双离子束溅射沉积二氧化硅薄膜被引量：1

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摘要利用双离子束溅射沉积技术,在锗、硅、K9玻璃、不锈钢基底上沉积了二氧化硅薄膜。考察了不同束辐照条件下二氧化硅薄膜的电阻率、折的率、红外吸收谱和显微组织结构。

作者罗崇泰黄良甫刘定权李梦轲王成伟

机构地区兰州物理研究所西北师范学院物理系

出处《真空与低温》 1992年第3期149-151,共3页 Vacuum and Cryogenics

关键词溅射薄膜二氧化硅真空镀膜

参考文献1

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真空与低温

1992年第3期

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