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掺氟低氢PECVD SixNy工艺研究 被引量:1

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作者 俞诚
出处 《薄膜科学与技术》 1990年第1期61-65,共5页
  • 相关文献

同被引文献5

  • 1刘一升.半导体技术,1992,4.
  • 2Chen Junfang,Cheng Shaoyu,Ren Zhaoxing et al. Acta Physica Sinica,1994;9:682.
  • 3Manabe Y,Mitsuyu T.J Appl Phys,1989;66:2457.
  • 4Takashi Hirtto et al.Jpn J Appl Phys.1988;27:528.
  • 5任兆杏,盛艳亚,史义才.微波ECR等离子体辅助物理汽相沉积技术[J].物理,1990,19(8):497-499. 被引量:4

引证文献1

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