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用键合工艺制备大面积场发射阵列 被引量:3

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摘要 <正> 近年来,真空微空电子学的发展特别引人瞩目。真空微电子器件结合了电子的真空输运及大规模集成的微细加工技术,有着广阔的应用前景。该类器件要在适中的电压下工作,需要约1×10~7V/cm的强电场,为此,要制备出尖端阴极,以使局部电场集中。显见,阴极制备就成为真空微电子器件的关键工艺之一。早在1968年spindt就用蒸发钼的方法形成尖端阴极,后来又进行了改进。
出处 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第9期780-782,共3页 Chinese Science Bulletin
基金 东南大学青年科学基金资助课题
  • 相关文献

参考文献1

  • 1黄庆安,1992年

同被引文献7

  • 1黄庆安,东南大学学报,1993年,23卷,增刊,25页
  • 2曾谨言,量子力学,1993年
  • 3Yang G,IEEE Trans Electron Devices,1991年,38卷,10期,2373页
  • 4虞丽生,半导体异质结物理,1990年
  • 5施敏,半导体器件物理,1987年
  • 6刘学悫,阴极电子学,1980年
  • 7徐宝琨,结晶学,1991年

引证文献3

二级引证文献4

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