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基于系统发育树的光刻技术演化与技术锁定影响因素研究

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摘要 在全球高技术竞争与“卡脖子”困境加剧的背景下,复杂技术系统容易因路径依赖而形成技术锁定,阻碍技术突破。技术锁定的影响因素是一个值得深入探讨的话题。基于光刻领域的专利数据构建了2000—2024年的系统发育树,从演化视角识别技术轨道,并以发育树中的技术群体为基本分析单元,构建混合效应回归模型探讨了技术集中度与创新水平对技术锁定的影响。研究发现:光刻技术在长期发展过程中呈现核心路径稳定演化且多元分支并存的演化格局,且技术集中度与创新水平的提高均能削弱技术锁定效应。该研究为理解技术锁定的形成机制及其破解提供了新的视角,对产业政策和技术战略的制定提供了理论依据和实践指导。
作者 李昊
出处 《技术与市场》 2026年第2期17-27,共11页 Technology and Market
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