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Effects of the sputtering power on the crystalline structure and optical properties of the silver oxide films deposited using direct-current reactive magnetron sputtering
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作者 郜小勇 张增院 +3 位作者 马姣民 卢景霄 谷锦华 杨仕娥 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第2期370-375,共6页
This paper reports that a series of silver oxide (AgzO) films are deposited on glass substrates by direct-current reactive magnetron sputtering at a substrate temperature of 250 ℃ and an oxygen flux ratio of 15:18... This paper reports that a series of silver oxide (AgzO) films are deposited on glass substrates by direct-current reactive magnetron sputtering at a substrate temperature of 250 ℃ and an oxygen flux ratio of 15:18 by modifying the sputtering power (SP). The AgxO films deposited apparently show a structural evolution from cubic biphased (AgO + Ag20) to cubic single-phased (Ag20), and to biphased (Ag20 + AgO) structure. Notably, the cubic single-phased Ag20 fihn is deposited at the SP = 105 W and an AgO phase with (220) orientation discerned in the Ag^O films deposited using the SP 〉 105 W. The transmissivity and refiectivity of the AgxO films in transparent region decrease with the increase the SP, whereas the absorptivity inversely increases with the increase of the SP. These results may be due to the structural evolution and the increasing film thickness. A redshift of the films' absorption edges determined in terms of Tauc formula clearly occurs from 3.1 eV to 2.73 eV with the increase of the SP. 展开更多
关键词 Ag2O film direct-current reactive magnetron sputtering x-ray diffraction optical prop-erties
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Research on deposition rate of TiZrV/Pd film by DC magnetron sputtering method 被引量:2
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作者 Jie Wang Bo Zhang +1 位作者 Yan-Hui Xu Yong Wang 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 2017年第4期44-50,共7页
An accelerator storage ring needs clean ultrahigh vacuum.A TiZrV non-evaporable getter(NEG) film deposited on interior walls of the chamber can realize distributed pumping,effective vacuum improvement and reduced long... An accelerator storage ring needs clean ultrahigh vacuum.A TiZrV non-evaporable getter(NEG) film deposited on interior walls of the chamber can realize distributed pumping,effective vacuum improvement and reduced longitudinal pressure gradient.But accumulation of pollutants such as N_2 and O_2 will decrease the adsorption ability of the NEG,leading to a reduction of NEG lifetime.Therefore,an NEG thin film coated with a layer of Pd,which has high diffusion rate and absorption ability for H_2,can extend the service life of NEG and improve the pumping rate of H_2 as well.In this paper,with argon as discharge gas,a magnetron sputtering method is adopted to prepare TiZrV-Pd films in a long straight pipe.By SEM measurement,deposition rates of TiZrV-Pd films are analyzed under different deposition parameters,such as magnetic field strength,gas flow rate,discharge current,discharge voltage and working pressure.By comparing the experimental results with the simulation results based on Sigmund's theory,the Pd deposition rate C can be estimated by the sputtered depth. 展开更多
关键词 TiZrV-Pd DEPOSITION rates MAGNETRON sputtering method Non-evaporable GETTER
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Characterization of La-doped xBiInO_3(1-x)PbTiO_3 Piezoelectric Films Deposited by the Radio-Frequency Magnetron Sputtering Method 被引量:1
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作者 孙科学 张淑仪 +1 位作者 Kiyotaka Wasa 水修基 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2016年第6期49-52,共4页
La-doped and undoped xBiIn03-(1 - x)PbTi03 (BI-PT) thin films are deposited on (101)SrRuO3/(lOO)Pt/(lO0) MgO substrates by the rf-magnetron sputtering method. The structures of the films are characterized by... La-doped and undoped xBiIn03-(1 - x)PbTi03 (BI-PT) thin films are deposited on (101)SrRuO3/(lOO)Pt/(lO0) MgO substrates by the rf-magnetron sputtering method. The structures of the films are characterized by XRD and SEM, and the results indicate that the thin films are grown with mainly (100) oriented and columnar structures. The ferroelectricity and piezoelectricity of the BI-PT films are also measured, and the measured results illustrate that both performances are effectively improved by the La-doping with suitable concentrations. These results will open up wide potential applications of the films in electronic devices. 展开更多
关键词 of BI Characterization of La-doped xBiInO3 x)PbTiO3 Piezoelectric Films Deposited by the Radio-Frequency Magnetron sputtering method in by La PT
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High Ferroelectricities and High Curie Temperature of BiInO3PbTiO3Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering Method
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作者 孙科学 张淑仪 Kiyotaka Wasa 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2018年第12期19-22,共4页
Properties of ferroelectric xBiInO3-(1-x)PbTiO3(xBI-(1-x)PT) thin films deposited on(101) SrRuO3/(200)Pt/(200) MgO substrates by rf magnetron sputtering method and effects of deposition conditions are inve... Properties of ferroelectric xBiInO3-(1-x)PbTiO3(xBI-(1-x)PT) thin films deposited on(101) SrRuO3/(200)Pt/(200) MgO substrates by rf magnetron sputtering method and effects of deposition conditions are investigated.The structures of the xBI-(1-x)PT films are characterized by x-ray diffraction and scanning electron microscopy.The results indicate that the thin films are grown with mainly(001) orientation. The chemical compositions of the films are analyzed by scanning electron probe and the results indicate that the loss phenomena of Pb and Bi elements depend on the pressure and temperature during the sputtering process.The sputtering parameters including target composition, substrate temperature, and gas pressure are adjusted to obtain optimum sputtering conditions. To decrease leakage currents,2 mol% La2 O3 is doped in the targets. The P-E hysteresis loops show that the optimized xBI-(1-x)PT(x = 0.24) film has high ferroelectricities with remnant polarization2 Pr = 80μC/cm2 and coercive electric field 2 EC = 300 kV/cm. The Curie temperature is about 640℃. The results show that the films have optimum performance and will have wide applications. 展开更多
关键词 In Pb MGO High Ferroelectricities and High Curie Temperature of BiInO3PbTiO3Thin Films Deposited by RF Magnetron sputtering method
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Effects of RF-Sputtering Method Based Oxygen Flow Rate Change on the Properties of ZrO2 Thin Film
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作者 Jin Jeong Kyung-Choul Baek Bong-Ju Lee 《材料科学与工程(中英文A版)》 2012年第3期341-345,共5页
关键词 ZRO2薄膜 射频溅射法 薄膜性能 氧气流量 汇率 薄膜生长 氧分压 氧气分压
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Sputtering Preparation and Magneto-optical Properties of GdTbFeCo Thin Films
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作者 黄致新 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2012年第2期195-198,共4页
Amorphous GdTbFeCo magnetic thin films were successfully prepared on glass substrates by RF magnetron sputtering system from a mosaic target. The influences of sputtering parameters on the magneto- optical properties ... Amorphous GdTbFeCo magnetic thin films were successfully prepared on glass substrates by RF magnetron sputtering system from a mosaic target. The influences of sputtering parameters on the magneto- optical properties GdTbFeCo thin film were investigated by the variable control method. And the influence mechanism was analyzed in detail. After the sputtering parameters were optimized, it was found that when the distance between target and substrate was 72 ram, the thin film thickness was 120 nm, and the sputtering power, sputtering pressure and sputtering time was 75 W, 0.5 Pa and 613 s, respectively, the coercivity with perpendicular anisotropy could be as high as 6735 Oe, and the squareness ratio of the hysteresis loop was almost equal to 1. 展开更多
关键词 influence magnetron sputtering parameters GdTbFeCo thin film magnetoopticalproperty variable control method
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Continuous compositional spread investigation of SiC-based thin films prepared by MW-ECR plasma enhanced magnetron co-sputtering
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作者 Hanghang WANG Liyan ZHANG +1 位作者 Wenqi LU Jun XU 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第3期66-70,共5页
A kind of combinatorial material methodology,also known as continuous compositional spread method,was employed to investigate the relationship between the optical band gap and composition of SiC thin films.A wide rang... A kind of combinatorial material methodology,also known as continuous compositional spread method,was employed to investigate the relationship between the optical band gap and composition of SiC thin films.A wide range of SixCy thin films with different carbon contents have been successfully deposited in a single deposition by carefully arranging the sample position on the substrate holder.The films were characterized by surface profiler,x-ray photoelectron spectroscopy,ultraviolet-visible spectroscopy,fourier transform infrared spectroscopy and Raman spectroscopy.The carbon content y increases linearly from 0.28 to 0.72 while the sample position changed from 85 to 175 mm,the optical band gap changed between 1.27 and 1.99 eV,the maximum value corresponded to the stoichiometric SiC sample at the position of 130 mm,which has the highest Si?C bond density of 11.7×10^22 cm^-3.The C poor and C rich SixCy samples with y value less and larger than 0.5 were obtained while samples deviated from the position 130 mm,the optical band gap decreased with the Si?C bond density. 展开更多
关键词 CONTINUOUS compositional SPREAD method silicon CARBIDE optical band gap magnetron sputtering RAMAN and IR spectra
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Si_(3)N_(4)基底TiC薄膜的制备及其摩擦学性能的研究
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作者 王贺 褚健翔 +3 位作者 闫广宇 吴玉厚 陈思博 戴广远 《材料保护》 2025年第8期147-154,共8页
为解决Si_(3)N_(4)陶瓷轴承在使用过程中因其高摩擦系数引起的发热问题,采用磁控溅射法在Si_(3)N_(4)陶瓷轴承表面制备了4种碳含量(原子分数)分别为38.84%、63.90%、69.23%、78.04%的TiC薄膜,研究了薄膜碳含量对薄膜微观结构和性能的影... 为解决Si_(3)N_(4)陶瓷轴承在使用过程中因其高摩擦系数引起的发热问题,采用磁控溅射法在Si_(3)N_(4)陶瓷轴承表面制备了4种碳含量(原子分数)分别为38.84%、63.90%、69.23%、78.04%的TiC薄膜,研究了薄膜碳含量对薄膜微观结构和性能的影响;利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)分析薄膜的表面、截面形貌及薄膜成分;利用纳米划痕实验、摩擦磨损实验分析薄膜的膜基结合力及摩擦学性能。结果表明:TiC薄膜拥有无定形碳包裹着晶粒的结构;随着碳元素含量的增加,TiC薄膜显示出(111)择优取向生长趋势并慢慢转变为无明显择优取向生长;当碳含量为63.90%(原子分数)时,TiC薄膜拥有最高的膜基结合力26.22 N。与Si_(3)N_(4)的摩擦系数0.419相比,当碳含量为78.04%(原子分数)时,TiC薄膜拥有比Si_(3)N_(4)基底更低的摩擦系数0.047;在Si_(3)N_(4)陶瓷轴承表面制备TiC薄膜可以有效提高结合力并降低摩擦系数。 展开更多
关键词 磁控溅射法 TiC薄膜 Si_(3)N_(4)基底 碳含量 膜基结合力 摩擦学性能
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基于裂纹模板法的双层金属网格透明导电薄膜制备及性能
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作者 廖敦微 周建华 郑月军 《物理学报》 北大核心 2025年第1期133-142,共10页
在裂纹模板法制备单层金属网格透明导电薄膜的基础上,为提升其电磁屏蔽性能,制备了双层金属网格透明导电薄膜.通过旋涂法和提拉法工艺分别得到双层裂纹模板后,进而制备相应的双层金属网格透明导电薄膜.首先对同样条件下采用旋涂法制备... 在裂纹模板法制备单层金属网格透明导电薄膜的基础上,为提升其电磁屏蔽性能,制备了双层金属网格透明导电薄膜.通过旋涂法和提拉法工艺分别得到双层裂纹模板后,进而制备相应的双层金属网格透明导电薄膜.首先对同样条件下采用旋涂法制备的单层和双层金属网格透明导电薄膜样品进行性能测试和对比,可知双层结构相对于单层的透光率下降了10.9%,在Ku波段(12-18 GHz)测试的电磁屏蔽效能提升了30 dB.另外,对提拉法制备的双层金属网格样品也进行了测试,与同样条件制备的单层金属网格样品相比,双层结构在损失8.38%的透光率前提下,在Ku波段的电磁屏蔽效能提升了20 dB.测试结果表明,制备的双层金属网格透明导电薄膜在牺牲一定透光性能前提下可明显提升电磁屏蔽性能.通过对基于裂纹模板法的双层金属网格透明导电薄膜的制备和性能研究,可以充分利用裂纹模板法工艺的低成本优势制备高电磁屏蔽性能的双层金属网格透明导电薄膜. 展开更多
关键词 裂纹模板法 双层金属网格透明导电薄膜 高电磁屏蔽性能 磁控溅射
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磁控溅射沉积不同膜结构TiN薄膜对Si_(3)N_(4)基底的耐磨性能改善研究
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作者 王贺 陈思博 +3 位作者 闫广宇 吴玉厚 褚健翔 戴广远 《材料保护》 2025年第7期85-95,共11页
为解决氮化硅陶瓷轴承在极端工况下表面易受磨损的问题,采用磁控溅射法在氮化硅基底上制备梯度、多层和单层TiN薄膜。选用3种氮气供给模式:以15 mL/min为初始流量,每5 min N_(2)流量递增0.8 mL/min、交替开关N_(2)流量0+30 mL/min、N_(2... 为解决氮化硅陶瓷轴承在极端工况下表面易受磨损的问题,采用磁控溅射法在氮化硅基底上制备梯度、多层和单层TiN薄膜。选用3种氮气供给模式:以15 mL/min为初始流量,每5 min N_(2)流量递增0.8 mL/min、交替开关N_(2)流量0+30 mL/min、N_(2)恒流30 mL/min。采用XRD衍射仪、扫描电子显微镜研究薄膜结构对薄膜表面、截面形貌和微观结构的影响,通过划痕和摩擦磨损试验检测薄膜的膜基结合力和摩擦磨损性能。结果显示:在相同试验条件下,梯度TiN薄膜拥有最高的膜基结合力(L_(C2)为19.12 N),比单层TiN薄膜提高约0.3倍,与氮化硅的摩擦系数(0.78)和磨损率[1.51×10^(-5)mm^(3)/(m·N)]相比,不同膜结构的TiN薄膜的摩擦系数和磨损率均有明显下降,梯度TiN薄膜拥有最低的摩擦系数(0.10)和最低的磨损率[3.33×10^(-6)mm^(3)/(m·N)]。不同膜结构设计显著影响TiN薄膜的微观结构、膜基结合力和摩擦学性能,摩擦学性能最好的膜结构为梯度TiN薄膜结构。 展开更多
关键词 磁控溅射法 Si_(3)N_(4)基底 TIN薄膜 膜基结合力 摩擦学性能
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基于PIC-MCC方法的溅射离子泵抽速计算方法
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作者 王耀之 刘奕新 +1 位作者 张华鹏 张志军 《真空与低温》 2025年第3期405-411,共7页
基于溅射离子泵潘宁放电单元的实际工作条件,采用PIC-MCC方法建立了相应的仿真模型,并利用开源代码picFoam对单个潘宁放电单元进行了模拟分析。结合仿真结果与现有理论,通过计算离子入射参数,得到了溅射出的钛原子数量,并进一步结合阳... 基于溅射离子泵潘宁放电单元的实际工作条件,采用PIC-MCC方法建立了相应的仿真模型,并利用开源代码picFoam对单个潘宁放电单元进行了模拟分析。结合仿真结果与现有理论,通过计算离子入射参数,得到了溅射出的钛原子数量,并进一步结合阳极筒参数计算单个潘宁放电单元的抽速和溅射离子泵的整体抽速。分析了不同工作压力下离子的入射位置、入射能量及入射角度的分布规律,计算了单个潘宁放电单元的抽速。最终,基于阳极筒的排列方式得出溅射离子泵的整体抽速,计算结果与理论值对比显示出良好的一致性。 展开更多
关键词 溅射离子泵 PIC-MCC方法 潘宁放电 入射参数 抽速计算
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绿色节能低辐射(Low-E)玻璃的技术发展历程及其展望
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作者 张进康 杨晓林 +3 位作者 孔德茹 赵新臣 刘靖 孙冬兰 《绿色建筑》 2025年第5期40-48,共9页
Low-E玻璃是一种表面涂有特殊镀膜的玻璃材料,可以有效阻隔太阳光中红外线的辐射热并且透过可见光,减少热量传输,具有保温、节能、高效的特点。系统性地回顾了Low-E玻璃的发展历程,浅析了当前其在我国建筑等领域中的地位,并对Low-E玻璃... Low-E玻璃是一种表面涂有特殊镀膜的玻璃材料,可以有效阻隔太阳光中红外线的辐射热并且透过可见光,减少热量传输,具有保温、节能、高效的特点。系统性地回顾了Low-E玻璃的发展历程,浅析了当前其在我国建筑等领域中的地位,并对Low-E玻璃节能原理、种类与技术特点,包括单银、双银和三银Low-E膜层的性能差异和各种制备工艺的特点进行综合概述。最后,结合我国现行的相关政策和法规,分析了Low-E玻璃在我国的市场状况和未来发展潜力。不仅为Low-E玻璃行业提供了技术总结及展望,也为建筑行业、政策制定者和市场分析师提供了借鉴,具有较好的研究价值和实际应用意义。 展开更多
关键词 低辐射玻璃 保温 隔热 银层 磁控溅射法 节能
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Pt界面层对SiC_(f)/SiC复合材料力学和电磁屏蔽性能的影响
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作者 姜葳 郁荣 +3 位作者 潘海军 邓沛琳 段士昌 杨博 《陶瓷学报》 北大核心 2025年第4期796-804,共9页
SiC_(f)/SiC复合材料因具有电磁参数连续可调的特点,适用于电磁屏蔽领域。贵金属铂具有优异的导电性能,能有效反射电磁波,引入复合材料内部能够调控其电磁参数从而影响电磁屏蔽效果。采用磁控溅射工艺可实现Pt界面层均匀沉积在纤维束表... SiC_(f)/SiC复合材料因具有电磁参数连续可调的特点,适用于电磁屏蔽领域。贵金属铂具有优异的导电性能,能有效反射电磁波,引入复合材料内部能够调控其电磁参数从而影响电磁屏蔽效果。采用磁控溅射工艺可实现Pt界面层均匀沉积在纤维束表面,厚度均匀可控。随着界面层厚度的增加,复合材料的弯曲强度和电磁屏蔽性能均呈现出先增加后降低的变化趋势,在界面层厚度为150 nm时,复合材料的弯曲强度均值达到425 MPa,相较无界面层复合材料提升了32%,在10 GHz的电磁屏蔽性能从16 dB提升至32 dB,增加了一倍,主要原因是Pt界面层的引入显著提高了复合材料的强度和介电常数虚部,使得其弯曲性能和电磁屏蔽性能均得到显著提升。 展开更多
关键词 Pt界面层 SICF/SIC复合材料 电磁屏蔽性能 磁控溅射法
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Measuring Method for Shunt Resistance of Solar Cell
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作者 CHENTingjin WANGDongxiang 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 1998年第1期62-66,共5页
Shunt resistance of solar cell must be monitored for large area solar cell manufactured with conventional process.A measuring method for the shunt resistance is derived from direct-current model.The shunt resistance o... Shunt resistance of solar cell must be monitored for large area solar cell manufactured with conventional process.A measuring method for the shunt resistance is derived from direct-current model.The shunt resistance of solar cell is obtained only by treating a part of I-V data. 展开更多
关键词 direct-current Model Measuring method Shunt Resistance Solar Cell
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五氧化二钒薄膜材料制备方法研究进展
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作者 杜金晶 孙晔 +4 位作者 朱军 李倩 王斌 刘景田 孟晓荣 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期111-119,共9页
由于V^(5+)的饱和氧化态,五氧化二钒成为钒体系中最稳定的氧化物。作为功能材料,五氧化二钒薄膜在众多科学领域有着巨大的应用潜力,因而受到越来越多的关注。这主要归功于其特殊的层状结构、高能量密度、良好的化学和热稳定性以及优异... 由于V^(5+)的饱和氧化态,五氧化二钒成为钒体系中最稳定的氧化物。作为功能材料,五氧化二钒薄膜在众多科学领域有着巨大的应用潜力,因而受到越来越多的关注。这主要归功于其特殊的层状结构、高能量密度、良好的化学和热稳定性以及优异的光学和电学性能。五氧化二钒薄膜的制备方法很多,采用不同的实验方法在不同衬底上制备的五氧化二钒薄膜因化学成分和组织结构差异而造成其电学、光学性能也存在显著的差异。本文详细阐述了五氧化二钒薄膜现有的制备技术,并对五氧化二钒薄膜材料应用的发展趋势进行了展望,以期为五氧化二钒薄膜产业的发展提供参考。 展开更多
关键词 五氧化二钒薄膜 溶胶-凝胶法 溅射法 喷雾热解法
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磁控溅射法制备的硫化镉缓冲层的铜锌锡硫薄膜太阳电池性能 被引量:1
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作者 陈玉飞 廖华 +2 位作者 周志能 赵永刚 王书荣 《云南师范大学学报(自然科学版)》 2024年第2期18-21,共4页
利用磁控溅射法制备硫化镉薄膜,研究硫化镉薄膜作为缓冲层的铜锌锡硫薄膜太阳电池性能.进一步地,采用双功率溅射的方法,减轻溅射过程对吸收层的损伤,增加了铜锌锡硫薄膜太阳电池的开路电压和填充因子,提高了光电转换效率,最终获得了光... 利用磁控溅射法制备硫化镉薄膜,研究硫化镉薄膜作为缓冲层的铜锌锡硫薄膜太阳电池性能.进一步地,采用双功率溅射的方法,减轻溅射过程对吸收层的损伤,增加了铜锌锡硫薄膜太阳电池的开路电压和填充因子,提高了光电转换效率,最终获得了光电转换效率为7.0%的铜锌锡硫薄膜太阳电池. 展开更多
关键词 铜锌锡硫薄膜太阳电池 硫化镉缓冲层 磁控溅射法 双功率溅射
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双膜层ITO/SiO_(2)薄膜制备及其膜电阻均匀性研究
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作者 朱治坤 陈婉婷 +2 位作者 陈静 朱常青 刘荣梅 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第24期188-196,共9页
目的通过双膜层结构设计制备ITO/SiO_(2)薄膜,研究了靶面磁场强度、镀膜工件移动速度、镀膜功率对ITO/SiO_(2)薄膜膜电阻均匀性的影响,并研究了优化条件制备的ITO/SiO_(2)薄膜物相、形貌和结构,并通过元素分布分析探讨了SiO_(2)薄膜的... 目的通过双膜层结构设计制备ITO/SiO_(2)薄膜,研究了靶面磁场强度、镀膜工件移动速度、镀膜功率对ITO/SiO_(2)薄膜膜电阻均匀性的影响,并研究了优化条件制备的ITO/SiO_(2)薄膜物相、形貌和结构,并通过元素分布分析探讨了SiO_(2)薄膜的作用。方法利用磁控溅射法在TN玻璃基板上沉积生成SiO_(2)薄膜,然后再沉积氧化铟锡(ITO)薄膜,制备ITO/SiO_(2)薄膜样品。利用X射线衍射仪(XRD)、ST-21L型薄膜膜电阻测试仪、原子力显微镜(AFM)、透射电镜(TEM)等仪器,研究了靶面磁场强度、镀膜工件移动速度、镀膜功率对ITO/SiO_(2)薄膜膜电阻均匀性的影响,并研究了优化条件制备的ITO/SiO_(2)薄膜样品的物相结构、表面形貌、截面膜层结构、元素分布与有膜电阻均匀性的关系,探讨了SiO_(2)薄膜结构与晶粒尺寸效应可能发挥的作用。结果(1)磁控溅射优化条件下,磁场强度为780~820 Gs,镀膜工件移动速度为1.2 m/min,镀膜功率为2.5 kW(A21)和3 kW(A23)时,ITO/SiO_(2)薄膜膜电阻极差最小为10~11Ω/sq,平均值为75~76Ω/sq,ITO/SiO_(2)薄膜膜电阻的均匀性最好。(2)ITO/SiO_(2)薄膜表现出晶体谱线和非晶谱线的叠加,In_(2)O_(3)和SnO_(2)特征峰发生轻微左偏移现象,SiO_(2)特征峰较宽,说明薄膜中的SiO_(2)处于非晶态结构,且可能部分发生晶粒尺寸效应,以微晶或纳米晶的形式存在。(3)ITO/SiO_(2)薄膜表面形貌比起SiO_(2)薄膜更均匀、连续、平滑且较致密,且具有明显的双膜层结构,其中ITO薄膜表面均匀平整且膜厚均匀,这与膜电阻均匀性一致;SiO_(2)薄膜与ITO薄膜和玻璃基底都形成了界面层,应该也是ITO薄膜结合力较好的原因;In元素的流失受到一定阻隔,应该与薄膜中的SiO_(2)的非晶态结构或发生晶粒尺寸效应,以及多晶ITO结构有关。结论通过优化控制靶面磁场强度、镀膜工件移动速度和镀膜功率等工艺因素,可以提高ITO/SiO_(2)薄膜膜电阻均匀性,同时通过控制SiO_(2)薄膜成膜质量可以改善ITO薄膜质量,并起到阻隔In元素流失的作用。 展开更多
关键词 磁控溅射法 ITO/SiO_(2)双膜层 微观结构 膜电阻均匀性
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工艺参数对磁控溅射制备Ag涂层微观性能的影响研究
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作者 黄鑫宇 戎文娟 +1 位作者 黄永玲 王佳琳 《材料保护》 CAS CSCD 2024年第11期147-155,共9页
采用正交试验法,探究磁控溅射工艺下的溅射温度、磁控靶功率、溅射时间对Ag涂层与基体结合性能与疏水性能的影响,研究总结出Ag沉积涂层形貌变化规律与最佳成形参数指标。采用能谱仪对正交试验参数下的涂层进行化学成分分析;采用扫描电镜... 采用正交试验法,探究磁控溅射工艺下的溅射温度、磁控靶功率、溅射时间对Ag涂层与基体结合性能与疏水性能的影响,研究总结出Ag沉积涂层形貌变化规律与最佳成形参数指标。采用能谱仪对正交试验参数下的涂层进行化学成分分析;采用扫描电镜(SEM)分析涂层微观形貌,推断涂层微观组织演变过程;采用划痕仪以及接触角测量仪进行涂层与基体结合强度表征与涂层疏水性能测试。结合以上测试,对正交试验结果进行极差分析,归纳汇总影响涂层性能指标因素的强弱排序与最佳的成形工艺参数。结果表明,各因素影响强弱排序为:Ag靶材溅射功率>溅射时间>溅射温度。标号为S1(Ag靶材溅射功率10 W,溅射时间10 min,溅射温度150℃)对应涂层的性能最优,涂层厚度控制在0.7~1.4μm最佳。研究结果可作为后续大批量工业生产关节假体工艺优选提供一定的参考依据与思路。 展开更多
关键词 正交试验 磁控溅射 Ag涂层 微观性能
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退火温度对ITO/Cu/AZO透明导电薄膜结构及性能的影响
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作者 孙冰成 张健 +1 位作者 张贤旺 于尉 《微纳电子技术》 CAS 2024年第11期155-162,共8页
采用射频与直流磁控交替溅射法在石英玻璃载玻片上制备了氧化铟锡(ITO)/Cu/Al掺杂ZnO(AZO)(45 nm/10 nm/45 nm)组合结构的透明导电薄膜,并在不同退火温度下对薄膜进行真空热处理。利用X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见分光光度计、四探针电... 采用射频与直流磁控交替溅射法在石英玻璃载玻片上制备了氧化铟锡(ITO)/Cu/Al掺杂ZnO(AZO)(45 nm/10 nm/45 nm)组合结构的透明导电薄膜,并在不同退火温度下对薄膜进行真空热处理。利用X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见分光光度计、四探针电阻测试仪等表征手段,系统地研究了退火温度对ITO/Cu/AZO复合薄膜晶体结构和光电性能的影响。结果显示,经过不同温度的真空退火处理,薄膜的晶体结构和导电性能得到显著改善和提高,薄膜可见光平均透过率随着退火温度的升高先增加后降低。对比发现,在气压5×10^(-3)Pa、温度150℃下退火制备的ITO/Cu/AZO结构薄膜表现出最佳的综合性能,薄膜具有较强的(222)和(440)晶面衍射峰,在400~800 nm光波范围平均透过率约为80.5%,电导率约为1.76×10^(3) S/cm,综合品质因数达到约2.12×10^(-3)/Ω。 展开更多
关键词 磁控溅射 真空热处理 氧化铟锡(ITO)薄膜 Al掺杂ZnO(AZO)薄膜 交替溅射法
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碳化硅基器件碳膜保护层的制备与研究 被引量:1
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作者 孔令通 肖晓雨 +3 位作者 佘鹏程 黄也 龚俊 王建青 《电子工业专用设备》 2024年第2期27-32,67,共7页
碳膜沉积工艺是集成电路碳化硅器件制造过程中一道关键工艺,通过在碳化硅表面沉积碳膜,有效防止碳化硅器件在高温退火后的表面荒化,避免器件失效。通过磁控溅射法在碳化硅基底上制备碳膜,探索不同的参数对碳膜的影响,得到了表面光滑、... 碳膜沉积工艺是集成电路碳化硅器件制造过程中一道关键工艺,通过在碳化硅表面沉积碳膜,有效防止碳化硅器件在高温退火后的表面荒化,避免器件失效。通过磁控溅射法在碳化硅基底上制备碳膜,探索不同的参数对碳膜的影响,得到了表面光滑、均匀性小于2%的碳膜。通过表征,证实碳膜与碳化硅基底有很好的结合力,在实际生产中沉积的碳膜对碳化硅器件起到了保护作用,有效地保证了产品良率。 展开更多
关键词 碳化硅 集成电路 碳膜沉积工艺 磁控溅射法 物理气相沉积
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