四靶双离子束溅射镀膜机
-
1胡晓宇,何华云.双离子束溅射镀膜机的维修性分配和预计[J].电子工业专用设备,2014,43(10):33-37.
-
2成珏飞,吴雪梅,诸葛兰剑.双离子束溅射制备SiN_x薄膜的光致发光性质[J].微细加工技术,2004(2):51-54.
-
3王天民,黄良甫.双离子束溅射淀积DLC膜的导电行为[J].薄膜科学与技术,1990,3(2):45-51. 被引量:1
-
4游泳,何娟美,徐小华,饶瑞昌,符五久,李群,吴雪梅.SiO_x薄膜的制备及发光特性研究[J].真空,2007,44(4):47-49.
-
5李群,黎定国,邓玲娜,刘义保,诸葛兰剑,吴雪梅.双离子束溅射法制备SiO_xN_y薄膜的结构与发光[J].真空科学与技术学报,2006,26(1):57-60.
-
6徐小华,何娟美,尧莉,吕波,李群.衬底温度对掺杂硅基薄膜结构的影响[J].东华理工大学学报(自然科学版),2014,37(4):442-446.
-
7王贵义,王世忠,杨洪森,李昕涛.双室旋转磁控溅射镀膜机的研制[J].真空,1990,27(6):7-11.
-
8王文如,肖韵雪.同轴磁控溅射镀膜机的改装技术[J].四川真空,1992(1):153-156.
-
9成珏飞,吴雪梅,诸葛兰剑,王文宝.Si和C共掺杂的SiO_2薄膜的光致发光[J].功能材料与器件学报,2004,10(3):284-288.
-
10况园珠,闫军.双离子束动态共混法制备TaN薄膜及其性能研究[J].薄膜科学与技术,1993,6(2):146-150.
;