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高压GaN基LED芯片在道路照明灯具中的整机效率与可靠性优化研究
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作者 李明阳 《中国照明电器》 2026年第2期74-76,共3页
本文针对道路照明中的高压GaN基LED构建“效率分解+结温——光效——寿命降额”模型,联动芯片终端/电流扩展、低热阻封装与散热、低纹波无电解驱动及多级浪涌防护,并按IEC与LM-80/TM-21开展A/B对照与加速试验。在统一口径下,整机光效较... 本文针对道路照明中的高压GaN基LED构建“效率分解+结温——光效——寿命降额”模型,联动芯片终端/电流扩展、低热阻封装与散热、低纹波无电解驱动及多级浪涌防护,并按IEC与LM-80/TM-21开展A/B对照与加速试验。在统一口径下,整机光效较基线提升8%~12%(P50),PstLM≤1.0、SVM≤0.4覆盖10%~100%调光;浪涌承受达线地10 kA、线线5 kA并自恢复;L70/B50外推提高20%~30%,热降额受控;LCC/TCO下降8%~15%,回收期缩短10%~20%。 展开更多
关键词 高压gan基LED芯片 道路照明 整机效率 可靠性
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高像素密度GaN基Micro-LED阵列芯片的制备
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作者 周秀衡 李玲 +4 位作者 马非凡 徐良玉 萧俊龙 唐甜 赵永周 《微纳电子技术》 2026年第4期60-67,共8页
为满足增强现实(AR)/虚拟现实(VR)等高分辨率微显示器的应用需求,设计并制备了一款0.31英寸(1英寸=2.54 cm)、1344×784分辨率的绿光微型发光二极管(Micro-LED)微显示器,采用无源矩阵驱动方式。其像素间距为5μm,像素密度为5000 PP... 为满足增强现实(AR)/虚拟现实(VR)等高分辨率微显示器的应用需求,设计并制备了一款0.31英寸(1英寸=2.54 cm)、1344×784分辨率的绿光微型发光二极管(Micro-LED)微显示器,采用无源矩阵驱动方式。其像素间距为5μm,像素密度为5000 PPI。在器件制备过程中,重点优化了氧化铟锡(ITO)透明导电膜的成膜工艺,研究对比了电子束蒸镀与磁控溅射工艺制备ITO膜层的性能差异,发现磁控溅射技术结合干法刻蚀工艺更能保障高像素密度显示阵列的薄膜质量与图形精度,并通过优化光刻胶材料(选用高分辨率、高对比度且具有强附着力的负性光刻胶),有效解决了微米级像素制备中的电极光刻偏移问题。此外,在硅背板上制备凸点下金属化层,实现了高像素密度Micro-LED显示阵列的精准集成。制备的Micro-LED微显示器展现出优异的光学与电学特性,在2.3 V驱动电压下即可实现均匀发光,亮度超过50000 cd/m^(2);驱动电压提升至4.5 V时,亮度可达5335651 cd/m^(2),充分展现了其在超高亮度显示领域的应用潜力。 展开更多
关键词 微型发光二极管(Micro-LED) Micro-LED芯片 gan基材料 高像素密度LED阵列 发光强度
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覆铜板表面焊接GaN芯片的热性能分析 被引量:1
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作者 蒲航 董悦 +3 位作者 张瑶 韩可 周永刚 弓明杰 《电子工艺技术》 2025年第3期40-43,共4页
GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)器件由于其优异的性能,在电源模块中的应用引起了广泛关注。然而GaN HEMT器件的散热问题成为限制其应用的关键因素。研究不同类型覆铜基板、不同覆铜厚度以及不同覆铜面积焊接GaN芯片的工艺,进行试验以及仿... GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)器件由于其优异的性能,在电源模块中的应用引起了广泛关注。然而GaN HEMT器件的散热问题成为限制其应用的关键因素。研究不同类型覆铜基板、不同覆铜厚度以及不同覆铜面积焊接GaN芯片的工艺,进行试验以及仿真分析,确保GaN芯片的应用可靠性。 展开更多
关键词 覆铜板 gan芯片 仿真 可靠性
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Realizing Force Sensing with InGaN/GaN Multi-Quantum Well Diode Chip 被引量:1
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作者 Feifei Qin Jiaqi Wu +9 位作者 Shun Lu Xueyao Lu Yang Chen Xumin Gao Yue Cao Lei Zhang Xiaoxuan Wang Peng Wan Gangyi Zhu Yongjin Wang 《Instrumentation》 2024年第4期4-12,共9页
Force sensing provides a crucial physical-electrical channel within sensing technology.This study showcases the fabrication and characterization of force sensors by integrating a polydimethylsiloxane(PDMS)mechanical m... Force sensing provides a crucial physical-electrical channel within sensing technology.This study showcases the fabrication and characterization of force sensors by integrating a polydimethylsiloxane(PDMS)mechanical module and an optical channel formed by two ideal InGaN/GaN light-emitting diodes(LEDs)with transmit-receive characteristics.As an emitter,the InGaN/GaN device(5 mm×4 mm)exhibits electroluminescence at 469 nm with an on-voltage of 2.33 V.As a receiver,the response spectrum of InGaN/GaN devices spans from 350 to 480 nm,featuring a peak at 390 nm,rise time of~68.4 ms,and falling edge of~61.0 ms.The PDMS film can transform the force into deformation data and influence the signals in the optical receiver.The drive current,the gap between the emitter and receiver,and distance between the LED and PDMS mechanical module all significantly influence the receiver photocurrent.Distinct from the integrated design,our PDMS-assisted force sensing model uses discrete structures to allow signal intensity optimization.The finite element simulation and experimental results indicate that force of the designed PDMS film exhibits a linear relationship with z-axis displacement and photocurrent from 0 to 0.7 mm.The findings reveal that when the PDMS film height is 1.5 mm and the distance between the emitter and receiver is near,the photocurrent is higher.Meanwhile,Ag film with a thickness of 100 nm considerably enhances the photocurrent response and signal stability in the sensing channel.Finally,a weight measurement demonstration is employed to demonstrate force sensing.The system resolution is 1.23μA/N,and the measurement range is 0 to 0.7 N. 展开更多
关键词 Ingan/gan diodes chip force sensing coexistence of light emission and detection PDMS
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High power and high reliability GaN/InGaN flip-chip light-emitting diodes
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作者 张剑铭 邹德恕 +4 位作者 徐晨 朱颜旭 梁庭 达小丽 沈光地 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2007年第4期1135-1139,共5页
High-power and high-reliability GaN/InGaN flip-chip light-emitting diodes (FCLEDs) have been demonstrated by employing a flip-chip design, and its fabrication process is developed. FCLED is composed of a LED die and... High-power and high-reliability GaN/InGaN flip-chip light-emitting diodes (FCLEDs) have been demonstrated by employing a flip-chip design, and its fabrication process is developed. FCLED is composed of a LED die and a submount which is integrated with circuits to protect the LED from electrostatic discharge (ESD) damage. The LED die is flip-chip soldered to the submount, and light is extracted through the transparent sapphire substrate instead of an absorbing Ni/Au contact layer as in conventional GaN/InGaN LED epitaxial designs. The optical and electrical characteristics of the FCLED are presented. According to ESD IEC61000-4-2 standard (human body model), the FCLEDs tolerated at least 10 kV ESD shock have ten times more capacity than conventional GaN/InGaN LEDs. It is shown that the light output from the FCLEDs at forward current 350mA with a forward voltage of 3.3 V is 144.68 mW, and 236.59 mW at 1.0A of forward current. With employing an optimized contact scheme the FCLEDs can easily operate up to 1.0A without significant power degradation or failure. The li.fe test of FCLEDs is performed at forward current of 200 mA at room temperature. The degradation of the light output power is no more than 9% after 1010.75 h of life test, indicating the excellent reliability. FCLEDs can be used in practice where high power and high reliability are necessary, and allow designs with a reduced number of LEDs. 展开更多
关键词 gan light emitting diode FLIP-chip high power
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GaN芯片封装技术研究进展与趋势 被引量:1
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作者 宋海涛 王霄 +7 位作者 龚平 朱霞 李杨 刘璋成 闫大为 陈治伟 尤杰 敖金平 《电子与封装》 2025年第3期123-133,共11页
作为第三代半导体材料,GaN因其高电子迁移率、高击穿场强等优异特性,正被广泛应用于高频、高功率电子器件。然而,其封装技术面临诸如热管理、电气性能优化以及封装可靠性等挑战,同时还需要满足更紧凑、更集成的需求。重点讨论了目前GaN... 作为第三代半导体材料,GaN因其高电子迁移率、高击穿场强等优异特性,正被广泛应用于高频、高功率电子器件。然而,其封装技术面临诸如热管理、电气性能优化以及封装可靠性等挑战,同时还需要满足更紧凑、更集成的需求。重点讨论了目前GaN芯片封装的多种解决方案,包括晶体管外形(TO)封装、四边扁平无引线(QFN)封装等分立器件封装结构,晶圆级封装(WLP)、多芯片模块(MCM)合封器件封装结构以及诸多先进封装技术。分析了封装技术的发展趋势,如集成化、模块化封装,以及面向高频、高功率应用的优化方法。随着技术的不断突破,GaN封装有望在更高效、更可靠的方向上取得进一步进展,以满足不断增长的市场需求。 展开更多
关键词 gan 芯片封装 先进封装 散热 寄生电感 3D集成
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高频GaN功率放大器MMIC芯片级热设计 被引量:1
7
作者 崔朝探 仵志达 +2 位作者 芦雪 焦雪龙 杜鹏搏 《半导体技术》 北大核心 2025年第11期1167-1173,共7页
随着GaN功率放大器单片微波集成电路(MMIC)向高频、大功率方向发展,器件热耗不断增加,散热问题已成为制约电子器件性能提升的关键因素。采用有限元热仿真方法,将热设计应用于电路层面。通过优化单胞管芯栅宽、栅指数量及管芯排布方式,... 随着GaN功率放大器单片微波集成电路(MMIC)向高频、大功率方向发展,器件热耗不断增加,散热问题已成为制约电子器件性能提升的关键因素。采用有限元热仿真方法,将热设计应用于电路层面。通过优化单胞管芯栅宽、栅指数量及管芯排布方式,减小了热耦合效应,显著提升了放大器芯片的散热能力,优化后芯片峰值结温降低了28.05℃。采用红外热成像仪对47~52GHz功率放大器芯片进行结温测试,测试与仿真结果高度吻合,误差在3%以内。相关成果可用于优化和指导芯片散热设计。 展开更多
关键词 gan功率放大器单片微波集成电路(MMIC) 芯片级散热 有限元热仿真 电路层面 热耦合效应
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GaN功率器件芯片级热管理技术研究进展 被引量:10
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作者 郭怀新 孔月婵 +1 位作者 韩平 陈堂胜 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2018年第5期316-323,共8页
详细论述了GaN器件热瓶颈的原因,并对近年来国外正在开展的先进芯片级散热技术研究情况进行系统分析和评述。揭示了高导热材料及微流体与芯片近结集成的各类散热技术的热设计原理、工艺开发和面临的技术挑战,阐述了GaN器件芯片级热管理... 详细论述了GaN器件热瓶颈的原因,并对近年来国外正在开展的先进芯片级散热技术研究情况进行系统分析和评述。揭示了高导热材料及微流体与芯片近结集成的各类散热技术的热设计原理、工艺开发和面临的技术挑战,阐述了GaN器件芯片级热管理的技术现状和发展方向。 展开更多
关键词 gan器件 芯片级热管理 金刚石 微流体
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超高导热金刚石铜复合材料在GaN器件中的应用 被引量:9
9
作者 季兴桥 来晋明 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2017年第4期310-314,共5页
金刚石铜具有高导热率和低膨胀系数,可用于大功率芯片的散热热沉。未做处理的金刚石表面非常光滑,不易附着其他金属,由于金刚石性质非常稳定,不容易被强酸和强碱进行表面处理。采用JG-01金刚石铜粗化处理液对金刚石进行粗化处理,而对铜... 金刚石铜具有高导热率和低膨胀系数,可用于大功率芯片的散热热沉。未做处理的金刚石表面非常光滑,不易附着其他金属,由于金刚石性质非常稳定,不容易被强酸和强碱进行表面处理。采用JG-01金刚石铜粗化处理液对金刚石进行粗化处理,而对铜无损伤,提升了金刚石表面结合力。金刚石铜镀层对金锡(AuSn)和锡铅(PbSn)焊料的润湿性满足GJB548B-2005要求。GaN功率放大器芯片采用金刚石铜热沉比铜钼铜热沉结温可以降低12℃。金刚石铜载板镀层润湿性良好,焊接后芯片底部的空洞率不大于3%,热沉焊接后空洞率不大于5%,满足高功率芯片散热要求。按照产品环境适应要求,对GaN功率放大器做了高低温冲击和机械振动两种环境筛选实验,最终满足可靠性考核要求。 展开更多
关键词 金刚石铜 gan芯片 镀涂 热沉 散热
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基于AlGaN/GaNHEMT的功率放大器的研究进展 被引量:3
10
作者 王冲 刘道广 +1 位作者 郝跃 张进城 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2005年第3期245-247,共3页
介绍了几类常见的基于AlGaN/GaNHEMT的微波功率放大器;论述了制造微波功率放大器的两种关键工艺技术———倒装芯片集成(FCIC)和共平面线(CPW);分析了自行研制的微波功率放大器核心器件AlGaN/GaNHEMT的性能。
关键词 微波功率放大器 微波集成电路 高电子迁移率器件 ALgan/gan 倒装芯片集成 共平面线
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基于GaN功率器件的热仿真技术研究 被引量:2
11
作者 郭怀新 韩平 陈堂胜 《固体电子学研究与进展》 CSCD 北大核心 2017年第3期176-181,共6页
针对大功率器件散热瓶颈问题,基于GaN功率芯片,利用有限元分析方法开展了芯片近结区热特性模拟方法的研究。建立了芯片近结区散热能力仿真评估的三维理论模型,系统地研究了不同的初始条件、边界条件、晶格热效应及结构理论假设等因素对... 针对大功率器件散热瓶颈问题,基于GaN功率芯片,利用有限元分析方法开展了芯片近结区热特性模拟方法的研究。建立了芯片近结区散热能力仿真评估的三维理论模型,系统地研究了不同的初始条件、边界条件、晶格热效应及结构理论假设等因素对仿真精度的影响,分析了理论建模因素对计算结果的影响的原因。同时采用红外热成像仪对不同功率下的GaN芯片结温进行测试验证,模拟计算的结果和测试值的偏差在10%之内,表明合理建模的热仿真技术可有效评估器件散热能力。 展开更多
关键词 gan芯片 热仿真 结温 有限元分析
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GaN基倒装焊LED芯片的光提取效率模拟与分析 被引量:9
12
作者 钟广明 杜晓晴 田健 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第8期773-778,共6页
采用蒙特卡罗光线追踪方法,模拟GaN基倒装LED芯片的光提取效率,比较了蓝宝石衬底剥离前后、蓝宝石单面粗化和双面粗化、有无缓冲层下LED光提取效率的变化,并对粗化微元结构和尺寸作了进一步选取与优化。研究结果表明:采用较厚的蓝宝石... 采用蒙特卡罗光线追踪方法,模拟GaN基倒装LED芯片的光提取效率,比较了蓝宝石衬底剥离前后、蓝宝石单面粗化和双面粗化、有无缓冲层下LED光提取效率的变化,并对粗化微元结构和尺寸作了进一步选取与优化。研究结果表明:采用较厚的蓝宝石衬底和引入AlN缓冲层均有利于LED光提取效率的提高;蓝宝石衬底双面粗化对提高光提取效率的效果要明显好于单面粗化;表面粗化的结构和尺寸对光提取效率有较大影响,当微元特征尺寸与微元间距相当时,光提取效率较高。 展开更多
关键词 gan基倒装LED 光提取效率 光线追踪 双面粗化 ALN缓冲层
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Ku波段GaN一片式收发组件芯片 被引量:2
13
作者 任春江 彭龙新 +5 位作者 戈勤 沈宏昌 潘晓枫 李建平 李忠辉 陈堂胜 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2017年第1期1-5,31,共6页
报道了一款应用于Ku波段的GaN T/R MMIC。该芯片采用0.15μm GaN HEMT器件工艺制造,集成了T/R组件的接收通道和发射通道,芯片面积7.00mm×3.32mm。研制的MMIC集成了5位数字衰减器、5位数字移相器、前级低噪声放大器、后级低噪声放... 报道了一款应用于Ku波段的GaN T/R MMIC。该芯片采用0.15μm GaN HEMT器件工艺制造,集成了T/R组件的接收通道和发射通道,芯片面积7.00mm×3.32mm。研制的MMIC集成了5位数字衰减器、5位数字移相器、前级低噪声放大器、后级低噪声放大器、驱动放大器、功率放大器、公用支路的小信号开关和收发切换的功率开关。在16~17GHz工作频带内测得该芯片接收通道增益大于21dB,噪声系数小于3.5dB;发射通道增益大于20.8dB,饱和功率大于40.8dBm,功率附加效率典型值30%。该芯片上集成的5位数字移相器、5位数字衰减器功能正常,达到设计要求。 展开更多
关键词 氮化镓 KU波段 收发 一片式收发组件芯片
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GaN基大功率倒装焊蓝光LED的I-V特性研究 被引量:2
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作者 林亮 陈志忠 +3 位作者 童玉珍 于彤军 秦志新 张国义 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期766-768,777,共4页
测量了GaN基大功率倒装焊蓝光发光二极管(LED)在不同温度、不同老化阶段的电流-电压(I-V)特性曲线。结果表明,相对理想情形,特性曲线的反向偏压区漏电因深能级隧穿偏大;正向小偏压下因沿着位错汇聚金属产生漏电流;产生-复合电流区和扩... 测量了GaN基大功率倒装焊蓝光发光二极管(LED)在不同温度、不同老化阶段的电流-电压(I-V)特性曲线。结果表明,相对理想情形,特性曲线的反向偏压区漏电因深能级隧穿偏大;正向小偏压下因沿着位错汇聚金属产生漏电流;产生-复合电流区和扩散电流区因多量子阱限制而理想因子偏大;由于有源区低掺杂,在10 A/cm2就开始形成大注入区;在大电流下也因为串联电阻分压而形成串联电阻区。扩散电流区的温度系数和肖克莱方程导出的数值最接近,可用来测量结温。老化过程中反向漏电流增加,是因为有了更多被激活的深能级;随着老化正向漏电增加的速度变慢,是由于位错逐渐被汇集的金属填满。 展开更多
关键词 gan 大功率LED 倒装焊 理想因子 发光效率 老化
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GaN大功率Quasi-MMIC在片测试系统的研究 被引量:3
15
作者 王帅 钟世昌 陈悦 《现代制造技术与装备》 2021年第6期82-83,共2页
讨论GaN大功率Quasi-MMIC在片测试系统搭建以及测试中需要解决的各项问题。通过对传统在片测试系统的研究,结合GaN芯片要求高电压、高功率输出的特点,对直流探针和测试夹具进行改进,最终组建了GaN大功率Quasi-MMIC的在片测试系统,并用... 讨论GaN大功率Quasi-MMIC在片测试系统搭建以及测试中需要解决的各项问题。通过对传统在片测试系统的研究,结合GaN芯片要求高电压、高功率输出的特点,对直流探针和测试夹具进行改进,最终组建了GaN大功率Quasi-MMIC的在片测试系统,并用该系统对某款GaN Quasi-MMIC进行了测试评价,证明了该测试系统的可用性和测试的准确性。 展开更多
关键词 gan 芯片 在片测试系统
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蓝光LED和GaN PD集成芯片双向照明通信性能研究 被引量:2
16
作者 杨馥瑞 蒋振宇 +3 位作者 沈建华 于德鲁 慎邦威 许键 《光学仪器》 2015年第3期253-258,共6页
针对LED照明通信集成芯片的应用,设计了一种包括蓝光LED和GaN PD的双向通信集成芯片。工作时蓝光和紫外光形成两路光通信。集成芯片的小尺寸可使LED照明通信减少一半的灯珠数量以利于缩小系统体积。对集成芯片采用串口通信协议和开关键... 针对LED照明通信集成芯片的应用,设计了一种包括蓝光LED和GaN PD的双向通信集成芯片。工作时蓝光和紫外光形成两路光通信。集成芯片的小尺寸可使LED照明通信减少一半的灯珠数量以利于缩小系统体积。对集成芯片采用串口通信协议和开关键控(OOK)调制解调装置进行单向、双向通信测试及分析。实验结果显示,集成芯片实现单向照明通信时,紫外通信误码率在10-6以下,在双向通信且蓝光LED电流密度不大于2.8mA/mm2时,紫外通信误码率在10-3以下。 展开更多
关键词 LED照明通信 蓝光LED gan PD 集成芯片
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InGaN/GaN量子阱悬空微盘发光二极管 被引量:1
17
作者 朱刚毅 宁波 +8 位作者 仇国庆 郭春祥 杨颖 李欣 李炳辉 施政 戴俊 秦飞飞 王永进 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期207-214,共8页
设计并制备了三种不同结构的电泵浦InGaN/GaN量子阱微盘发光器件,对其光增益和光损耗进行了分析和优化。以p型层的结构为分类标准,器件Ⅰ为圆柱形;器件Ⅱ为器件Ⅰ的悬空结构;器件Ⅲ是悬空的圆环形结构。实验和仿真结果表明,三种器件结构... 设计并制备了三种不同结构的电泵浦InGaN/GaN量子阱微盘发光器件,对其光增益和光损耗进行了分析和优化。以p型层的结构为分类标准,器件Ⅰ为圆柱形;器件Ⅱ为器件Ⅰ的悬空结构;器件Ⅲ是悬空的圆环形结构。实验和仿真结果表明,三种器件结构中,器件Ⅱ的结果最好。电极布局为内p外n型的圆柱形器件表面电流分布能够保证发光区和微腔高增益区重合,悬空结构能够降低微盘在垂直方向上的光损耗,有利于更好的光学增益。考虑到共振模式,器件Ⅱ在注入电流大于0.7 mA时,器件Ⅱ实现了峰值波长为408.2 nm、半峰宽为2.62 nm的振荡模式输出。这种电泵浦InGaN/GaN量子阱悬浮微盘二极管器件的设计思路对电泵浦微盘或微环激光器的研制具有重要参考意义。 展开更多
关键词 gan微腔 损耗和增益竞争 Ingan/gan量子阱 片上光源
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GaN晶片的CMP加工工艺研究 被引量:5
18
作者 孙强 吴健 李伟 《轻工机械》 CAS 2011年第5期48-51,56,共5页
研究了GaN晶片的化学机械抛光(CMP)工艺,分析了在CMP加工工艺过程中对GaN晶片表面质量所产生的影响。实验采用质量分数30%的H2O2溶液与铁经过Fenton化学反应20 min后作为抛光液,并分别利用2种不同磨粒粒度W5和W0.5对晶片表面抛光,对不... 研究了GaN晶片的化学机械抛光(CMP)工艺,分析了在CMP加工工艺过程中对GaN晶片表面质量所产生的影响。实验采用质量分数30%的H2O2溶液与铁经过Fenton化学反应20 min后作为抛光液,并分别利用2种不同磨粒粒度W5和W0.5对晶片表面抛光,对不同工艺参数加工后的晶片表面进行测试分析,并推测加工过程中晶片表面可能发生的化学反应。 展开更多
关键词 化学机械抛光 gan晶片 FENTON反应
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GaN固体光源的进展
19
作者 张万生 赵彦军 《微纳电子技术》 CAS 2003年第2期1-5,共5页
以GaN为代表的第三代半导体材料及器件的开发是新兴半导体产业的核心和基础,是信息产业前进的发动机,同时有可能改变人类照明光源的技术现状。本文对GaN固体光源的起源和发展做了回顾和展望,并给出几种可见光功率LED芯片的结构及其封装... 以GaN为代表的第三代半导体材料及器件的开发是新兴半导体产业的核心和基础,是信息产业前进的发动机,同时有可能改变人类照明光源的技术现状。本文对GaN固体光源的起源和发展做了回顾和展望,并给出几种可见光功率LED芯片的结构及其封装特点,最后指出在未来50年内,用GaN固体光源取代白炽灯照明将成为现实。 展开更多
关键词 gan 固体光源 氮化镓 功率LED 芯片 封装 照明
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基于GaN HEMT的13~17GHz收发多功能芯片 被引量:4
20
作者 张磊 付兴昌 +1 位作者 刘志军 徐伟 《半导体技术》 CSCD 北大核心 2017年第8期586-590,625,共6页
基于GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)工艺设计制作了一款收发(T/R)多功能芯片(MFC),主要用于射频前端收发系统。该芯片集成了单刀双掷(SPDT)开关用于选择接收通道或发射通道工作,芯片具有低噪声性能、高饱和输出功率和高功率附加效率等特... 基于GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)工艺设计制作了一款收发(T/R)多功能芯片(MFC),主要用于射频前端收发系统。该芯片集成了单刀双掷(SPDT)开关用于选择接收通道或发射通道工作,芯片具有低噪声性能、高饱和输出功率和高功率附加效率等特点。芯片接收通道的LNA采用四级放大、单电源供电、电流复用结构,发射通道的功率放大器采用三级放大、末级四胞功率合成结构,选通SPDT开关采用两个并联器件完成。采用微波在片测试系统完成该芯片测试,测试结果表明,在13~17 GHz频段内,发射通道功率增益大于17.5 dB,输出功率大于12 W,功率附加效率大于27%。接收通道小信号增益大于24 dB,噪声系数小于2.7 dB,1 dB压缩点输出功率大于9 dBm,输入/输出电压驻波比小于1.8∶1,芯片尺寸为3.70 mm×3.55 mm。 展开更多
关键词 多功能芯片(MFC) 氮化镓 单片微波集成电路(MMIC) 功率放大器(PA) 低噪声放大器(LNA)
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