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IBM推出用于无线应用的下一代硅锗技术

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摘要 IBM日前宣布推出第四代硅锗制造技术,其性能可达到上一代技术的2倍以上。这种全新的130nm硅锗双极互补金属氧化半导体(SiGe BiCMOS)制造技术可以降低移动消费类电子产品的成本,推动高带宽无线通信的发展, 并可以应用在汽车雷达等创新应用上。
出处 《微电脑世界》 2005年第9期46-46,共1页 PC World China
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