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Impact of Surface Passivation on the Electronic Structure and Optical Properties of the Si1-xGex Nanowires 被引量:1
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作者 赖信 张析 +1 位作者 张依兮 向钢 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2015年第2期119-122,共4页
The electronic structures and optical properties of the [llO]-oriented Sil-xGex nanowires (NWs) passivated with different functional groups (-H, -F and-OH) are investigated by using first-principles calculations. ... The electronic structures and optical properties of the [llO]-oriented Sil-xGex nanowires (NWs) passivated with different functional groups (-H, -F and-OH) are investigated by using first-principles calculations. The results show that surface passivation influences the characteristics of electronic band structures significantly: the band gap widths and types (direct or indirect) of the Si1-xGe, NWs with different terminators show complex and robust variations, and the effective masses of the electrons in the NWs can be modulated dramatically by the terminators. The study of optical absorption shows that the main peaks of the parallel polarization component of Si1-x Gex NWs passivated with the functional groups exhibit prominent changes both in height and position, and are red-shifted with respect to those of corresponding pure Si NWs, indicating the importance of both the terminators and Ge concentrations. Our results demonstrate that the electronic and optical properties of Si1-xGex NWs can be tuned by utilizing selected functional groups as well as particular Ge concentrations for customizing purposes. 展开更多
关键词 110 OH x)ge_x Nanowires Impact of Surface Passivation on the Electronic structure and Optical Properties of the si ge
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离子束溅射制备Si/Ge多层膜的结晶研究 被引量:5
2
作者 邓书康 陈刚 +4 位作者 高立刚 陈亮 俞帆 刘焕林 杨宇 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期288-291,共4页
采用离子束溅射制备Si/Ge多层膜,通过X射线小角衍射计算其周期厚度及各子层的厚度,用Raman光谱对Si/Ge多层膜的微观结构及Si子层的结构进行表征。结果表明,所制备的Si/Ge多层膜中,当Ge子层的厚度为6. 2nm时, Si子层的结晶质量较好,表明... 采用离子束溅射制备Si/Ge多层膜,通过X射线小角衍射计算其周期厚度及各子层的厚度,用Raman光谱对Si/Ge多层膜的微观结构及Si子层的结构进行表征。结果表明,所制备的Si/Ge多层膜中,当Ge子层的厚度为6. 2nm时, Si子层的结晶质量较好,表明适量的Ge含量有诱导Si结晶的作用。 展开更多
关键词 si/ge多层膜 离子束溅射 拉曼光谱 制备方法 薄膜 结构分析
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Al-Si-Ge钎料钎焊Cu/Al接头组织与性能研究 被引量:9
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作者 牛志伟 叶政 +3 位作者 刘凯凯 黄继华 陈树海 赵兴科 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第6期719-725,共7页
首次采用Al-5.6Si-25.2Ge钎料对Cu/Al异种金属进行了炉中钎焊,分别从钎料的熔化特性、铺展润湿性、Cu侧界面组织以及钎焊接头强度等方面进行了系统研究,并与Zn-22Al钎料钎焊结果进行对比。结果表明,Al-5.6Si-25.2Ge钎料具有较低的熔化温... 首次采用Al-5.6Si-25.2Ge钎料对Cu/Al异种金属进行了炉中钎焊,分别从钎料的熔化特性、铺展润湿性、Cu侧界面组织以及钎焊接头强度等方面进行了系统研究,并与Zn-22Al钎料钎焊结果进行对比。结果表明,Al-5.6Si-25.2Ge钎料具有较低的熔化温度(约541℃),同时在Cu、Al母材上均具有良好的铺展润湿性。Al-5.6Si-25.2Ge/Cu界面由CuAl_2/CuAl/Cu_3Al_2三层化合物组成,其中CuAl和Cu_3Al_2呈层状,厚度较薄,仅为1~2 mm;CuAl_2呈胞状,平均厚度约为3 mm。Zn-22Al/Cu界面结构为CuAl_2/CuAl/Cu_9Al_4,其中CuAl_2层平均厚度高达15 mm。接头抗剪切强度测试结果表明,Zn-22Al钎料钎焊Cu/Al接头抗剪切强度仅为42.7 MPa,而Al-5.6Si-25.2Ge钎料钎焊Cu/Al接头具有更高的抗剪切强度,为53.4 MPa。 展开更多
关键词 Al-si-ge钎料 Cu/Al接头 界面组织 抗剪强度
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Ge/Si纳米多层膜的埋层调制结晶研究 被引量:2
4
作者 杨瑞东 陈寒娴 +4 位作者 邓荣斌 孔令德 陶东平 王茺 杨宇 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期328-330,333,共4页
采用磁控溅射设备,当衬底温度为500℃时,在Si(100)基片上磁控溅射生长Ge/Si多层膜样品。使用Raman,AFM和低角X射线技术对样品进行检测和研究,结果表明通过控制Ge埋层的厚度,可以调制Ge膜的结晶及晶粒尺寸,获得晶粒平均尺寸和空间分布较... 采用磁控溅射设备,当衬底温度为500℃时,在Si(100)基片上磁控溅射生长Ge/Si多层膜样品。使用Raman,AFM和低角X射线技术对样品进行检测和研究,结果表明通过控制Ge埋层的厚度,可以调制Ge膜的结晶及晶粒尺寸,获得晶粒平均尺寸和空间分布较均匀的多晶Ge/Si多层膜。 展开更多
关键词 ge/si纳米多层膜 埋层 纳米晶粒
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溅射Si/Ge多层膜及其发光誊性研究 被引量:2
5
作者 陈寒娴 杨瑞东 +3 位作者 王茺 邓荣斌 孔令德 杨宇 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期730-732,736,共4页
采用离子束溅射技术,在玻璃衬底上制备了不同周期数的Si/Ge多层膜样品。利用X射线小角衍射、Raman散射光谱和室温光致发光(PL)对样品进行表征。结果表明,2.0~2.3eV之间的发光带是由薄膜中的各种缺陷形成的;1.77~1.84eV之间... 采用离子束溅射技术,在玻璃衬底上制备了不同周期数的Si/Ge多层膜样品。利用X射线小角衍射、Raman散射光谱和室温光致发光(PL)对样品进行表征。结果表明,2.0~2.3eV之间的发光带是由薄膜中的各种缺陷形成的;1.77~1.84eV之间的发光带来自薄膜中的非晶结构和晶粒间的缺陷;1.53eV发光峰则可能源于纳米Ge晶粒发光。 展开更多
关键词 si/ge多层膜 可见光致发光 离子束溅射
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离子束溅射Si/Ge多层膜的界面结构研究 被引量:1
6
作者 陈寒娴 杨瑞东 +3 位作者 邓荣斌 秦芳 王茺 杨宇 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A10期4075-4077,共3页
采用离子束溅射技术,在玻璃衬底上制备了不同周期数的Si/Ge多层膜样品。通过Raman光谱和X射线小角衍射对薄膜进行了表征和分析,发现随着生长周期数的增加,层与层之间的互扩散效应逐渐减弱,界面结构逐渐清晰,生长周期为25的样品界... 采用离子束溅射技术,在玻璃衬底上制备了不同周期数的Si/Ge多层膜样品。通过Raman光谱和X射线小角衍射对薄膜进行了表征和分析,发现随着生长周期数的增加,层与层之间的互扩散效应逐渐减弱,界面结构逐渐清晰,生长周期为25的样品界面最平整。 展开更多
关键词 si/ge多层膜 界面结构 离子束溅射
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应变层Si_(1-x-y)Ge_xC_y合金研究 被引量:3
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作者 于卓 余金中 +2 位作者 成步文 王启明 梁骏吾 《半导体杂志》 1997年第2期25-33,共9页
本文综述了Si1-x-yGexCy合金的研究进展,包括合金的应变补偿效应、微观结构。
关键词 合金 应变补偿 能带结构 碳化硅 半导体材料
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Ge/Si纳米多层膜的光致发红光研究
8
作者 杨瑞东 陈寒娴 +4 位作者 邓荣斌 孔令德 陶东平 王茺 杨宇 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A01期95-97,共3页
采用磁控溅射设备,当衬底温度为500℃时,在Si(100)基片上磁控溅射生长Ge/Si多层膜样品,使用Raman和低角X射线技术对样品进行检测和研究。在红光波段对样品的光致发光进行了研究,结果表明在红光波段发光峰位来源于薄膜的非晶结构... 采用磁控溅射设备,当衬底温度为500℃时,在Si(100)基片上磁控溅射生长Ge/Si多层膜样品,使用Raman和低角X射线技术对样品进行检测和研究。在红光波段对样品的光致发光进行了研究,结果表明在红光波段发光峰位来源于薄膜的非晶结构及其薄膜所产生的缺陷;发光峰的强度和峰形受Ge子层和Si子层厚度的影响。 展开更多
关键词 ge/si纳米多层膜 PL谱 红光
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沉积温度和生长停顿对离子束溅射生长Ge/Si多层膜的影响
9
作者 杨杰 王茺 +2 位作者 欧阳焜 陶东平 杨宇 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期945-950,共6页
采用离子束溅射技术生长了一系列Ge/Si多层膜,研究了沉积温度和生长停顿对Ge/Si多层膜结晶性和界面结构的影响。通过对Raman峰峰位、峰强度比值和X射线小角衍射等方面的研究,发现综合控制沉积温度和生长停顿能够得到结晶性和界面都相对... 采用离子束溅射技术生长了一系列Ge/Si多层膜,研究了沉积温度和生长停顿对Ge/Si多层膜结晶性和界面结构的影响。通过对Raman峰峰位、峰强度比值和X射线小角衍射等方面的研究,发现综合控制沉积温度和生长停顿能够得到结晶性和界面都相对理想的多层膜。这为改善Ge/Si多层膜的离子束溅射生长提供了一种有效的方法。 展开更多
关键词 离子束溅射 ge/si多层膜 沉积温度 生长停顿
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Si_xGe(1-x)合金晶体生长
10
作者 张维连 孙军生 张恩怀 《人工晶体学报》 CSCD 北大核心 2000年第S1期-,共2页
近几年来 ,锗硅合金晶体生长技术受到人们关注。这主要是因为锗硅合金晶体具有随二者组分变化禁带宽度和载流子迁移率也随之改变的特点 ,因而被人们认为是新兴的“带隙工程材料” ,在热电子能量转换器件、光电子器件、太阳电池、温度敏... 近几年来 ,锗硅合金晶体生长技术受到人们关注。这主要是因为锗硅合金晶体具有随二者组分变化禁带宽度和载流子迁移率也随之改变的特点 ,因而被人们认为是新兴的“带隙工程材料” ,在热电子能量转换器件、光电子器件、太阳电池、温度敏感元件、中子和X射线的Bragg反射器件以及梯度功能材料领域都具有巨大的潜在应用价值。目前 ,这种材料的物理性质随局部组分变化的特性已经开始在空间科学、军事科学和某些特殊领域中应用。在这些领域中 ,往往要求使用体单晶而不是薄膜 ,因此研究合金晶体生长技术具有很大实用价值。硅锗在熔体和固态都是完全可以互熔的。但由于硅 锗相图中固相线和液相线分离很大 ,没有相交点 (共晶点 ) ,因此导致了锗在硅中宏观和微观分凝现象十分严重 ,容易出现组分过冷和条纹状生长 ,严重时很难长成单晶体。如何从熔体中生长出合适的锗硅合金单晶是晶体生长工作者的主要课题之一。国外近几年采用了多种工艺 (包括CZ法 )制备了锗硅合金晶体。掺Geipe浓度最大可达到 2 2 % ,晶体直径可达48mm。在直拉法生长晶体时 ,熔体中无规则热对流是影响晶体质量的因素之一 ,热对流的大小可用无量纲Grashoff数表征Gr =gβΔTb3 υ-2式中 g为重力加速度 ,β为溶体热膨胀系数 ,ΔT为熔体在特征长? 展开更多
关键词 si_xge_(1-x)晶体 微重力晶体生长模拟 磁场结构 生长参数
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碱性介质中合成的Ge-ZSM-5结构和物性与Si/Ge比的关系
11
作者 汪颖军 焦庆祝 孙淳伟 《大庆石油学院学报》 CAS 北大核心 1997年第2期106-109,共4页
研究了在碱性介质中以TPABr为模板剂合成的Ge-ZSM-5型分子筛的结构参数和物化性能随样品组成Si/Ge比的不同而发生的变化。结果表明,随着样品Si/Ge比的降低,即Ge对Si同晶取代程度的增大,使得骨架T—O—... 研究了在碱性介质中以TPABr为模板剂合成的Ge-ZSM-5型分子筛的结构参数和物化性能随样品组成Si/Ge比的不同而发生的变化。结果表明,随着样品Si/Ge比的降低,即Ge对Si同晶取代程度的增大,使得骨架T—O—T键长增加,力常数减小,从而导致分子筛的晶胞体积规律性的增大;骨架T—O—T的反对称性伸缩振动、对称性伸缩振动、弯曲振动和次级结构单元振动的红外吸收峰均规律性地向低波数方向位移;孔道对模板剂的束缚能力减小,TPABr脱附温度降低,分子筛对正己烷的吸附量增大;随着反应物中Ge含量的提高,晶化过程中成核密度减小,分子筛晶体粒度呈规律性的增大。 展开更多
关键词 si/ge ge-ZSM-5 分子筛 碱性介质
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Raman测量Ge/Si多层膜中Ge晶粒尺寸的理论研究 被引量:8
12
作者 吴晓昆 杨宇 吴兴惠 《红外技术》 CSCD 北大核心 2001年第1期15-18,共4页
研究了用磁控溅射方法制备的Gex/Si1-x多层膜的Ge拉曼光谱 ,在分析了多层膜中Ge微晶的分布和采用微晶壳层结构假设的条件下 ,考虑了微晶表面效应的影响 ,用声子限域模型计算了Ge纳米晶粒的拉曼谱线 ,拉曼拟合谱线为三条理论谱线的叠加... 研究了用磁控溅射方法制备的Gex/Si1-x多层膜的Ge拉曼光谱 ,在分析了多层膜中Ge微晶的分布和采用微晶壳层结构假设的条件下 ,考虑了微晶表面效应的影响 ,用声子限域模型计算了Ge纳米晶粒的拉曼谱线 ,拉曼拟合谱线为三条理论谱线的叠加。计算结果表明 :在考虑了微晶的表面效应后 ,拟合结果与实验结果符合得很好。 展开更多
关键词 拉曼光谱 多层膜 磁控溅射法 Raman测量 晶粒尺寸
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磁控溅射Ge/Si多层膜的发光特性研究 被引量:5
13
作者 宋超 孔令德 杨宇 《红外技术》 CSCD 北大核心 2007年第2期67-70,共4页
采用磁控溅射技术,在Si(100)衬底上制备了一系列不同周期、不同Ge层厚度的Ge/Si多层膜样品。用室温光致发光(PL)、Raman散射和AFM图谱对样品进行表征。结果表明:Ge/Si多层膜中的PL发光峰主要来自于Ge晶粒,并且Ge晶粒生长的均匀性对PL发... 采用磁控溅射技术,在Si(100)衬底上制备了一系列不同周期、不同Ge层厚度的Ge/Si多层膜样品。用室温光致发光(PL)、Raman散射和AFM图谱对样品进行表征。结果表明:Ge/Si多层膜中的PL发光峰主要来自于Ge晶粒,并且Ge晶粒生长的均匀性对PL发光影响较大,生长均匀的Ge晶粒中量子限域效应明显,随着晶粒的减小,PL发光主峰发生蓝移;在Ge晶粒均匀性较差时,PL发光峰强度较弱,量子限域效应不明显。 展开更多
关键词 ge/si多层膜 量子限域效应 光致发光 磁控溅射
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非对称性隧穿势垒Ge/Si复合纳米结构MOSFET存储特性的电路模拟
14
作者 周少华 杨红官 《湖南工程学院学报(自然科学版)》 2006年第1期12-15,共4页
介绍了非对称性势垒单电子管(ATBs)的电路模拟和特性,以及采用准经典的Monte Carlo方法对Ge/Si复合纳米结构MOSFET存储器的电路模拟,得出由于台阶状复合势垒的作用,在擦写时间保持μs和ms量级的同时,存储时间可长达数年.从而解决了快速... 介绍了非对称性势垒单电子管(ATBs)的电路模拟和特性,以及采用准经典的Monte Carlo方法对Ge/Si复合纳米结构MOSFET存储器的电路模拟,得出由于台阶状复合势垒的作用,在擦写时间保持μs和ms量级的同时,存储时间可长达数年.从而解决了快速编程与长久存储之间的矛盾. 展开更多
关键词 非对称势垒 复合纳米结构 单电子存储器 电路模拟
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金属Ni诱导横向晶化Ge纳米点/Si多层异质薄膜的特性
15
作者 鄢波 张匡吉 +4 位作者 施毅 濮林 韩平 张荣 郑有炓 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期712-716,共5页
研究了利用低压化学气相沉积(LPCVD)和金属诱导横向结晶技术制备高密度Ge/Si量子点多层异质结构.首先在SiO2/Si(100)衬底上LPCVD生长了高密度Ge/aSi量子点多层结构,然后在较低温度下(低于550℃),利用金属Ni诱导多层结构中的aSi层横向结... 研究了利用低压化学气相沉积(LPCVD)和金属诱导横向结晶技术制备高密度Ge/Si量子点多层异质结构.首先在SiO2/Si(100)衬底上LPCVD生长了高密度Ge/aSi量子点多层结构,然后在较低温度下(低于550℃),利用金属Ni诱导多层结构中的aSi层横向结晶制备出高质量的Ge/Si量子点超晶格结构.通过光学显微镜、电子显微镜和显微喇曼光谱等手段测量研究表明,与单一aSi系统的金属Ni诱导相似,该多层结构中的各αSi层退火后也具有(110)择优取向,同时晶粒的直径较大,约在4~5μm左右.Ge点中的应力状态的变化揭示出诱导结晶后形成高质量的晶态Si与Ge纳米点界面. 展开更多
关键词 Oe/si量子点多层结构 低压化学气相沉积 金属诱导横向结晶
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Nb-Ti-Si基超高温合金表面Ge-Y改性硅化物渗层的组织形成
16
作者 杨凌霄 郭喜平 +1 位作者 乔彦强 潘若冰 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第11期1433-1438,共6页
为提高Nb-Ti-Si基超高温合金的高温抗氧化性能,采用Si-Ge-Y共渗工艺在其表面制备了Ge-Y改性的硅化物渗层.利用XRD,SEM和EDS分析了渗层的结构和相组成,并对其组织形成机理进行了讨论.结果表明:所制备的渗层具有明显的分层结构,由外至内... 为提高Nb-Ti-Si基超高温合金的高温抗氧化性能,采用Si-Ge-Y共渗工艺在其表面制备了Ge-Y改性的硅化物渗层.利用XRD,SEM和EDS分析了渗层的结构和相组成,并对其组织形成机理进行了讨论.结果表明:所制备的渗层具有明显的分层结构,由外至内依次为(Nb,X)(Si,Ge)_2(X代表Ti,Cr和Hf)外层和(Ti,Nb)_5(Si,Ge)_4内层;Ge在渗层中的含量由外向内逐渐增加.与Y改性硅化物渗层相比,Ge-Y改性硅化物渗层的组织并未发生显著改变,但Ge的添加会在一定程度上减少Si在共渗层表面的吸附和沉积,对渗层的生长有明显的抑制作用.保温不同时间(0—8 h)所制备的渗层具有相似的结构,渗层的生长动力学曲线符合抛物线规律. 展开更多
关键词 Nb—Ti—si基超高温合金 扩散渗 硅化物渗层 ge-Y改性 组织形成
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沉积温度为室温和560℃的Nb/Si多层膜微结构研究 被引量:2
17
作者 张明 赵建华 +2 位作者 曹立民 许应凡 王文魁 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 1999年第2期154-158,共5页
对多靶离子溅射制备的Nb/Si周期多层膜的微结构进行了实验研究。利用X射线衍射和截面透射电子显微镜观测到室温和 56 0℃沉积的Nb/Si多层膜为非晶多层膜 ,但它们的微结构有很大的不同。采用沉积原子表面活动性和界面反应程度解释了所得... 对多靶离子溅射制备的Nb/Si周期多层膜的微结构进行了实验研究。利用X射线衍射和截面透射电子显微镜观测到室温和 56 0℃沉积的Nb/Si多层膜为非晶多层膜 ,但它们的微结构有很大的不同。采用沉积原子表面活动性和界面反应程度解释了所得到的结果。 展开更多
关键词 多层膜 沉积温度 界面结构 室温 微结构 铌/硅
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Nb-Ti-Si-Cr基超高温合金表面ZrSi_2-NbSi_2复合渗层的组织及其抗高温氧化性能 被引量:8
18
作者 李轩 郭喜平 乔彦强 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第6期693-700,共8页
采用先磁控溅射Zr膜,再Si-Y扩散共渗的方法,在新型Nb-Ti-Si-Cr基超高温合金表面制备了Zr Si2-Nb Si2复合渗层,分析了渗层的显微组织及形成机制,并研究了其在1250℃的恒温氧化行为.结果表明,1150,1250和1350℃下Si-Y共渗4 h所制备的渗层... 采用先磁控溅射Zr膜,再Si-Y扩散共渗的方法,在新型Nb-Ti-Si-Cr基超高温合金表面制备了Zr Si2-Nb Si2复合渗层,分析了渗层的显微组织及形成机制,并研究了其在1250℃的恒温氧化行为.结果表明,1150,1250和1350℃下Si-Y共渗4 h所制备的渗层具有相似的显微组织,均主要由Zr Si2外层,(Nb,X)Si2(X=Ti,Cr,Zr和Hf)中间层和(Ti,Nb)5Si4内层组成.恒温氧化实验结果表明,所制备的渗层具有优异的抗高温氧化性能.氧化时渗层表面形成了由Si O2,Ti O2,Zr Si O4和Cr2O3混合组成的致密氧化膜,能够在1250℃空气中保护基体合金至少100 h不被氧化. 展开更多
关键词 Nb-Ti-si-Cr基超高温合金 Zr si2-Nb si2复合渗层 组织形成 抗氧化性能
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Si_3N_4/BN层状陶瓷软层成分对材料韧性的影响 被引量:7
19
作者 昝青峰 蔡胜有 黄勇 《山东陶瓷》 CAS 1999年第2期4-8,共5页
层状结构能够有效地提高陶瓷材料的韧性,本论文用轧膜/涂层的方法制备了Si3N4/BN层状陶瓷复合材料。软层的结构及其与硬层的结合状态对整个材料的韧性非常重要,改变软层的成分可以改变软硬层间的结合强度,进而可以影响层状... 层状结构能够有效地提高陶瓷材料的韧性,本论文用轧膜/涂层的方法制备了Si3N4/BN层状陶瓷复合材料。软层的结构及其与硬层的结合状态对整个材料的韧性非常重要,改变软层的成分可以改变软硬层间的结合强度,进而可以影响层状材料的韧性。本论文研究了材料韧性随软层成分变化而变化的趋势,并对其原因进行了分析。 展开更多
关键词 软层 断裂 增韧 氮化硅 氮化硼 陶瓷
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声表面波器件用SiO_2/ZnO/金刚石/Si多层结构制备 被引量:1
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作者 陈良贤 刘金龙 +4 位作者 闫雄伯 邵明阳 安康 魏俊俊 李成明 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2019年第2期1-7,共7页
为获得高频、高性能金刚石声表面波器件的多层结构,在金刚石/Si衬底使用磁控溅射方法优化ZnO与SiO_2薄膜沉积工艺参数,制备了具有正负温度系数组合的SiO_2/ZnO/金刚石/Si多层结构,并对多层结构进行表征。结果表明:随着氩氧比增加,ZnO薄... 为获得高频、高性能金刚石声表面波器件的多层结构,在金刚石/Si衬底使用磁控溅射方法优化ZnO与SiO_2薄膜沉积工艺参数,制备了具有正负温度系数组合的SiO_2/ZnO/金刚石/Si多层结构,并对多层结构进行表征。结果表明:随着氩氧比增加,ZnO薄膜的沉积速率不断加快,薄膜的表面粗糙度不断增大;ZnO薄膜中的原子摩尔分数比随O_2输入量的减少而逐渐接近理想的1∶1。不同氩氧比下制备的ZnO薄膜均呈(002)面择优取向生长,其中在氩氧比7∶1时,获得了具有细小柱状晶特征、C轴择优取向程度较高的ZnO薄膜。采用最优的ZnO和SiO_2薄膜沉积工艺,在金刚石/Si衬底获得了具有清晰界面的SiO_2/ZnO/金刚石/Si多层结构。 展开更多
关键词 金刚石膜 磁控溅射 siO2/ZnO/金刚石/硅多层结构 声表面波器件
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