电子回旋共振微波等离子化学气相沉积金刚石薄膜

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摘要采用国内研制的电子回旋共振化学气相沉积设备(ECRCVD),在单晶硅片上沉积出了金刚石薄膜。通过扫描电子显微镜(SEM),X 射线衍射仪(XRD),激光拉曼谱仪(RAM)的测试,证明所沉积的薄膜具有明确的金刚石特征。所采用的 ECRCVD 设备,具有可以低压沉积、大面积均匀生长以及低温生长的优点。这种方法在合成金刚石光学膜,半导体膜以及其它薄膜方面有重要的应用前景。

作者孙亦宁恽辉中杨基南廖佐升吴京波魏庆升

机构地区兰州物理研究所长沙半导体工艺设备研究所

出处《真空与低温》 1992年第4期192-195,共4页 Vacuum and Cryogenics

关键词金刚石薄膜等离子体气相沉积

分类号 TN304.18 [电子电信—物理电子学]

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