值得重视的CVD技术
出处
《国际学术动态》
1992年第6期46-48,38,共4页
International Academic Developments
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1刘朝宗,任露泉,佟金.CVD技术及其在工程中的应用[J].吉林工业大学学报,1996,26(1):103-108. 被引量：1
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2王益军,严诚.RFCVD法沉积类金刚石膜的研究[J].咸阳师范学院学报,1999,15(6):19-21.
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3姚宁,李运钧,何金田.金刚石薄膜的微波CVD法制备及其场致发射[J].郑州大学学报（理学版）,1996,32(S2):46-48.
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4杨国伟.CVD技术在超硬涂层制备中的应用[J].表面技术,1995,24(5):25-27.
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5王庆亚,姜喜兰,马力,郑伟.准分子激光选择CVD技术的SnO_2薄膜图形生长及微透镜制作[J].仪器仪表学报,1995,16(S1):328-330. 被引量：2
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6陈广超,兰昊,李彬,戴风伟,薛前进,J.C.Askari,宋建华,黑立富,李成名,吕反修.直流等离子体喷射CVD技术制备自支撑金刚石膜的新结构和新形貌(英文)[J].人工晶体学报,2007,36(5):1123-1126. 被引量：8
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7张志勇,王雪文,赵武,戴琨,陈治明.用热丝CVD技术制备场发射冷阴极金刚石薄膜(英文)[J].光子学报,2002,31(4):450-453. 被引量：6
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8吴先球,陈俊芳,熊予莹,吴开华,任兆杏.ECR-PECVD制备氮化硅薄膜的键态结构[J].功能材料,2003,34(1):108-109. 被引量：2
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9楚天舒.氢对BN/C相选择腐蚀性的研究[J].青岛大学学报（自然科学版）,2001,14(3):62-65.
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10姚丹,庄承钢,张开成,余增强,冯庆荣,王福仁.混合物理化学气相沉积法制备Mg衬底MgB_2薄膜[J].北京大学学报（自然科学版）,2006,42(3):357-360. 被引量：4
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