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硅上异质外延高温超导体薄膜的进展
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摘要
硅上生长高质量高温超导体薄膜的工作促进了微电子学和高温超导电子学的结合。这种新材料能集中半导体和超导材料的优异特性,将导致半导体和超导体组成的新一代混合集成电路的出现。本文综述了目前硅上生长高温超导薄膜的研究进展,介绍了工艺中遇到的问题和解决的途径。
作者
宋登元
机构地区
河北大学
出处
《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1992年第1期64-68,73,共6页
Chinese Journal of Rare Metals
关键词
硅
异质外延
高温超导薄膜
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
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稀有金属
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