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硅片表面状态与机械强度
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摘要
硅片表面状态与机械强度谢书银,石志仪(中南工业大学410083)关键词:硅片,化学腐蚀,表面损伤,抗弯强度,表面处理(一)前言半导体器件所用的研磨硅片在器件生产过程中都有一定程度的破碎,尤其是当硅片较薄时,破碎问题相当严重。发生破碎的原因除与硅片内在...
作者
谢书银
石志仪
机构地区
中南工业大学
出处
《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995年第4期312-315,共4页
Chinese Journal of Rare Metals
基金
硅材料国家重点实验室基金
关键词
硅片
腐蚀
损伤
抗弯强度
半导体器件
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
引文网络
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3
佘思明,半导体硅材料学,1992年,475页
4
团体著者(译),半导体测量与仪器,1980年,62页
引证文献
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高光泽度的硅酸腐片制备研究[J]
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10
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紫外光照射下光纤机械强度的降低[J]
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4
刘顺康.
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.真空电子技术,1995,8(4):8-10.
稀有金属
1995年 第4期
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