摘要
用两种靶材,采用磁控反应溅射沉积Ti-Al-V-N薄膜。XRD和XPS测定薄膜的结构主要为BI-NaCl型Ti(Al、V)N相。SEM观察确定微观结构比较致密,晶粒直径约0.1μm;元素面分布均匀;主要成份与靶材基本一致。氧化试验表明Ti(Al、V)N抗氧化性远优于TiN,高铝薄膜尤为明显,对Cu、Al等浸润角动态观察和测量结果表明:Ti(Al、V)N涂层明显区别于无涂层的合金钢抛光表面。
出处
《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1992年第6期428-432,共5页
Chinese Journal of Rare Metals
