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对半导体杂质沉淀无损检测的若干结果

SEVERAL RESULTS OF THE NONDESTRUCTIVE INSPECTION OF THE IMPURITY PRECIPITATION IN SEMICONDUCTOR
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摘要 用XCD-H红外电视测微显微镜,通过无损检测来评价半导体材料与器件工艺的质量。本文仅对材料的完整性与芯片制造工艺导致杂质沉淀的问题进行讨论。 The semiconductor material integrity and the impurity and the impurity precipitation from the wafer process are discussed by using XCD-H infrared microscope with television micrometer……one of the nondestructive inspection method.
出处 《江西大学学报(自然科学版)》 1989年第2期11-16,共6页
关键词 杂质沉淀 无损检测 电视显微镜 impurity precipitation infrared televised microscope nondestructive inspection
  • 相关文献

参考文献2

  • 1曾庆城,唐国林,胡解生,廖隆宣.对硅器件工艺诱生热缺陷的一种无损检测技术——XCD-H红外电视测微显微镜的应用研究[J]半导体技术,1988(04).
  • 2张一心,程美乔.硅片表面热诱导微缺陷的行为及其主要来源[J]半导体学报,1985(03).

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