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银膜厚度对ITO-Ag-ITO-Glass玻璃性能的影响
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作者 赵芳红 吴云龙 +1 位作者 成惠峰 谭欢 《武汉理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第22期182-184,195,共4页
采用射频磁控溅射和直流溅射方法在玻璃基片上低温制备ITO-Ag-ITO薄膜,测试了玻璃的透光度、方块电阻、电阻率,观察了因镀制Ag的膜层的时间的不同而引起的各项参数的变化规律,结果表明:随着Ag膜厚度的增加,试样的透过率急剧的下降;方块... 采用射频磁控溅射和直流溅射方法在玻璃基片上低温制备ITO-Ag-ITO薄膜,测试了玻璃的透光度、方块电阻、电阻率,观察了因镀制Ag的膜层的时间的不同而引起的各项参数的变化规律,结果表明:随着Ag膜厚度的增加,试样的透过率急剧的下降;方块电阻开始降低的很快,但随着薄膜厚度的增加,电阻数值下降逐渐趋于缓慢;Ag膜的电阻率也随着厚度的增加而逐渐的降低。 展开更多
关键词 ITO-Ag-ito-glass Ag膜厚度 透过率 方块电阻 电阻率
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草酸-草酸盐浸出废弃ITO玻璃中铟的机理与浸铟条件的优化
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作者 牛鹏宇 党晓娥 +1 位作者 王碧侠 刘成鹏 《有色金属(中英文)》 北大核心 2025年第5期796-805,共10页
为了解决火法和无机酸法对废弃ITO玻璃粉末中铟锡分离效果差以及草酸法对铟浸出率较低的问题,提出采用草酸-草酸盐A浸出分离ITO玻璃粉末中的铟和锡,并采用响应面法对铟的浸出条件进行优化,建立预测铟的浸出率回归模型,确定浸出液中铟的... 为了解决火法和无机酸法对废弃ITO玻璃粉末中铟锡分离效果差以及草酸法对铟浸出率较低的问题,提出采用草酸-草酸盐A浸出分离ITO玻璃粉末中的铟和锡,并采用响应面法对铟的浸出条件进行优化,建立预测铟的浸出率回归模型,确定浸出液中铟的存在形式,探索水解法回收铟的可行性。结果表明,草酸-草酸盐A浸出铟的优化条件为:c(C_(2)O_(4)^(2-))_(TOT)为0.09 mol/L,n(H_(2)C_(2)O_(4))∶n(A)为0.988∶1,液固比6.5 m L/g。在该条件下,铟的浸出率预测值和实验值分别为96.51%和97.69%,锡的浸出率仅为2.18%,铟锡分离效果较好。浸出液中的铟以In(C_(2)O_(4))_(3)^(3-)和In(C_(2)O_(4))_(2)^(2-)形式存在,可溶锡以Sn^(2+)和SnOH^(+)形式进入浸出液,且可采用水解法分离浸出液中的铟和锡,铟以In(OH)_(3)形式沉淀析出,锡留于浸出液。研究结果证明,采用草酸-草酸盐A浸出-浸出液水解工艺能提高铟的浸出率和铟锡的分离效果,解决了现有火法和湿法分离铟锡过程存在的技术缺陷。 展开更多
关键词 废弃ITO玻璃粉末 响应曲面法 优化 草酸 浸出 水解
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微流控芯片系统中测温及控温装置的研制 被引量:6
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作者 戴敬 樊晓峰 +1 位作者 方瑾 徐章润 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期148-152,共5页
报道了一种结构简单、成本低、操作方便、应用于微流控芯片系统中温度测量及温度控制的装置。该系统以CCD摄像机、荧光显微镜及图像采集卡构成的非接触荧光指示剂测温装置,实现了微流体空间温度分布测量以及随时间变化的温度测量。提出... 报道了一种结构简单、成本低、操作方便、应用于微流控芯片系统中温度测量及温度控制的装置。该系统以CCD摄像机、荧光显微镜及图像采集卡构成的非接触荧光指示剂测温装置,实现了微流体空间温度分布测量以及随时间变化的温度测量。提出了以透明氧化铟锡薄膜玻璃作为加热元件,采用PID控制算法的温度控制平台,稳态时温度控制精度可达到±0.1℃。采用该测温和控温装置研究了玻璃微流控芯片微通道内溶液温度在空间上和随时间的变化情况,结果表明该方法简单、有效,可达到μm级的空间分辨率和ms级的时间分辨率。 展开更多
关键词 温度测量 温度控制 ITO薄膜玻璃 微流控芯片系统
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透明导电玻璃(ITO)基材自加热传感静态芯片聚合酶链反应(PCR) 被引量:3
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作者 吴志勇 田晓溪 +2 位作者 渠柏艳 陈坤 方芳 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第12期2259-2263,共5页
利用商品化ITO玻璃导电层的温阻效应,无需任何微加工手段,实现了自加热和传感的芯片温度自动程序控制,最大程度地减小了传感滞后对温度控制稳定性的影响,温度控制的稳定性达到了0.2℃,升温速度最快可达20℃/s以上,在冷却风扇辅助下降温... 利用商品化ITO玻璃导电层的温阻效应,无需任何微加工手段,实现了自加热和传感的芯片温度自动程序控制,最大程度地减小了传感滞后对温度控制稳定性的影响,温度控制的稳定性达到了0.2℃,升温速度最快可达20℃/s以上,在冷却风扇辅助下降温速度最快达到了8℃/s.芯片温控单元的引线从传统的两对(一对用于传感,一对用于加热)减少为一对.通过在该芯片上直接构建多个开放微池反应器的方法成功地实现了λDNA 157 bp片段的并行扩增.将该芯片置于倒置荧光显微镜样品台上,以蓝色(575 nm)发光二极管为光源,以光电倍增管为检测手段检测了dsDNA和SYBR GreenⅠ嵌合物的荧光强度随温度的实时变化曲线. 展开更多
关键词 氧化铟锡(ITO)玻璃 自加热传感温控 静态芯片聚合酶链反应 原位实时荧光监测 发光二极管
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电容触摸屏ITO消影膜的设计与制备 被引量:5
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作者 黄翀 李成 +2 位作者 杨玮枫 欧阳艳东 吴永俊 《光电子技术》 北大核心 2014年第4期269-272,277,共5页
设计光学薄膜改善ITO图案,匹配出各个膜层合适的物理厚度,采用直流磁控溅射和双靶中频反应磁控溅射制备ITO消影膜。经过对样品的测试和实际效果对比,证明了所设计的ITO消影膜不仅能有效改善ITO图案明显的问题,在可见光范围内还可以使透... 设计光学薄膜改善ITO图案,匹配出各个膜层合适的物理厚度,采用直流磁控溅射和双靶中频反应磁控溅射制备ITO消影膜。经过对样品的测试和实际效果对比,证明了所设计的ITO消影膜不仅能有效改善ITO图案明显的问题,在可见光范围内还可以使透过率变均匀,提高显示效果。 展开更多
关键词 ITO玻璃 反射率 消影膜 Nb2O5|SiO2光学薄膜
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ITO玻璃电致化学发光微流控芯片的低温键合 被引量:2
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作者 祁娜 罗怡 杨帆 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2007年第4期331-334,共4页
研究了一种利用商品化的氧化铟锡ITO)玻璃制作一次性电致化学发光微流控芯片的方法.采用光刻和湿法腐蚀ITO(氧化铟锡)层制作微电极;利用同样的方法,在另一片Cr板玻璃上湿法腐蚀微沟道.在玻璃之间夹入PE薄膜作为间质实现芯片的低... 研究了一种利用商品化的氧化铟锡ITO)玻璃制作一次性电致化学发光微流控芯片的方法.采用光刻和湿法腐蚀ITO(氧化铟锡)层制作微电极;利用同样的方法,在另一片Cr板玻璃上湿法腐蚀微沟道.在玻璃之间夹入PE薄膜作为间质实现芯片的低温键合,采用开孔和预压处理PE薄膜,解决了键合气泡和储液池边缘变形问题.该方法解决了ITO玻璃不耐高温的问题,在120~125℃实现了微通道的有效封接,芯片的键合强度达到0.7MPa. 展开更多
关键词 电致化学发光微流控芯片 氧化铟锡(ITO)玻璃 低温键合
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Cu^+离子注入对ITO薄膜玻璃进行表面改性的研究 被引量:2
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作者 姜妍彦 刘洪珠 +2 位作者 王承遇 刘振民 史维东 《玻璃与搪瓷》 CAS 北大核心 1999年第3期18-21,43,共5页
将透明导电氧化铟锡(ITO)薄膜玻璃注入了Cu+离子进行表面改性。利用四探针、分光光度计、红外反射等设备,测定了注入Cu+离子前后ITO薄膜玻璃的电学、光学、微波衰减和机械性能,得出它们性能的变化规律,并加以分析。结... 将透明导电氧化铟锡(ITO)薄膜玻璃注入了Cu+离子进行表面改性。利用四探针、分光光度计、红外反射等设备,测定了注入Cu+离子前后ITO薄膜玻璃的电学、光学、微波衰减和机械性能,得出它们性能的变化规律,并加以分析。结果表明,Cu+离子注入虽然使电学、光学性能有所降低,但表面硬度显著增加,可应用于对磨损性能要求较高的场合。 展开更多
关键词 薄膜玻璃 离子注入 表面改性 ITO玻璃
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脉冲激光电化学复合加工的试验研究 被引量:2
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作者 张朝阳 秦昌亮 +2 位作者 冯钦玉 印洁 毛卫平 《机械科学与技术》 CSCD 北大核心 2015年第7期1031-1034,共4页
在所构建的激光电化学复合加工系统中,加入透光导电的氧化铟锡(indium tin oxide,ITO)导电玻璃作为工具阴极,使电场分布更加均匀,有利于工件表面形成均匀的钝化膜,保证了激光电化学的高效复合。采用该复合方法在浓度为0.5 mol/L的Na NO... 在所构建的激光电化学复合加工系统中,加入透光导电的氧化铟锡(indium tin oxide,ITO)导电玻璃作为工具阴极,使电场分布更加均匀,有利于工件表面形成均匀的钝化膜,保证了激光电化学的高效复合。采用该复合方法在浓度为0.5 mol/L的Na NO3溶液中对铝合金进行了加工试验,研究了不同的工艺参数对激光电化学定域性的影响。应用扫描电子显微镜、光学显微镜对工件的加工形貌进行检测。结果表明:随着激光的能量、频率、加工电流的增大,槽的宽度变大;随着进给速度的增大,槽的宽度变小。 展开更多
关键词 导电玻璃 铝合金 电化学加工 扫描电子显微镜
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液晶屏ITO玻璃外观检测特殊复合光源照明系统设计 被引量:2
9
作者 徐伟 叶玉堂 +4 位作者 刘霖 刘娟秀 李昌海 姚景昭 叶涵 《电子设计工程》 2012年第24期181-183,187,共4页
针对目前缺少液晶屏ITO玻璃检测设备的现状,结合液晶屏的结构和需要检测的缺陷特征,提出了一种液晶屏ITO玻璃外观检测特殊复合光源照明系统。该系统通过多个LED环形光源和面光源的组合,加以合理的照明角度,有效的得到了高对比度的图像... 针对目前缺少液晶屏ITO玻璃检测设备的现状,结合液晶屏的结构和需要检测的缺陷特征,提出了一种液晶屏ITO玻璃外观检测特殊复合光源照明系统。该系统通过多个LED环形光源和面光源的组合,加以合理的照明角度,有效的得到了高对比度的图像。理论分析及实验结果均表明,该系统能很好的应用于液晶屏ITO玻璃的检测,大大减低算法方面的处理难度,提高检测效率,基于该系统采集到的图像,需要检测的缺陷部分有十分高的区分度,经过基本的图像预处理,就可以将所需检测的缺陷部分完全呈现出来。 展开更多
关键词 ITO玻璃 外观检测 LED光源 二值图像
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ITO Film应用于投射式电容触控面板的趋势分析 被引量:3
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作者 林麟 《现代显示》 2011年第10期22-24,共3页
薄膜式投射电容及玻璃式投射电容是投射电容式触控面板的两种主要技术。当前随着ITOGlass的供不应求,越来越多的厂商投身于ITO Film技术的开发与应用。文章主要介绍了两种投射电容式触控技术的现况、优缺点及未来市场发展趋势。
关键词 投射电容式 触控面板 ito-glass ITO-Film
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除油和蚀刻对ITO导电玻璃化学镀镍的影响 被引量:2
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作者 焦亚萍 项腾飞 +1 位作者 梅天庆 任春春 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2015年第8期35-39,共5页
实验采用碱性除油去除ITO导电玻璃表面的油污,用磷酸溶液进行蚀刻以提高化学镀镍镀层的结合力,以硫酸镍为主盐进行了化学镀镍。研究了除油和蚀刻的工艺条件对镀镍层性能的影响,确定了化学镀镍前处理的最佳工艺参数。结果表明,用碱... 实验采用碱性除油去除ITO导电玻璃表面的油污,用磷酸溶液进行蚀刻以提高化学镀镍镀层的结合力,以硫酸镍为主盐进行了化学镀镍。研究了除油和蚀刻的工艺条件对镀镍层性能的影响,确定了化学镀镍前处理的最佳工艺参数。结果表明,用碱性化学除油液在25~35℃,除油6min,用磷酸溶液在40℃左右,蚀刻3min的条件下进行前处理,所得镀层覆盖率高、选择性优,与基体的结合力良好。 展开更多
关键词 ITO导电玻璃 化学镀镍 前处理 除油 蚀刻
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投射电容屏ITO电路检测用线阵CCD成像系统的设计 被引量:1
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作者 姜长城 全燕鸣 彭艳华 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第11期19-24,共6页
为解决线阵CCD用于投射电容屏氧化铟锡(ITO)电路检测时不易获取高对比度图像的问题,根据明场照明反射成像原理,设计并构建了一套基于最大叠加反射系数差值的同轴照明与成像系统.根据投射电容屏ITO电路与玻璃基板的光学特性及ITO电路的... 为解决线阵CCD用于投射电容屏氧化铟锡(ITO)电路检测时不易获取高对比度图像的问题,根据明场照明反射成像原理,设计并构建了一套基于最大叠加反射系数差值的同轴照明与成像系统.根据投射电容屏ITO电路与玻璃基板的光学特性及ITO电路的几何特征,分析了光源照射及成像方式;根据ITO电路的多层复合结构,分析了影响ITO电路与玻璃基板成像对比度的影响因素;在满足较高生产率的运动速度下,通过对比不同光照亮度下所获取的系列图像,确定了可获得高对比度ITO电路与玻璃基板图像的成像系统工作参数.实验结果表明:检测精度为10μm、ITO基板运动速度为130 mm/s且光照亮度等级为190时,所获图像的灰度直方图具有显著双峰值,易于识别ITO电路缺陷. 展开更多
关键词 图像获取 线阵CCD 氧化铟锡电路 玻璃基板 图像对比度
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负载纳米TiO_2催化光降解有机农药对氧磷 被引量:2
13
作者 谢志美 胡舜钦 刘志国 《株洲工学院学报》 2003年第2期79-81,共3页
研究了废弃的ITO玻璃上负载纳米TiO_2催化光降解水溶液中的对氧成(paraoxon)的效率及其主要影响因素。实验结果表明,用5.0ml异丙酸氢钛制作的负载纳米TiO_2的ITO玻璃,在循环流动体系中,在溶液pH值为10时,用25—瓦的中压汞灯照射0.001M... 研究了废弃的ITO玻璃上负载纳米TiO_2催化光降解水溶液中的对氧成(paraoxon)的效率及其主要影响因素。实验结果表明,用5.0ml异丙酸氢钛制作的负载纳米TiO_2的ITO玻璃,在循环流动体系中,在溶液pH值为10时,用25—瓦的中压汞灯照射0.001M对氧磷溶液15分钟,对氧磷的降解率可达87.5%。 展开更多
关键词 有机农药 负载纳米TIO2 ITO1 催化光降解 对氧磷 残留农药
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基于ITO玻璃-PDMS复合式低电压电泳芯片的快速制备 被引量:1
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作者 廖红华 廖宇 +1 位作者 易金桥 黄勇 《湖北民族学院学报(自然科学版)》 CAS 2009年第3期320-323,共4页
提出了一种基于ITO玻璃-PDMS复合式低电压电泳芯片的快速制备新方法.该方法采用Protel软件绘制低电压电泳芯片沟道的形状,利用电路板加工技术加工沟道模具,并采用PDMS整体浇注方法制备芯片微沟道;采用光刻、湿法刻蚀等微加工技术方法对... 提出了一种基于ITO玻璃-PDMS复合式低电压电泳芯片的快速制备新方法.该方法采用Protel软件绘制低电压电泳芯片沟道的形状,利用电路板加工技术加工沟道模具,并采用PDMS整体浇注方法制备芯片微沟道;采用光刻、湿法刻蚀等微加工技术方法对ITO导电玻璃进行加工,并制备出ITO阵列电极.最后经修饰、封装等工序得到基于ITO玻璃-PDMS复合式低电压电泳芯片.实验表明:采用该方法制备的ITO阵列电极线条清晰,沟道侧壁陡直、表面光滑.同时,采用该方法制备芯片周期短,不需要昂贵的制作设备. 展开更多
关键词 电路板 低电压电泳芯片 快速制备 ITO玻璃-PDMS
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基于ITO玻璃基板的涂胶工艺研究 被引量:1
15
作者 李庆亮 王伟民 +2 位作者 赵晓东 王敏 崔晓改 《电子工艺技术》 2010年第4期237-240,共4页
光刻胶涂布的厚度和均匀性直接影响细微光刻电路图形的精度,对电子产品的集成度和合格率有着极为重要的影响。基于ITO玻璃基板涂胶工艺实验,研究了影响涂胶厚度和涂胶均匀性的各种因素,包括光刻胶黏度、涂胶辊表面结构、胶辊压入量和涂... 光刻胶涂布的厚度和均匀性直接影响细微光刻电路图形的精度,对电子产品的集成度和合格率有着极为重要的影响。基于ITO玻璃基板涂胶工艺实验,研究了影响涂胶厚度和涂胶均匀性的各种因素,包括光刻胶黏度、涂胶辊表面结构、胶辊压入量和涂胶速度等。针对几种常见的典型涂胶缺陷进行了研究分析,并制定了相应的解决对策。 展开更多
关键词 ITO玻璃基板 光刻胶 涂胶厚度 涂胶均匀性 涂胶缺陷
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静电场描绘仪的改进 被引量:10
16
作者 代伟 《大学物理实验》 2011年第3期42-44,共3页
传统的模拟法静电场描绘仪存在的缺陷,针对这些缺陷提出了改进方案。通过实验比较,改进后的描绘仪能很好地模拟描绘静电场,值得推广。
关键词 模拟法 静电场 描绘 ITO膜导电玻璃 改进
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有机太阳能电池ITO电极的光刻制备法及其研究
17
作者 席曦 王振交 +4 位作者 杨辉 乔琦 季静佳 陆红艳 李果华 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A04期1533-1535,共3页
目前有机太阳能电池是光电行业研究的热点之一。通常该器件以ITO为阳极,通过真空蒸镀的方法制作。在对器件进行测试时,ITO电极的设计制作,有利于器件的保护。用光刻技术进行ITO电极的制作,可以得到非常精细的结果。重点阐述了利用... 目前有机太阳能电池是光电行业研究的热点之一。通常该器件以ITO为阳极,通过真空蒸镀的方法制作。在对器件进行测试时,ITO电极的设计制作,有利于器件的保护。用光刻技术进行ITO电极的制作,可以得到非常精细的结果。重点阐述了利用光刻方法制作优良ITO电极的注意点,包括表面清洗、曝光控制、显影控制和腐蚀工艺,其中由于不同ITO玻璃的导电层厚度、各成分含量不同,所以腐蚀工艺的研究是重点中的重点。提供了对生成光刻ITO电极的质量进行准确评价的一种简便方法。 展开更多
关键词 ITO电极 光刻 方块电阻
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透明隔热夹层玻璃涂料的合成及应用 被引量:9
18
作者 廖阳飞 张旭东 +2 位作者 雷贝 曾婷 贺海量 《化学建材》 2009年第2期21-23,共3页
以聚氨酯-丙烯酸酯(PUA)水性树脂为基料,以纳米氧化铟锡(ITO)浆料为颜填料制备水性透明隔热玻璃涂料,并应用于夹层玻璃中,制得隔热夹层玻璃。对其进行了耐环境和力学性能、光学性能及隔热效果的表征。结果表明,所制得的隔热夹层玻璃耐... 以聚氨酯-丙烯酸酯(PUA)水性树脂为基料,以纳米氧化铟锡(ITO)浆料为颜填料制备水性透明隔热玻璃涂料,并应用于夹层玻璃中,制得隔热夹层玻璃。对其进行了耐环境和力学性能、光学性能及隔热效果的表征。结果表明,所制得的隔热夹层玻璃耐辐照、耐热和抗冲击等性能好,不影响普通夹层玻璃原有耐环境性能和力学性能,且具有良好的隔热效果和可见光透射比。当颜基质量比为1∶4时,纳米ITO透明隔热涂料涂层在可见光区(380~780nm)透射比在75%左右,遮阳系数可达0.57,隔热15℃以上。 展开更多
关键词 PUA 水性 ITO 隔热涂料 夹层玻璃
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基底及电解液对TiO_2纳米管阵列形貌的影响
19
作者 杜晶晶 赵军伟 +1 位作者 程晓民 王可胜 《电源技术》 CAS CSCD 北大核心 2017年第3期416-418,共3页
通过中频脉冲磁控溅射的方法在ITO玻璃上沉积出致密的钛薄膜,分别以钛膜和钛箔为基底,在甘油和乙二醇为主的电解液体系中制备出TiO_2纳米管阵列,考察阳极氧化电压对纳米管形貌的影响,采用XRD、FESEM等测试手段对样品的组成、结构及形貌... 通过中频脉冲磁控溅射的方法在ITO玻璃上沉积出致密的钛薄膜,分别以钛膜和钛箔为基底,在甘油和乙二醇为主的电解液体系中制备出TiO_2纳米管阵列,考察阳极氧化电压对纳米管形貌的影响,采用XRD、FESEM等测试手段对样品的组成、结构及形貌等进行表征。结果表明:氧化电压的增加会导致TiO_2纳米管管径和长度的增加,但氧化电压过高会造成钛箔基底TiO_2纳米管的坍塌,而ITO玻璃基钛膜上则会形成纳米深孔结构。 展开更多
关键词 ITO玻璃基钛膜 钛箔 TIO2纳米管阵列 阳极氧化电压
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PDP中ITO膜制作工艺技术的研究 被引量:1
20
作者 张劲涛 范玉锋 雷刚 《真空电子技术》 2005年第6期42-44,50,共4页
概述了ITO的特性和它在PDP显示中所起的作用。通过大量实验摸索了一套适合实验室制作刻蚀ITO膜的工 艺,其中包括涂胶、擦边、曝光、显影、刻蚀等。
关键词 ITO 刻蚀 PDP 玻璃基板
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