师范大学学报，1988年，1期，48页
-
2张通和，微细加工技术，1986年，1期，24页
-
3秦国刚，发光学报，1983年，3期，1页
-
4团体著者，离子注入原理与技术，1982年
-
5颜炳章，第2届全国发光学术会议论文选编，1980年
-
1钱文生.YSZ/Si上溅射BSCCO超导薄膜的二次溅射效应[J].电子器件,1997,20(4):16-20.
-
2吴瑜光,张通和,刘安东,张荟星.溅射效应对离子注入聚合物表面形貌的影响[J].北京师范大学学报（自然科学版）,2002,38(6):755-758.
-
3梁枫,廖杨芳,肖清泉,谢泉.负偏压对磁控溅射Mg_2Si薄膜的影响[J].电子元件与材料,2016,35(4):35-38.
-
4张通和,吴瑜光,肖志松,刘安东.Er离子注入Si和SiO_2/Si溅射和外扩散对浓度分布的影响[J].核技术,2005,28(3):205-208. 被引量：1
-
5徐朝银,董晓浩,赵飞云,高飞,徐德权,凤良杰,阎佐健,孙继武.KZ-400离子束刻蚀装置的研制[J].真空科学与技术学报,2006,26(1):48-53. 被引量：7
-
6郝建华,赵兴荣,周方桥,易新建.离子束溅射原位淀积高温超导薄膜的机理与实验研究[J].微细加工技术,1997(3):32-39.
-
7游代乔.PIII氮离子注入增强沉积实验分析[J].化学工程与装备,2013(3):62-64.
-
8唐瓦,邓伟杰,郑立功,张学军.离子束抛光去除函数计算与抛光实验[J].光学精密工程,2015,23(1):31-39. 被引量：15
-
9田民波,山田公.气体离化团束溅射研究[J].真空科学与技术,1997,17(3):175-182.
-
10吴瑜光,张通和,沈定予.多电荷Cr离子注入聚合物的微观结构和离子浓度分布[J].北京师范大学学报（自然科学版）,2000,36(6):765-768. 被引量：4
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