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光学光刻技术的发展历程及趋势 被引量:4

The Growing and Trend of Optical Photolithographic Technology
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摘要 简述了IC生产加工中光学光刻技术的重要性,发展历程以及发展趋势,对非光学光刻技术的应用作了描述。 This paper abstracts the importance of photolithographic technology of IC manufacture,so the growing course and trend,too. Simultaneously,it describes the application of non-optical photolithographic technology.
作者 王相森
出处 《微处理机》 2002年第4期1-2,共2页 Microprocessors
关键词 光刻技术 光学分辨率 准分子激光器 电子束曝光 发展趋势 IC 集成电路 photolithographic technology,optical differentiatie ratio,exchange laser,electron beam exposal
  • 相关文献

参考文献5

  • 1世界电子商报.2001-12
  • 2世界电子商报.2002-01
  • 3Katherine Derbyshire. Issues in advanced Lithography [J]. Solide State Technol. 1997- 05
  • 4Dan Hutcheson G. The trends shaping the next 10 Year [J]. Solide State Technol. 1997-05
  • 5Ruth De Jule. Extending Optical Lithography to 157nm?[J]Semiconductor International. 1998-03

同被引文献19

引证文献4

二级引证文献37

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