期刊文献+

采用离子注入方法调整和控制氢离子敏场效应管(pH-ISFET)阈值电压 被引量:1

Control and Adjustment of Threshold Voltage of pH-ISFET by Using Ion Implantation
在线阅读 下载PDF
导出
摘要 本文首先分析了影响pH-ISFET阈值电压的几个因素.随后给出了在不同的离子注入参数下SOS型MISFET的阈值电压(V_T)_M及对应的参比电极-溶液-pH-ISFET的阈值电压(V_T)_R和△V_T=(V_T)_R-(V_T)_M的实测值曲线.最后对结果进行了讨论. This paper analyses theoretically several factors which determine threshold voltage of pHISFET.The experimental curves of threshold Voltage (V_T)M of SOS-MISFET, (V_T)R of corres-ponding 'Reference electrode-Electrolyte-pH-ISFET' and △V_T= (V_T)_a-(V_T)_M under differemparameters of ion implantation are presented, and the results are discussed.
作者 汪正孝
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第1期62-66,共5页 半导体学报(英文版)
关键词 PH-ISFET 离子注入 阀值电压 pH-ISFET MISFET Silicon-on-sapphire(SOS) Threshold voltage to Implantation
  • 相关文献

参考文献2

  • 1王贵华,中国电子学会敏感技术学会第一届学术年会论文摘要,1987年
  • 2张永志,1987年

同被引文献2

引证文献1

二级引证文献1

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部