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多层结构PVCDTi—TiN涂层的沉积和机械性能
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作者 豫东 《等离子体应用技术快报》 1997年第2期14-16,共3页
关键词 金属涂层 pvcd 氮化钛 涂层 机械性能
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PVCD涂层新工艺在模具上的应用
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作者 贺洪礼 陈旭 《长安科技》 1998年第1期37-39,共3页
本文简要地介绍PCVD涂层的原理,沉积条件,工艺方法,以及涂层在冷冲压模具上的应用研究情况。
关键词 等离子体涂层 冲压 模具 pvcd
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PCVD法渗Si的研究 被引量:7
3
作者 王蕾 周树清 陈大凯 《武汉科技大学学报》 CAS 2000年第3期245-246,共2页
为解决硅含量超过 3.5 %的硅钢片无法轧制成薄片的矛盾 ,探讨用等离子体化学气相沉积法 (PCVD法 ) ,在 (0 .1~ 0 .3) mm厚的普通硅钢片表面涂硅 ,然后进行短时间高温扩散 ,使硅钢片平均含硅量达 6 .5 % ,磁性能达到或超过冷轧取向硅钢... 为解决硅含量超过 3.5 %的硅钢片无法轧制成薄片的矛盾 ,探讨用等离子体化学气相沉积法 (PCVD法 ) ,在 (0 .1~ 0 .3) mm厚的普通硅钢片表面涂硅 ,然后进行短时间高温扩散 ,使硅钢片平均含硅量达 6 .5 % ,磁性能达到或超过冷轧取向硅钢片性能。 展开更多
关键词 硅钢片 pvcd 渗硅 电工材料
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PCVD复合渗镀刀具表面强化 被引量:2
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作者 陶冶 刘培英 阮中健 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 1996年第7期14-16,共3页
研究了PCVD复合渗镀高速钢刀具表面强化方法。复合渗镀层由(Ti,Si)N镀层和离子渗氮层组成。研究了Ti/Si对(Ti,Si)N系镀层的硬度、组织形貌、抗氧化性能和结合力的影响。切削试验结果表明,复合渗镀处理可显著改善高钢刀具切削性... 研究了PCVD复合渗镀高速钢刀具表面强化方法。复合渗镀层由(Ti,Si)N镀层和离子渗氮层组成。研究了Ti/Si对(Ti,Si)N系镀层的硬度、组织形貌、抗氧化性能和结合力的影响。切削试验结果表明,复合渗镀处理可显著改善高钢刀具切削性能,提高刀具寿命。 展开更多
关键词 表面强化 复合渗底 刀具 pvcd
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TiO_2纳米微晶的RF-PCVD法制备及表征 被引量:1
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作者 徐海萍 孙彦平 +1 位作者 王俊文 陈新谋 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期411-414,419,共5页
以TiCl4为原料,采用高频等离子化学气相沉积(RF—PCVD)法制备了TiO2纳米微晶,考察了控制粒径大小及晶相转化的关键操作条件。借助XPS、TEM、XRD、BET等技术对颗粒的化学组成、形貌、晶相结构等进行了表征.研究表明:所得TiO2纳米微晶大... 以TiCl4为原料,采用高频等离子化学气相沉积(RF—PCVD)法制备了TiO2纳米微晶,考察了控制粒径大小及晶相转化的关键操作条件。借助XPS、TEM、XRD、BET等技术对颗粒的化学组成、形貌、晶相结构等进行了表征.研究表明:所得TiO2纳米微晶大部分为球形体颗粒,粒径30—50 nm,单分散性良好;颗粒中锐钛相和金红石相两相共存,结晶完整;金红石相含量在26.7%-53.6%之间可调. 展开更多
关键词 纳米微晶 TIO2 RF—pvcd 制各 表征
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a-Si:H薄膜固相晶化法制备大晶粒多晶硅薄膜 被引量:7
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作者 吴萍 姚若河 +1 位作者 林璇英 余楚迎 《汕头大学学报(自然科学版)》 1999年第1期19-23,共5页
用等离子体化学气相沉积(PCVD)法制备:a-Si:N薄膜材料(衬底温度20O℃~350℃),用固相晶化法(SPC)获得多晶硅薄膜(退火温度500℃~650℃),用X射线衍射法测得平均晶粒尺寸依赖于退火温度和沉积条件,随着沉积温度的降低需要... 用等离子体化学气相沉积(PCVD)法制备:a-Si:N薄膜材料(衬底温度20O℃~350℃),用固相晶化法(SPC)获得多晶硅薄膜(退火温度500℃~650℃),用X射线衍射法测得平均晶粒尺寸依赖于退火温度和沉积条件,随着沉积温度的降低需要较高的退火温度,用SEM观测形貌测得平均晶粒大小为1,0~1。 展开更多
关键词 固相晶化法 平均晶粒尺寸 多晶硅 薄膜 pvcd
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PCVD-TiN涂层及其钢基体的热处理 被引量:3
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作者 彭红瑞 赵程 石玉龙 《青岛化工学院学报(自然科学版)》 1999年第1期44-47,共4页
在Cr12钢基体上用PCVD法沉积TiN涂层后,再进行热处理强化基体的研究。结果表明,热处理后,PCVDTiN涂层的显微硬度略有提高。X射线衍射分析表明,经过热处理后,PCVDTiN涂层的晶体结构更趋于完整,其晶面间... 在Cr12钢基体上用PCVD法沉积TiN涂层后,再进行热处理强化基体的研究。结果表明,热处理后,PCVDTiN涂层的显微硬度略有提高。X射线衍射分析表明,经过热处理后,PCVDTiN涂层的晶体结构更趋于完整,其晶面间距也更接近或达到TiN晶面间距的标准值。同时,PCVDTiN涂层的致密性有所增加,其(200)晶面织构有所增强。而且,经过热处理后PCVDTiN涂层与基体结合良好。 展开更多
关键词 工具钢 涂层 pvcd TIN涂层 热处理
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用PCVD法制备抗高温氧化涂层的研究 被引量:1
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作者 彭红瑞 石玉龙 +1 位作者 谢广文 赵程 《青岛化工学院学报(自然科学版)》 1999年第3期245-247,共3页
研究了用PCVD法所制备的TiN,TiA1N及TiSiN硬质涂层的抗高温氧化性及TiN涂层在双氧水介质中的抗氧化性。结果表明,TiA1N,TiSiN涂层在空气中的抗高温氧化性可达700℃以上, TiN涂层可达600℃... 研究了用PCVD法所制备的TiN,TiA1N及TiSiN硬质涂层的抗高温氧化性及TiN涂层在双氧水介质中的抗氧化性。结果表明,TiA1N,TiSiN涂层在空气中的抗高温氧化性可达700℃以上, TiN涂层可达600℃。在双氧水介质中, PCVD-TiN涂层仍具有较强的抗氧化能力, 且优于PVD-TiN 展开更多
关键词 氮化钛 涂层 高温 pvcd 沉积 金属 合金钢
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超高温轴承套圈的PCVD处理
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作者 李建华 阮兴发 董朝晖 《轴承》 北大核心 1999年第4期10-11,23,共3页
关键词 轴承 高温氧化 pvcd 轴承套圈
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石英光纤紫外传输性能的研究 被引量:3
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作者 张树强 涂峰 刘德明 《光通信研究》 北大核心 2010年第5期30-32,共3页
对石英光纤紫外传输特性进行了研究和分析,提出一种石英紫外传输光纤的设计,并利用等离子体化学气相沉积(PCVD)工艺进行了光纤的制备。通过对光纤各项性能的测试和对比分析,总结了在石英光纤中掺杂材料组分对光纤紫外传输性能的影响,为... 对石英光纤紫外传输特性进行了研究和分析,提出一种石英紫外传输光纤的设计,并利用等离子体化学气相沉积(PCVD)工艺进行了光纤的制备。通过对光纤各项性能的测试和对比分析,总结了在石英光纤中掺杂材料组分对光纤紫外传输性能的影响,为研究高性能的石英系紫外传输光纤提供了依据。 展开更多
关键词 石英光纤 紫外传输 等离子体化学气相沉积
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一种旋转阳极PCVD炉设计
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作者 刘军海 陆明珠 苏启生 《表面技术》 EI CAS CSCD 1997年第3期26-27,共2页
根据当前等离子体化学气相沉积(PVCD)炉所存在的电场及供气分布不均等问题,提出了一种新的设计方案。其特征在于真空室内的阳极筒由控制电机通过传动机构带动旋转,反应气体通过旋转的气流分配系统导入真空室;本设计的预期效果是在进行P... 根据当前等离子体化学气相沉积(PVCD)炉所存在的电场及供气分布不均等问题,提出了一种新的设计方案。其特征在于真空室内的阳极筒由控制电机通过传动机构带动旋转,反应气体通过旋转的气流分配系统导入真空室;本设计的预期效果是在进行PCVD处理时,通过旋转校正阳极筒椭圆度和工作时自身变形所造成的电场分布不均,并能使反应气体在工件大面积内达到均匀分布,以提高表面沉积层的厚度一致性及其致密性。 展开更多
关键词 PCVD 旋转阳极 阳极 金属镀膜炉
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等离子化学气相沉积的各种硬膜的特性和应用
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作者 权仁泽 《国外金属热处理》 1998年第2期13-18,共6页
0 前言 日本“东方工程公司”于1986年独自开发了能批量生产的等离子CVD(PCVD)设备,广泛应用于各种模具的表面处理。利用PCVD法可在低温形成结合性和致密性好的膜。现在这种能批量生产的设备夜间也能进行无人操作的全自动生产。下面介... 0 前言 日本“东方工程公司”于1986年独自开发了能批量生产的等离子CVD(PCVD)设备,广泛应用于各种模具的表面处理。利用PCVD法可在低温形成结合性和致密性好的膜。现在这种能批量生产的设备夜间也能进行无人操作的全自动生产。下面介绍有关用PCVD法制的Ti化合物膜、类金刚石碳化物膜(DLC)等基础膜的特性和最近的应用情况。 展开更多
关键词 pvcd 硬膜 钛化合物膜 DLC膜
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等离子化学气相沉积硬膜技术研究
13
作者 石玉龙 彭红瑞 李世直 《青岛化工学院学报(自然科学版)》 1996年第4期373-378,共6页
用等离子体化学气相沉积(PCVD)技术制备了TIN、TiC、Ti(CN)和(TiSi)N膜及其组合的多层膜。PCVD具有很好的覆盖性,PCVD-TiN具有很好的耐磨、蚀性,膜与基体结合良好,因而用PCVD法在高速钢刀... 用等离子体化学气相沉积(PCVD)技术制备了TIN、TiC、Ti(CN)和(TiSi)N膜及其组合的多层膜。PCVD具有很好的覆盖性,PCVD-TiN具有很好的耐磨、蚀性,膜与基体结合良好,因而用PCVD法在高速钢刀具、模具及轴承上沉积TiN可大大提高其使用寿命。PCVD-TiN和Ti(CN)膜无明显柱状晶,其显微硬度高于TiN亦可用于高速钢刀具、模具上提高其使用寿命。PCVD-(TiSi)N,晶粒细化,氯含量和显微硬度随Si含量而变化,(TiSi)N具有很好的抗高温氧化性。多层膜可调节膜层结构,减少残余应力,提高膜的机械性能。 展开更多
关键词 等离子体 化学气相沉积 镀膜
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工业生产型PCVD法工模具表面强化设备及其应用 被引量:3
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作者 陶冶 张凌云 刘培英 《航空制造工程》 1997年第1期3-6,共4页
介绍了一种新型的用于工业生产的PCVD法工模具表面强化设备。设备的有效容积为φ480mm×800mm,装载量可以达到300kg以上。其中自行设计的内热式加热系统,采用了高压脉冲等离子电源和多路蒸发系统。用该设备可... 介绍了一种新型的用于工业生产的PCVD法工模具表面强化设备。设备的有效容积为φ480mm×800mm,装载量可以达到300kg以上。其中自行设计的内热式加热系统,采用了高压脉冲等离子电源和多路蒸发系统。用该设备可以制备TiN系薄膜和TiSiN、TiAlN等三元系薄膜,批量处理各类金属切削刀具和模具,并且显著提高工模具的使用寿命。还介绍了有关的工艺技术和设备技术。 展开更多
关键词 pvcd设备 表面强化 刀具 模具
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