采用射频等离子体增强化学气相沉积法(Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition,RF-PECVD)在硫系玻璃(As40Se60)表面沉积类金刚石(Diamond-Like Carbon,DLC)薄膜。通过研究沉积过程中射频功率(400~700 W)的变化,系...采用射频等离子体增强化学气相沉积法(Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition,RF-PECVD)在硫系玻璃(As40Se60)表面沉积类金刚石(Diamond-Like Carbon,DLC)薄膜。通过研究沉积过程中射频功率(400~700 W)的变化,系统分析其对DLC膜的结构、力学性能、光学性能及环境适应性的影响。研究结果表明,随着射频功率的增加,DLC膜具有金刚石特征的sp^(3)杂化态比例和硬度均相应增加,而摩擦系数在功率为600 W时最低。此外,DLC膜在8~12μm波段表现出较高的透过率,证明其能作为硫系玻璃保护膜的可行性。环境适应性测试显示,除700 W功率下的薄膜在湿热测试后出现脱膜现象外,其他功率条件下的薄膜均具有良好的耐环境性能,可满足应用的要求。展开更多
为解决大口径红外元件类金刚石(Diamond-Like Carbon,DLC)膜层的镀膜工艺难题,满足长焦距、大视场光学系统的技术需求,采用射频等离子增强化学气相沉积(Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,RF-PECVD)制备工艺方...为解决大口径红外元件类金刚石(Diamond-Like Carbon,DLC)膜层的镀膜工艺难题,满足长焦距、大视场光学系统的技术需求,采用射频等离子增强化学气相沉积(Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,RF-PECVD)制备工艺方法,基于容性耦合等离子体驻波效应及趋肤效应机理,在大口径红外元件基底制备了红外类金刚石膜。通过优化改进等离子体电场均匀性,有效降低了膜层应力并提升了其可靠性及膜层厚度均匀性。依据光学薄膜元件环境试验要求进行了高温、低温及湿热等试验,试验后膜层未出现膜层起皮、褶皱及脱落现象。结果表明,大口径红外类金刚石膜具备良好抗温度冲击及腐蚀等特性,满足光学元件镀膜的正常需求,进一步拓展了大口径DLC薄膜的制备工艺能力。展开更多
文摘采用射频等离子体增强化学气相沉积法(Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition,RF-PECVD)在硫系玻璃(As40Se60)表面沉积类金刚石(Diamond-Like Carbon,DLC)薄膜。通过研究沉积过程中射频功率(400~700 W)的变化,系统分析其对DLC膜的结构、力学性能、光学性能及环境适应性的影响。研究结果表明,随着射频功率的增加,DLC膜具有金刚石特征的sp^(3)杂化态比例和硬度均相应增加,而摩擦系数在功率为600 W时最低。此外,DLC膜在8~12μm波段表现出较高的透过率,证明其能作为硫系玻璃保护膜的可行性。环境适应性测试显示,除700 W功率下的薄膜在湿热测试后出现脱膜现象外,其他功率条件下的薄膜均具有良好的耐环境性能,可满足应用的要求。
文摘为解决大口径红外元件类金刚石(Diamond-Like Carbon,DLC)膜层的镀膜工艺难题,满足长焦距、大视场光学系统的技术需求,采用射频等离子增强化学气相沉积(Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,RF-PECVD)制备工艺方法,基于容性耦合等离子体驻波效应及趋肤效应机理,在大口径红外元件基底制备了红外类金刚石膜。通过优化改进等离子体电场均匀性,有效降低了膜层应力并提升了其可靠性及膜层厚度均匀性。依据光学薄膜元件环境试验要求进行了高温、低温及湿热等试验,试验后膜层未出现膜层起皮、褶皱及脱落现象。结果表明,大口径红外类金刚石膜具备良好抗温度冲击及腐蚀等特性,满足光学元件镀膜的正常需求,进一步拓展了大口径DLC薄膜的制备工艺能力。
