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Effects of RF-Sputtering Method Based Oxygen Flow Rate Change on the Properties of ZrO2 Thin Film

Effects of RF-Sputtering Method Based Oxygen Flow Rate Change on the Properties of ZrO2 Thin Film
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机构地区 Department of Physics
出处 《材料科学与工程(中英文A版)》 2012年第3期341-345,共5页 Journal of Materials Science and Engineering A
关键词 ZRO2薄膜 射频溅射法 薄膜性能 氧气流量 汇率 薄膜生长 氧分压 氧气分压 Structure, ZrO2, thin films, sputtering method, photoluminescence.
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