YSZ/Si上溅射BSCCO超导薄膜的二次溅射效应

Resputter Effect of BSCCO Superconducting Films　Sputtering on YSZ/Si

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摘要本文对溅射高温超导薄膜的过程中所产生的二次溅射效应（ＲｅｓｐｕｔｅｒＥｆｅｃｔ）作了较系统的理论分析，观察了ＹＳＺ／Ｓｉ衬底上磁控溅射ＢＳＣＣＯ高温超导薄膜时二次溅射效应所产生的影响。 Resputter effect during the process of sputtering high Tc　superconducting films is analyzed. This effect appearing in BSCCO films sputtered on YSZ/Si substrates is observed. It is presented that offaxis sputtering is effective for modulating this effect.

作者钱文生

机构地区东南大学微电子中心

出处《电子器件》 EI CAS 1997年第4期16-20,共5页 Chinese Journal of Electron Devices

基金国家自然科学基金

关键词 BSCCO YSZ 超导薄膜溅射二次溅射 BSCCO YSZ superconducting films sputter resputter

分类号 TM26 [一般工业技术—材料科学与工程] TN305.92 [电子电信—物理电子学]

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1997年第4期

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