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光学光刻技术的新进展
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作者
杨钟濂
出处
《电子世界》
1992年第8期4-5,共2页
Electronics World
关键词
集成电路
工艺
光刻技术
分类号
TN405.71 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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1
宋登元.
超大规模集成电路光学光刻技术的现状与展望[J]
.光学技术,1991,17(1):2-5.
2
陈英.
向千兆位拓进的光学光刻技术[J]
.电子工业专用设备,1995,24(4):55-59.
电子世界
1992年 第8期
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