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硼铝乳胶源扩散的质量控制途径 被引量:2

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摘要 乳胶源扩散是近年来得到应用的新工艺,它具有扩散参数均匀的特点,其应用不断推广。本文对影响硼铝乳胶源扩散质量的各种因素进行了试验,在此基础上探讨质量控制的方法。
作者 郑陶雷
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1992年第4期64-64,F003,F004,共3页 Semiconductor Technology
  • 相关文献

参考文献3

  • 1洪垣,李心海.锑乳胶源埋层扩散[J]半导体技术,1988(03).
  • 2郑大恒.砷乳胶源扩散技术[J]半导体技术,1985(03).
  • 3庄惠华.掺磷乳胶源用于功率晶体管发射区扩散的尝试[J]半导体技术,1981(06).

同被引文献18

引证文献2

二级引证文献1

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