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Highly conductive and corrosion-resistant NbN coatings on Ti bipolar plate for proton exchange membrane water electrolysis 被引量:3
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作者 Wenqian Sun Yuanjiang Lv +3 位作者 Jianping Gao Qing Feng Bo Jia Fei Ma 《Journal of Materials Science & Technology》 2025年第7期86-96,共11页
Proton exchange membrane water electrolysis(PEMWE)is one of the most promising strategies to pro-duce green hydrogen energy,and it is crucial to exploit highly conductive and good corrosion-resistant coatings on bipol... Proton exchange membrane water electrolysis(PEMWE)is one of the most promising strategies to pro-duce green hydrogen energy,and it is crucial to exploit highly conductive and good corrosion-resistant coatings on bipolar plates(BPs),one of the core components in PEMWE cells.In this work,NbN coatings are deposited on Ti BPs by magnetron sputtering to improve the corrosion resistance and conductivity,for which the critical process parameters,such as the working pressure,partial nitrogen pressure and de-position temperature are well optimized.It is found that the compact microstructure,highly conductive δ-NbN and uniform nanoparticles play a dominant role in the synergistic improvement of the corrosion resistance and electrical conductivity of NbN coatings.The optimized NbN coatings exhibit excellent cor-rosion resistance with the low corrosion current density of 1.1×10^(-8) A cm^(-2),a high potential value of-0.005 V vs.SCE and a low ICR value of 15.8 mΩcm2@1.5 MPa.Accordingly,NbN coatings can be a promising candidate for the development of the low-cost and high-anti-corrosion Ti BPs of PEMWE. 展开更多
关键词 nbn coating Corrosion resistance Bipolar plates PEMWE
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nBn型InAs/GaSb Ⅱ类超晶格红外探测器光电特性研究 被引量:6
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作者 胡锐 邓功荣 +5 位作者 张卫锋 何雯谨 冯江敏 袁俊 莫镜辉 史衍丽 《红外技术》 CSCD 北大核心 2014年第11期863-867,共5页
设计了nBn结构的InAs/GaSb II类超晶格红外探测器,从理论和实验两方面对nBn器件的暗电流特性进行了研究,研究结果表明:理论计算的暗电流和实际测试结果趋势一致。另外,研制了p-i-n结构器件并与nBn器件进行了比较,测试结果显示:在77 K温... 设计了nBn结构的InAs/GaSb II类超晶格红外探测器,从理论和实验两方面对nBn器件的暗电流特性进行了研究,研究结果表明:理论计算的暗电流和实际测试结果趋势一致。另外,研制了p-i-n结构器件并与nBn器件进行了比较,测试结果显示:在77 K温度下,nBn器件的暗电流要比p-i-n器件暗电流小2个量级。温度升高到150 K时,nBn器件暗电流变大2个量级,而p-i-n器件暗电流变大4个量级;nBn器件峰值探测率下降到1/5,p-i-n器件峰值探测率下降2个量级。可见nBn器件适合高温工作,适合高性能红外焦平面探测器的研制。 展开更多
关键词 nbn 超晶格 INAS/GASB 暗电流 Shockley-Read-Hall
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TiN/NbN纳米多层薄膜的交变应力场和超硬效应 被引量:6
3
作者 赖倩茜 虞晓江 +2 位作者 戴嘉维 李戈扬 宁兆元 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2002年第4期313-316,共4页
为了研究纳米多层薄膜的超硬效应 ,采用反应溅射法制备从 1 4nm至 2 7nm不同调制周期的一系列TiN/NbN纳米多层膜。高分辨电子显微镜对薄膜的调制结构和界面生长方式的观察发现 ,TiN/NbN膜具有很好的调制结构 ,并呈现以面心立方晶体结构... 为了研究纳米多层薄膜的超硬效应 ,采用反应溅射法制备从 1 4nm至 2 7nm不同调制周期的一系列TiN/NbN纳米多层膜。高分辨电子显微镜对薄膜的调制结构和界面生长方式的观察发现 ,TiN/NbN膜具有很好的调制结构 ,并呈现以面心立方晶体结构穿过调制界面外延生长的多晶超晶格结构特征。显微硬度测量表明 ,TiN/NbN纳米多层膜存在随调制周期变化的超硬效应。薄膜在调制周期为 8 3nm时达到HK39 0GPa的最高硬度。分析认为 ,两种不同晶格常数的晶体外延生长形成的交变应力场 ,对材料有强化作用 。 展开更多
关键词 纳米多层薄膜 超硬效应 TiN/nbn超晶格薄膜 调制结构 超硬度 交变应力场 氮化钛 氮化铌
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N_2分压对磁控溅射NbN薄膜微结构与力学性能的影响 被引量:5
4
作者 韩增虎 胡晓萍 +2 位作者 田家万 李戈扬 顾明元 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期120-124,共5页
采用反应磁控溅射法在不同的氮分压下制备了一系列NbN薄膜.用XRD和TEM表征了薄膜的相组成和微观结构,力学探针测量了薄膜的硬度和弹性模量,AFM观察了薄膜的表面形貌并测量了压痕尺寸以校验硬度值的准确性.研究了氮分压对薄膜相组成、微... 采用反应磁控溅射法在不同的氮分压下制备了一系列NbN薄膜.用XRD和TEM表征了薄膜的相组成和微观结构,力学探针测量了薄膜的硬度和弹性模量,AFM观察了薄膜的表面形貌并测量了压痕尺寸以校验硬度值的准确性.研究了氮分压对薄膜相组成、微结构和力学性能的影响.结果表明,氮分压对薄膜的沉积速率、相组成、硬度和弹性模量均有明显的影响:低氮分压下,薄膜的沉积速率较高,制备的薄膜样品为六方β-Nb2N和立方δ-NbN两相结构;随氮分压的升高,薄膜形成δ-NbN单相组织,相应地,薄膜获得最高的硬度(36.6GPa)和弹性模量(457GPa);进一步升高氮分压,获得的薄膜为δ-NbN和六方ε-NbN的两相组织,其硬度和模量亦有所降低. 展开更多
关键词 nbn薄膜 微结构 力学性能 磁控溅射
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TiN/NbN纳米多层膜的微结构与超硬度效应 被引量:4
5
作者 李戈扬 赖倩茜 +1 位作者 虞晓江 顾明元 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第5期730-732,共3页
采用反应溅射法制备了一系列不同调制周期的 Ti N/Nb N纳米多层膜 ,并使用 X射线衍射分析 ( XRD)、透射电子显微镜 ( TEM)和显微硬度计表征了薄膜的调制结构、界面结构和显微硬度 .结果表明 :Ti N/Nb N多层膜具有周期性良好的调制结构 ... 采用反应溅射法制备了一系列不同调制周期的 Ti N/Nb N纳米多层膜 ,并使用 X射线衍射分析 ( XRD)、透射电子显微镜 ( TEM)和显微硬度计表征了薄膜的调制结构、界面结构和显微硬度 .结果表明 :Ti N/Nb N多层膜具有周期性良好的调制结构 ,调制界面清晰、平直 ;薄膜呈现为多晶外延生长的面心立方结构 ;薄膜硬度出现异常升高的超硬度效应 ,并在调制周期为 8.3nm左右达到硬度峰值 ( HK  3 9.0  GPa) 展开更多
关键词 TiN/nbn纳米多层膜 调制结构 超硬度效应
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NbN/TaN纳米多层膜的微结构及超高硬度效应 被引量:3
6
作者 许俊华 李戈扬 顾明元 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期561-564,共4页
用磁控反应溅射的方法在不锈钢基片上制备了NbN/TaN纳米多层薄膜,试验采用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)及显微硬度仪对薄膜的微结构和硬度进行分析,结果表明:在NbN/TaN多层膜中,NbN层为面心晶体结构,TaN层为六方... 用磁控反应溅射的方法在不锈钢基片上制备了NbN/TaN纳米多层薄膜,试验采用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)及显微硬度仪对薄膜的微结构和硬度进行分析,结果表明:在NbN/TaN多层膜中,NbN层为面心晶体结构,TaN层为六方晶体结构;NbN/TaN纳米多层膜存在超硬效应,在调制周期2.3~170nm这一放宽的范围内保持超高硬度,硬度最大值HK达51. 展开更多
关键词 nbn TAN 纳米多层膜 微结构 超硬效应 陶瓷
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Nbn基因对小鼠海马神经元发育的影响 被引量:2
7
作者 张莉 张蕊 郭敏 《西安交通大学学报(医学版)》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期47-49,共3页
目的观察Nbn基因神经特异性敲除(Nbn-CNS-del)小鼠海马神经元发育的形态学变化,探讨Nbn基因在小鼠海马神经元发育中的作用。方法采用成熟神经元标记物NeuN,应用HE染色、免疫组织化学技术结合体视学方法,对生后(P)7、14、21 d的Nbn-CNS-... 目的观察Nbn基因神经特异性敲除(Nbn-CNS-del)小鼠海马神经元发育的形态学变化,探讨Nbn基因在小鼠海马神经元发育中的作用。方法采用成熟神经元标记物NeuN,应用HE染色、免疫组织化学技术结合体视学方法,对生后(P)7、14、21 d的Nbn-CNS-del小鼠海马神经元的发育进行系统观察和定量分析,以非基因敲除(Nbn-CNS-ctr)仔鼠为对照组。结果 P7~P21 d,与对照组相比,Nbn-CNS-del小鼠海马发育迟缓,分子层、颗粒细胞层/锥体细胞层及多形层的截面积均减小(P<0.01);颗粒细胞层/锥体细胞层NeuN阳性细胞面数密度也均明显减少(P<0.01)。结论 Nbn-CNS-del小鼠海马神经元发育迟缓,Nbn基因可能是海马神经元发育中的重要基因。 展开更多
关键词 nbn基因 海马 神经元 发育 小鼠
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Nbn基因对出生后小鼠海马发育的影响 被引量:2
8
作者 王堃 张蕊 郭敏 《西安交通大学学报(医学版)》 CAS CSCD 北大核心 2009年第5期536-539,共4页
目的通过观察神经特异性Nbn基因敲除(Nbn-CNS-Del)和对照(Nbn-CNS-Ctr)小鼠海马发育的形态学变化,探讨DNA损伤修复基因Nbn在生后小鼠海马发育过程中的作用。方法应用光镜连续切片和体视学方法对生后(postnatal day,P)7、14、21 d的实验... 目的通过观察神经特异性Nbn基因敲除(Nbn-CNS-Del)和对照(Nbn-CNS-Ctr)小鼠海马发育的形态学变化,探讨DNA损伤修复基因Nbn在生后小鼠海马发育过程中的作用。方法应用光镜连续切片和体视学方法对生后(postnatal day,P)7、14、21 d的实验组和对照组小鼠海马进行系统地形态学观察和定量分析。结果Nbn-CNS-Del小鼠海马发育比Nbn-CNS-Ctr明显滞后,至P21 d椎体层和齿状回(DG)颗粒层的截面面积均减小(P<0.05),DG颗粒层和多形层及CA4区的体密度差异均有统计学意义(P<0.05)。结论DNA损伤修复基因Nbn是小鼠海马发育的一个重要基因,影响小鼠海马椎体层成熟和DG颗粒细胞的发育与成熟。 展开更多
关键词 nbn 小鼠 海马发育 体视学
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TaN/NbN纳米多层膜的力学性能与耐磨性 被引量:5
9
作者 李戈扬 虞晓江 +2 位作者 吴桢干 许俊华 顾明元 《真空科学与技术》 EI CSCD 北大核心 2002年第1期1-4,共4页
采用反应溅射在多靶溅射仪上制备了调制周期小于 73 .2nm的一系列TaN/NbN纳米多层膜和TaN ,NbN单层薄膜 ,并采用透射电子显微镜、显微硬度计和凹坑研磨仪研究了薄膜的微结构、力学性能和耐磨性。结果表明 ,具有成分周期变化的TaN/NbN纳... 采用反应溅射在多靶溅射仪上制备了调制周期小于 73 .2nm的一系列TaN/NbN纳米多层膜和TaN ,NbN单层薄膜 ,并采用透射电子显微镜、显微硬度计和凹坑研磨仪研究了薄膜的微结构、力学性能和耐磨性。结果表明 ,具有成分周期变化的TaN/NbN纳米多层膜在其调制周期为 2 3~ 17 0nm范围内产生硬度异常升高的超硬效应 ,最高硬度达到HK 5 1 0GPa ;磨损实验表明 ,TaN/NbN纳米多层膜耐磨性远高于TaN和NbN单层膜 ,其主要原因是调制结构中大量界面的存在 ,提高了薄膜的韧性。 展开更多
关键词 氮化钽 氮化铌 TaN/nbn纳米多层膜 超硬效应 耐磨性 微结构 力学性能 金属材料 表面处理 陶瓷薄膜
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Nbn基因对生后小鼠海马颗粒细胞发育的影响 被引量:4
10
作者 张蕊 郭敏 《解放军医学杂志》 CAS CSCD 北大核心 2009年第3期300-302,306,共4页
目的通过观察神经特异性Nbn基因敲除(Nbn-CNS-Del)组和对照(Nbn-CNS-Ctr)组小鼠海马发育的形态学变化,探讨DNA损伤修复基因Nbn在生后小鼠海马颗粒细胞发育过程中的作用。方法应用光镜连续切片、免疫组织化学技术和体视学方法对生后(post... 目的通过观察神经特异性Nbn基因敲除(Nbn-CNS-Del)组和对照(Nbn-CNS-Ctr)组小鼠海马发育的形态学变化,探讨DNA损伤修复基因Nbn在生后小鼠海马颗粒细胞发育过程中的作用。方法应用光镜连续切片、免疫组织化学技术和体视学方法对生后(postnatal day,P)7、14、21d的Nbn-CNS-Del组和Nbn-CNS-Ctr组小鼠海马颗粒细胞进行系统的形态学观察和定量分析。结果P7~P21d,Nbn-CNS-Ctr小鼠海马颗粒细胞层颗粒细胞均呈"C"形结构,截面面积逐渐增加,伴有颗粒细胞胞体的逐渐增大;颗粒细胞层内臂细胞的发育在P7d左右出现,P7~P14d变化最明显。Nbn-CNS-Del组P7~P21d海马颗粒细胞层的颗粒细胞的"C"形结构在绝大多数组织标本上都可以观察到,但分布较松散;Nbn-CNS-Del组小鼠海马颗粒细胞层发育比Nbn-CNS-Ctr组明显滞后,各时间段的截面面积均减小(P<0.01),NEUN染色阳性的海马颗粒细胞面数密度值在各时间段均有差异。结论DNA损伤修复基因Nbn是小鼠海马颗粒细胞发育的一个重要基因,影响小鼠海马颗粒细胞层的发育与成熟。 展开更多
关键词 基因 nbn 小鼠 海马 颗粒细胞 体视学
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高功率调制脉冲磁控溅射沉积NbN涂层特征工艺参数研究 被引量:4
11
作者 李玉阁 袁海 +1 位作者 蒋智韬 雷明凯 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第8期302-308,共7页
目的研究不施加基片温度和固定Ar/N2流量比为64/16的条件下,微脉冲占空比、充电电压特征工艺参数与负偏压对NbN涂层相组成、微结构和力学性能的影响。方法采用高功率调制脉冲磁控溅射技术(MPPMS),通过控制微脉冲占空比、充电电压和负偏... 目的研究不施加基片温度和固定Ar/N2流量比为64/16的条件下,微脉冲占空比、充电电压特征工艺参数与负偏压对NbN涂层相组成、微结构和力学性能的影响。方法采用高功率调制脉冲磁控溅射技术(MPPMS),通过控制微脉冲占空比、充电电压和负偏压等特征工艺参数,沉积一系列具有不同相组成的NbN涂层,通过X射线衍射仪、纳米压痕仪和维氏硬度计,分别表征NbN涂层的相组成、结构、硬度和韧性,并通过扫描电子显微镜(SEM)对NbN生长形貌和压痕形貌进行观察分析。结果改变微脉冲占空比和充电电压,所有NbN涂层均由δ-NbN和δ.-NbN组成,施加基片偏压后,NbN涂层主要由δ.-NbN组成。所有的NbN涂层均呈现致密柱状晶结构,且提高微脉冲占空比、充电电压和负偏压,制备的NbN涂层均更加致密。随微脉冲占空比升高,涂层硬度由25GPa增至36GPa,涂层的韧性逐渐增加。提高充电电压制备的NbN涂层,其表现出与控制微脉冲占空比制备的涂层相似的规律。施加负偏压后,涂层主要由δ.-NbN组成,涂层的硬度和韧性均下降。结论两相结构和高致密性是使NbN涂层硬度和韧性同时增强的主要因素。 展开更多
关键词 nbn涂层 高功率调制脉冲磁控溅射 相组成 硬度 韧性
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Sb基nBn型红外探测器发展现状 被引量:2
12
作者 刘铭 闻娟 +1 位作者 周朋 周立庆 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2017年第12期1461-1467,共7页
nBn结构红外探测器具有可消除SRH产生-复合电流和表面复合电流,实现高温工作等优点,从提出就备受全球多个研究机构青睐,并已经得到组件验证。锑基nBn结构红外探测器发展尤其迅速,已经在技术上得到突破,部分产品已经获得应用,红外探测器... nBn结构红外探测器具有可消除SRH产生-复合电流和表面复合电流,实现高温工作等优点,从提出就备受全球多个研究机构青睐,并已经得到组件验证。锑基nBn结构红外探测器发展尤其迅速,已经在技术上得到突破,部分产品已经获得应用,红外探测器组件最高工作温度达150 K以上。本文从nBn结构锑基红外探测器工作原理、结构优势和国外发展现状等方面对该研究方向进行了综述报道,为高工作温度、高性能红外焦平面探测器发展提供了较好方向。 展开更多
关键词 nbn结构 红外探测器 高温工作温度 暗电流
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分子束外延HgCdTe nBn结构红外探测器的理论计算和优化 被引量:1
13
作者 沈川 陈路 +3 位作者 傅祥良 王伟强 卜顺栋 何力 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第3期271-274,293,共5页
通过2维数值模拟对HgCdTe nBn红外探测器的光电性质进行了研究.理论计算了nBn结构中各层的参数的变化(包含厚度的变化、掺杂浓度的变化以及组分)对器件性能的影响规律.通过优化上述器件结构参数,理论上获得了最优化结构的HgCdTe nBn器件... 通过2维数值模拟对HgCdTe nBn红外探测器的光电性质进行了研究.理论计算了nBn结构中各层的参数的变化(包含厚度的变化、掺杂浓度的变化以及组分)对器件性能的影响规律.通过优化上述器件结构参数,理论上获得了最优化结构的HgCdTe nBn器件,为获得高性能MBE外延HgCdTe nBn红外探测器提供重要参考. 展开更多
关键词 分子束外延 HGCDTE nbn结构 数值模拟
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0.3%V改型07Cr25Ni21NbN奥氏体耐热钢热变形行为 被引量:4
14
作者 王敬忠 刘阿娇 +1 位作者 庞玉华 包汉生 《钢铁研究学报》 CAS CSCD 北大核心 2018年第5期379-385,共7页
采用Gleeble3800热模拟试验机,研究了0.3%V改型07Cr25Ni21NbN试验钢在930~1 230℃、0.005~5s^(-1)条件下的热变形行为。利用金相显微镜观察了试验钢微观组织随热加工条件的变化。分析了试验钢的流变应力曲线,得到其热形变激活能为571k... 采用Gleeble3800热模拟试验机,研究了0.3%V改型07Cr25Ni21NbN试验钢在930~1 230℃、0.005~5s^(-1)条件下的热变形行为。利用金相显微镜观察了试验钢微观组织随热加工条件的变化。分析了试验钢的流变应力曲线,得到其热形变激活能为571kJ/mol。真应变分别为0.4和0.8条件下,建立了试验钢的热加工图,发现真应变为0.8的热加工图上有3个耗散功峰值区域的边界。变形温度为1 230℃,变形速率从0.005到5s^(-1)时,试验钢的微观组织由粗大的锯齿晶粒过渡到较细小的等轴晶粒。当变形速率为0.5s^(-1)时,变形温度从930℃提高到1 230℃时,微观组织由等轴组织、部分动态再结晶组织过渡到流变失稳组织。 展开更多
关键词 改型07Cr25Ni21nbn 热变形 本构方程 热加工图 微观组织
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NbN沉积膜的抗腐蚀特性研究 被引量:2
15
作者 李永良 宋教花 张涛 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2002年第5期395-398,共4页
利用磁过滤等离子体沉积技术在单晶Si和碳钢衬底上生长一层NbN沉积膜 ,用XPS ,XRD和SEM对膜层进行测量和分析 ,结果表明 ,沉积膜为δ NbN ,沉积膜的质量与样品的衬底温度有关 ,衬底温度越高 ,生成的膜越致密 ,膜的表面越平整光滑。多次... 利用磁过滤等离子体沉积技术在单晶Si和碳钢衬底上生长一层NbN沉积膜 ,用XPS ,XRD和SEM对膜层进行测量和分析 ,结果表明 ,沉积膜为δ NbN ,沉积膜的质量与样品的衬底温度有关 ,衬底温度越高 ,生成的膜越致密 ,膜的表面越平整光滑。多次循环阳极极化扫描曲线测量表明 ,沉积膜样品的致钝电流密度 (Ip)较碳钢降低 (1~ 2 )个数量级 ,抗腐蚀性能大幅度提高。 展开更多
关键词 VAPD nbn 沉积膜 抗腐蚀性 等离子体沉积 氮化铌
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NbN薄膜的反应磁控溅射沉积 被引量:2
16
作者 韩增虎 赖倩茜 +1 位作者 田家万 李戈扬 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第5期641-642,共2页
关键词 nbn薄膜 反应磁控溅射沉积 氮分压 微结构 力学性能 TEM XRD
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激光熔覆原位合成NbN及Nb-Al金属间化合物复合涂层 被引量:2
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作者 张杰 郑荣部 +1 位作者 张政 闫华 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2015年第14期207-209,213,共4页
以Nb、AlN和Ni粉为原料,在不锈钢表面采用激光熔覆技术制备了NbN增强Ni基复合涂层。利用X射线衍射仪、扫描电镜和能谱仪对复合涂层的显微组织进行了分析,利用显微硬度计和摩擦磨损试验机,对复合涂层的相关性能进行了测试和分析。结果表... 以Nb、AlN和Ni粉为原料,在不锈钢表面采用激光熔覆技术制备了NbN增强Ni基复合涂层。利用X射线衍射仪、扫描电镜和能谱仪对复合涂层的显微组织进行了分析,利用显微硬度计和摩擦磨损试验机,对复合涂层的相关性能进行了测试和分析。结果表明,NbN呈不规则条状、块状分布,涂层硬度较高,且在室温干滑动磨损试验条件下涂层具有良好的耐磨性能。 展开更多
关键词 激光熔覆 原位合成 nbn 耐磨性
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溅射方式对NbN薄膜结构及热稳定性的影响 被引量:1
18
作者 张宏森 丁明惠 +1 位作者 张丽丽 蒋保江 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第3期458-462,共5页
用射频磁控溅射和直流磁控溅射的方法分别在Si(100)衬底和Cu膜间制备了30nm的NbN薄膜,Cu/NbN/Si样品在高纯氮气保护下退火至700℃。用四探针电阻测试仪(FPP)、AFM、SEM、XRD、AES研究了溅射方式对NbN薄膜扩散阻挡性能的影响。退火前XRD... 用射频磁控溅射和直流磁控溅射的方法分别在Si(100)衬底和Cu膜间制备了30nm的NbN薄膜,Cu/NbN/Si样品在高纯氮气保护下退火至700℃。用四探针电阻测试仪(FPP)、AFM、SEM、XRD、AES研究了溅射方式对NbN薄膜扩散阻挡性能的影响。退火前XRD结果表明,直流溅射制备的NbN薄膜为典型的晶态结构,射频溅射制备的薄膜为典型的非晶态结构。高温退火后的XRD、SEM、FPP、AES研究结果表明非晶态结构的NbN薄膜有更好的扩散阻挡性能,700℃时仍能很好地阻挡Cu原子的扩散。 展开更多
关键词 nbn薄膜 扩散阻挡层 CU互连 磁控溅射
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nBn型InAsSb探测器的材料及器件研究 被引量:3
19
作者 周朋 温涛 +1 位作者 邢伟荣 刘铭 《红外》 CAS 2019年第11期7-12,共6页
nBn型红外探测器可有效抑制产生-复合电流,进而提高探测器的工作温度。由于制备工艺可移植于Ⅲ/Ⅴ族成熟工艺以及存在晶格完全匹配的衬底等优势,InAsSb/AlAsSb材料是nBn型红外探测器的首选。简单介绍了InAsSb/AlAsSb nBn型红外探测器的... nBn型红外探测器可有效抑制产生-复合电流,进而提高探测器的工作温度。由于制备工艺可移植于Ⅲ/Ⅴ族成熟工艺以及存在晶格完全匹配的衬底等优势,InAsSb/AlAsSb材料是nBn型红外探测器的首选。简单介绍了InAsSb/AlAsSb nBn型红外探测器的研究现状、工作原理以及近期的研究成果。通过生长试验实现了良好的材料表面质量、晶体质量和光学性能。相关结果表明,在制备器件时,nBn结构中势垒层的掺杂浓度不应低于8×10^16 cm^-3,否则就不利于减小nBn型器件的暗电流。 展开更多
关键词 nbn结构 INASSB 高工作温度 暗电流
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