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Fabrication of mask for x-ray nanolithography by ion beam

X光纳米充刻掩模的离子束制备法
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摘要 Polycarbonate(PC)films were irradiated by heavy ions and illuminated with ultravioletlight.Nuclear track membranes with nanometer pore diameter were obtained by etching PC films underoptimized conditíon,Copper naríowires with diameter 30nm were electroplated into nuclear track mem-branes.The nuclear track membranes wíth copper nanowires can be used as the mask for x-ray nano-lithogapby. 重离子柬轰击聚碳酸酯后.对样品进行陈化和紫外线照射数化,在优化条件下蚀刻后得到纳米孔径核孔膜。利用电化学沉积技术在核孔膜中制备了最小孔径为30纳米的铜纳米线。获得的钥纳米线/聚碳酸酯可以作为x光纳米光刻的腌膜。
作者 HAN Yong PENG Liang-qiáng JU Xin YI Fu-ting ZHANG Ju-fang WU Zi-yu 韩勇;彭良强;巨新;伊福廷;张菊芳;吴自玉(中国科学院高能物理所,北京100039)
出处 《Beijing Synchrotron Radiation Facility》 2001年第2期117-118,共2页 北京同步辐射装置(英文版)
关键词 nano-lithography NANOWIRES x-ray mask X光 纳米结构 光刻 纳米线 掩模 核孔膜 电化学沉积 离子束制备法 高能重离子
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