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透射式GaAs光电阴极AlGaAs窗层和GaAs光电发射层界面应变状况的X射线衍射研究
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作者 李晓峰 张景文 +1 位作者 高鸿楷 侯洵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期308-311,共4页
本文介绍了应变和弛豫的概念以及倒易点在倒易空间的分布 ,阐明了 Ga As光电阴极 Al Ga As窗层和 Ga As光电发射层界面应变状况的 X射线衍射的分析方法 ,最后给出了实例 .
关键词 GAAS/algaas GaAs光电发射层 X射线衍射 驰豫 光电阴极 algaas窗层 应变 砷化镓 铝镓砷化合物
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AlGaAs梁式引线PIN管及其应用 被引量:2
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作者 李熙华 胡永军 +5 位作者 姚常飞 吴翔 王霄 顾晓春 周剑明 杨立杰 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2016年第2期111-114 141,共5页
介绍了采用AlGaAs/GaAs异质结材料制作的梁式引线PIN管。该PIN管采用P+AlGaAs阳极异质结结构,GaAs圆片工艺,采用空气桥工艺连接正负电极引线。研制的PIN管VBR≥90V,CT≤0.022pF(VR=5V,f=1 MHz),RS≤4.9Ω(f=470 MHz,IF=20mA),τ≥5ns(IF... 介绍了采用AlGaAs/GaAs异质结材料制作的梁式引线PIN管。该PIN管采用P+AlGaAs阳极异质结结构,GaAs圆片工艺,采用空气桥工艺连接正负电极引线。研制的PIN管VBR≥90V,CT≤0.022pF(VR=5V,f=1 MHz),RS≤4.9Ω(f=470 MHz,IF=20mA),τ≥5ns(IF=10mA)。使用该器件制作了W波段的SPST开关,实现在f=91GHz下,隔离度>30dB,插入损耗≤1.4dB,开关时间≤20.0ns。 展开更多
关键词 algaas PIN管 algaas/GaAs异质结 梁式引线 单刀单掷开关
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基于MOCVD技术的长波AlGaAs/GaAs量子阱红外焦平面探测器 被引量:10
3
作者 李献杰 刘英斌 +6 位作者 冯震 过帆 赵永林 赵润 周瑞 娄辰 张世祖 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2007年第4期435-438,共4页
采用n型掺杂背面入射AlGaAs/GaAs量子阱结构,用MOCVD外延生长和GaAs集成电路工艺,设计制作了大面积AlGaAs/GaAs QWIP单元测试器件和128×128、128×160、256×256 AlGaAs/GaAsQWIP焦平面探测器阵列。用液氮温度下的暗电流... 采用n型掺杂背面入射AlGaAs/GaAs量子阱结构,用MOCVD外延生长和GaAs集成电路工艺,设计制作了大面积AlGaAs/GaAs QWIP单元测试器件和128×128、128×160、256×256 AlGaAs/GaAsQWIP焦平面探测器阵列。用液氮温度下的暗电流和傅里叶红外响应光谱对单元测试器件进行了评估,针对不同材料结构,实现了9μm和10.9μm的截止波长;黑体探测率最高达到2.6×109 cm.Hz1/2.W-1。将128×128 AlGaAs/GaAs QWIP阵列芯片与CMOS读出电路芯片倒装焊互连,成功演示了室温环境下目标的红外热成像;并进一步讨论了提高QWIP组件成像质量的途径。 展开更多
关键词 MOCVD algaas/GAAS 量子阱红外探测器 红外热成像
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320×256 GaAs/AlGaAs长波红外量子阱焦平面探测器 被引量:11
4
作者 金巨鹏 刘丹 +4 位作者 王建新 吴云 曹菊英 曹妩媚 林春 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2012年第4期833-837,共5页
量子阱红外探测器(Quantum well infrared photodetector,QWIP)已经经历了20多年的深入研究,各种QWIP器件,包括量子阱红外探测器焦平面阵列(FPA)的研制也已经相当成熟。但是在国内,受制于整体工业水平,QWIP焦平面阵列器件的研制仍然处... 量子阱红外探测器(Quantum well infrared photodetector,QWIP)已经经历了20多年的深入研究,各种QWIP器件,包括量子阱红外探测器焦平面阵列(FPA)的研制也已经相当成熟。但是在国内,受制于整体工业水平,QWIP焦平面阵列器件的研制仍然处于起步阶段。研制了基于GaAs/AlxGa1-xAs材料、峰值响应波长为9.9μm的长波320×256 n型QWIP焦平面阵列器件,其像元中心距25μm,光敏元面积为22μm×22μm。GaAs衬底减薄后的QWIP焦平面阵列,与Si基CMOS读出电路(ROIC)通过铟柱倒焊互连,并且在65 K工作温度下进行了室温环境目标成像。该焦平面器件的规模和成像质量相比之前国内报道的结果都有较大提高。焦平面平均峰值探测率达1.5×1010cm.Hz1/2/W。 展开更多
关键词 量子阱红外探测器 GAAS/algaas 焦平面 红外热成像
原文传递
质子辐照对GaAs/AlGaAs多量子阱材料光学性质的影响 被引量:6
5
作者 黄万霞 林理彬 +1 位作者 曾一平 潘量 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第11期957-962,共6页
用固定能量为20keV,剂量为1011~1013/cm 2 的质子和固定剂量为1×1011/cm 2,能量为30~100keV 的质子,对GaAs/AlGaAs 多量子阱材料进行辐照,得到了材料的光致发光特性随质子能... 用固定能量为20keV,剂量为1011~1013/cm 2 的质子和固定剂量为1×1011/cm 2,能量为30~100keV 的质子,对GaAs/AlGaAs 多量子阱材料进行辐照,得到了材料的光致发光特性随质子能量和剂量的变化关系,并进行了讨论.结果表明,质子辐照对材料的光学性质有破坏性的影响,这种影响是通过两种机制引起的.相同能量的质子辐照,随着辐照剂量的增大,对量子阱光致发光峰的破坏增大.相同剂量的质子辐照,当辐照质子的射程刚好覆盖整个量子阱结构区域时,对量子阱光致发光峰的破坏最严重,当辐照质子的射程超过量子阱结构区域时,对量子阱光致发光峰的破坏反而减小. 展开更多
关键词 量子阱材料 光学性质 质子辐照 GaAs algaas
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MOCVD与MBE生长GaAs/AlGaAs量子阱材料的红外探测器特性比较 被引量:5
6
作者 李娜 李宁 +9 位作者 陆卫 窦红飞 陈张海 刘兴权 沈学础 H.H.Tan LanFu C.Jagadish M.B.Johnston M.Gal 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第5期441-444,共4页
用金属有机物化学气相沉积法 ( MOCVD)生长 Ga As/Al Ga As量子阱材料 ,并制成红外探测器 .测量了材料的光致发光光谱和探测器的光电流响应光谱及其它光电特性 ,峰值波长7.9μm,响应率达到 6× 1 0 3V/W,与分子束外延法 ( MBE)生长... 用金属有机物化学气相沉积法 ( MOCVD)生长 Ga As/Al Ga As量子阱材料 ,并制成红外探测器 .测量了材料的光致发光光谱和探测器的光电流响应光谱及其它光电特性 ,峰值波长7.9μm,响应率达到 6× 1 0 3V/W,与分子束外延法 ( MBE)生长的材料和相关器件进行了比较 ,MOCVD法可满足量子阱材料和器件的要求 . 展开更多
关键词 algaas 量子阱 红外探测器 MOCVD 砷化镓
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界面态对AlGaAs/GaAs HEMT直流输出特性的影响 被引量:5
7
作者 张兴宏 程知群 +3 位作者 夏冠群 徐元森 杨玉芬 王占国 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第11期989-993,共5页
本文利用高电子迁移率晶体管(HEMT)的直流输出分析模型,首次定量地分析了界面态对AlGaAs/GaAs HEMT 直流输出特性的影响.考虑界面态的作用,详细分析了不同界面态密度对HEMT的IV特性和器件跨导的影响.... 本文利用高电子迁移率晶体管(HEMT)的直流输出分析模型,首次定量地分析了界面态对AlGaAs/GaAs HEMT 直流输出特性的影响.考虑界面态的作用,详细分析了不同界面态密度对HEMT的IV特性和器件跨导的影响.我们的研究结果表明随着界面态密度的增加,栅极电压对电流的控制能力减小,从而使器件的跨导减小. 展开更多
关键词 HEMT 界面态 直流输出 algaas GAAS 晶体管
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透射式GaAs光电阴极AlGaAs/GaAs外延层内应力的种类及其表征与测量 被引量:6
8
作者 李晓峰 张景文 +1 位作者 高鸿楷 侯洵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期88-92,共5页
本文介绍了透射式 Ga As光电阴极 Al Ga As窗层和 Ga As光电发射外延层内应力的种类及其表征方法和测量方法 。
关键词 GAAS/algaas 光电阴极 X射线衍射 应力 外延 测量方法 表征方法 砷化镓 铝砷镓化合物 半导体
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非对称法布里-伯罗腔光调制特性分析及高对比度GaAs/AlGaAs调制器 被引量:5
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作者 陈志标 高文智 +1 位作者 陈弘达 吴荣汉 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第12期891-897,共7页
本文分析了非对称法布里-伯罗腔(ASFP)调制特性,得出了反射率为零的条件.设计生长了常通和常关两种高对比度反射式调制器件,测量了它们的电调制反射谱,理论与实验比较符合.
关键词 调制器 砷化镓 algaas ASFP调制
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带有腔面非注入区的大功率808nm GaAs/AlGaAs激光二极管列阵 被引量:4
10
作者 方高瞻 肖建伟 +4 位作者 马骁宇 谭满清 刘宗顺 刘素平 冯小明 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2000年第12期9-11,共3页
报导了带有腔面非注入区的 80 8nmGaAs/AlGaAs激光二极管列阵的制作过程和测试结果。在器件前后腔面处引入 2 5μm非注入区 ,填充密度为 17%的 1cm激光二极管列阵最高连续输出功率达 87W ,热沉温度是 2 5℃ ,抗COD能力比没有非注入区的... 报导了带有腔面非注入区的 80 8nmGaAs/AlGaAs激光二极管列阵的制作过程和测试结果。在器件前后腔面处引入 2 5μm非注入区 ,填充密度为 17%的 1cm激光二极管列阵最高连续输出功率达 87W ,热沉温度是 2 5℃ ,抗COD能力比没有非注入区的激光二极管列阵高 4 0 %。器件在连续 15W下恒功老化 ,工作寿命超过 50 0 0h。 展开更多
关键词 非注入区 COD GAAS/algaas 激光二级管列阵 腔面 固件激光器
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9μm Cutoff 128×128 AlGaAs/GaAs Quantum Well Infrared Photodetector Focal Plane Arrays 被引量:4
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作者 李献杰 刘英斌 +6 位作者 冯震 过帆 赵永林 赵润 周瑞 娄辰 张世祖 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第8期1355-1359,共5页
We design and fabricate a 128 × 128 AlGaAs/GaAs quantum well infrared photodetector focal plane array (FPA). The device is achieved by metal organic chemical vapor deposition and GaAs integrated circuit process... We design and fabricate a 128 × 128 AlGaAs/GaAs quantum well infrared photodetector focal plane array (FPA). The device is achieved by metal organic chemical vapor deposition and GaAs integrated circuit processing technology. A test structure of the photodetector with a mesa size of 300μm × 300μm is also made in order to obtain the device parameters. The measured dark current density at 77K is 1.5 × 10^-3A/cm^2 with a bias voltage of 2V. The peak of the responsivity spectrum is at 8.4μm,with a cutoff wavelength of 9μm. The blackbody detectivity is shown to be 3.95 × 10^8 (cm · Hz^1/2)/W. The final FPA is flip-chip bonded on a CMOS read-out integrated circuit. The infrared thermal images of some targets at room temperature background are successfully demonstrated at 80K operating temperature with a ratio of dead pixels of less than 1%. 展开更多
关键词 algaas/GAAS quantum well infrared photodetector infrared thermal images
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高功率密度自对准结构AlGaAs/GaAs异质结双极晶体管 被引量:6
12
作者 严北平 张鹤鸣 戴显英 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期247-250,共4页
利用各向异性的湿法刻蚀和侧墙隔离技术实现了发射极金属和基极金属的自对准 ,采用该自对准技术成功地研制出了自对准结构的 Al Ga As/ Ga As异质结双极晶体管 ,器件直流电流增益大于 2 0 ,电流增益截止频率 f T 大于30 GHz,最高振荡频... 利用各向异性的湿法刻蚀和侧墙隔离技术实现了发射极金属和基极金属的自对准 ,采用该自对准技术成功地研制出了自对准结构的 Al Ga As/ Ga As异质结双极晶体管 ,器件直流电流增益大于 2 0 ,电流增益截止频率 f T 大于30 GHz,最高振荡频率 fmax大于 5 0 GHz,连续波功率测量表明 :在 1d B增益压缩时 ,单指 HBT可以提供 10 0 m W输出功率 ,对应的功率密度为 6 .6 7W/ m m,功率饱和时最大输出功率 112 m W,对应功率密度为 7.48W/ m m,功率附加效率为 6 7% 展开更多
关键词 自对准结构 高功率密度 异质结双极晶体管 algaas/GAAS 砷化镓
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透射式GaAs光电阴极AlGaAs/GaAs外延层倒易点二维图分析 被引量:4
13
作者 李晓峰 张景文 +1 位作者 高鸿楷 侯洵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期312-316,共5页
本文介绍了摇摆曲线和倒易点二维图在评价晶格完整性时的特点 ,分析了透射式Ga As光电阴极样品 Al Ga As/Ga As外延层的倒易点二维图 ,获得了晶面弯曲以及Al Ga As外延层中 Al组份变化等方面的信息 ,为优化外延工艺提供了可靠的保证 .
关键词 algaas/GAAS X射线衍射 光电阴极 倒易点二维图 砷化镓 透射式GAAS光电阴极 外延层 镓铝砷化合物
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InGaAs/AlGaAs量子阱中量子尺寸效应对PL谱的影响 被引量:3
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作者 于永芹 黄柏标 +7 位作者 尉吉勇 潘教青 周海龙 齐云 陈文澜 秦晓燕 张晓阳 任忠祥 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第3期345-349,共5页
本文采用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)方法设计并生长了两组InGaAs/AlGaAs应变多量子阱,量子阱的厚度分别为3nm和6nm,对其光致发光谱(PL)进行了研究,二者的发光波长分别为843nm和942nm,用有限深单量子阱理论近似计算了由于量子尺寸效... 本文采用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)方法设计并生长了两组InGaAs/AlGaAs应变多量子阱,量子阱的厚度分别为3nm和6nm,对其光致发光谱(PL)进行了研究,二者的发光波长分别为843nm和942nm,用有限深单量子阱理论近似计算了由于量子尺寸效应和应变效应引起的InGaAs/AlGaAs量子阱带隙的改变,这解释了两组样品室温下PL发射波长变化的原因。 展开更多
关键词 InGaAs/algaas量子阱 量子尺寸效应 MOCVD 应变效应 金属有机物化学气相淀积 铟钙砷化合物 铝钙砷
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大功率宽面808nm GaAsP/AlGaAs量子阱激光器分别限制结构设计 被引量:4
15
作者 王俊 马骁宇 +2 位作者 林涛 郑凯 冯小明 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第12期2449-2454,共6页
本文对有源区条宽100μm的GaAsP/AlGaAs808nm量子阱激光器分别限制结构进行了理论分析和设计.选取了三种情况的波导层和限制层的铝组分,分别计算和分析了波导层厚度与激光器光限制因子、最大出光功率、垂直发散角和阈值电流密度的函数关... 本文对有源区条宽100μm的GaAsP/AlGaAs808nm量子阱激光器分别限制结构进行了理论分析和设计.选取了三种情况的波导层和限制层的铝组分,分别计算和分析了波导层厚度与激光器光限制因子、最大出光功率、垂直发散角和阈值电流密度的函数关系.根据计算结果可知:当波导层和限制层铝组分为0.4和0.5时,采用窄波导结构可以获得器件的最大输出功率为11.2W,发散角为19°,阈值电流密度为266A/cm2;采用宽波导结构可以得到器件的最大输出功率为9.4W,发散角为32°,阈值电流密度为239A/cm2. 展开更多
关键词 大功率808nm半导体激光器 GaAsP/algaas量子阱激光器 分别限制异质结构
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透射式GaAs光电阴极AlGaAs/GaAs外延层X射线衍射摇摆曲线半峰宽研究 被引量:3
16
作者 李晓峰 张景文 +1 位作者 高鸿楷 侯洵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期93-97,共5页
本文研究了晶体 X射线摇摆曲线半峰宽同其晶格完整性之间的关系 ,外延层之间
关键词 algaas/GAAS X射线衍射 应力 光电阴极 砷化镓 铝镓砷化合物 摇摆曲线半峰宽 外延层 半导体
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AlAs/AlGaAs的湿氧氧化及其在VCSEL制备中的应用 被引量:3
17
作者 黄静 郭霞 +4 位作者 渠红伟 廉鹏 朱文军 邹德恕 沈光地 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2003年第5期341-343,349,共4页
根据制备垂直腔面发射激光器 (VCSEL)电流限制层的需要 ,通过实验方法研究了氧化温度、Al组分和晶向等条件对AlGaAs氧化速率的影响 ,得到适用于VCSEL的材料参数和氧化条件 ;对氧化后表面分层、欧姆接触特性变差等现象进行分析 ,得到解... 根据制备垂直腔面发射激光器 (VCSEL)电流限制层的需要 ,通过实验方法研究了氧化温度、Al组分和晶向等条件对AlGaAs氧化速率的影响 ,得到适用于VCSEL的材料参数和氧化条件 ;对氧化后表面分层、欧姆接触特性变差等现象进行分析 ,得到解决或改善方案。比较AlAs和Al0 .98Ga0 .0 2 As氧化特性及氧化后的热稳定性 ,结果表明Al0 .98Ga0 .0 2 As较AlAs更适于作VCSEL电流限制层。将优化的氧化条件及材料参数应用于VCSEL制备 ,得到室温连续工作的VCSEL器件 ,其阈值电流为 0 .8mA ,激射波长为 980nm ,工作电流为 15mA时输出功率可达 3.2mW。 展开更多
关键词 VCSEL algaas 氧化
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快速热退火对GaAs/AlGaAs量子阱红外探测器的修饰 被引量:2
18
作者 李宁 刘兴权 +7 位作者 李娜 陈效双 陆卫 徐文兰 袁先璋 沈学础 黄绮 周均铭 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期264-267,共4页
应用快速热退火的方法将 Ga As/Al Ga As多量子阱红外探测器的峰值响应波长从7.7μm移动到 8~ 1 4μm大气窗口内 .通过测量单元器件的光电流谱、响应率和 I- V特性 ,分析了快速热退火对 Ga As/Al Ga
关键词 量子阱 红外探测器 快速退火 砷化镓 algaas
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AlGaAs/GaAs多量子阱红外探测器暗电流特性 被引量:3
19
作者 赵永林 李献杰 +3 位作者 蔡道民 周洲 郭亚娜 韩丽丽 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2006年第z5期68-71,共4页
介绍了 AlGaAs/GaAs 多量子阱红外探测器(QWIP)暗电流与噪声的关系和降低暗电流的途径;基手湿法化学腐蚀工艺制作了300μm×300μm台面单元器件,并用变温液氦杜瓦测试系统在不同温度下对红外探测器暗电流进行了测试并分析。在温度小... 介绍了 AlGaAs/GaAs 多量子阱红外探测器(QWIP)暗电流与噪声的关系和降低暗电流的途径;基手湿法化学腐蚀工艺制作了300μm×300μm台面单元器件,并用变温液氦杜瓦测试系统在不同温度下对红外探测器暗电流进行了测试并分析。在温度小于40 K 时,随着温度的改变暗电流没有明显的变化;当温度大于40 K 时,暗电流随着温度的升高迅速变大,正、负偏压下 QWIP 暗电流具有不对称特性。 展开更多
关键词 algaas/GAAS 量子阱红外探测器 暗电流
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由选择腐蚀和选择氧化法相结合研制的GaAs/AlGaAs垂直腔面发射激光器 被引量:4
20
作者 康学军 林世鸣 +5 位作者 高俊华 高洪海 王启明 王红杰 王立轩 张春晖 《Journal of Semiconductors》 CSCD 北大核心 1996年第11期873-876,共4页
本文报道了由选择氧化和选择腐蚀法相结合研制的GaAs/AlGaAs垂直腔面发射半导体激光器,DBR中的AlAS经选择氧化后形成的氧化层作为有源区的横向电流限制层,器件的最低阈值电流为3.8mA,输出功率大于1mW,发... 本文报道了由选择氧化和选择腐蚀法相结合研制的GaAs/AlGaAs垂直腔面发射半导体激光器,DBR中的AlAS经选择氧化后形成的氧化层作为有源区的横向电流限制层,器件的最低阈值电流为3.8mA,输出功率大于1mW,发散角小于7.8°,高频测量脉冲上升沿达100ps,并制成了2×3列阵器件。 展开更多
关键词 VCSELS 激光器 砷化镓 algaas
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