压电薄膜的磁控溅射工艺参数对器件性能的影响

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摘要通过改变溅射功率、气体种类与比例、工作压力和基底温度等工艺参数,使用磁控溅射技术在不同材料上制备了压电薄膜,并对其结构与性能进行了表征。通过对比分析,得到了靶材功率、气体种类与比例、工作压力和基底温度对压电薄膜结构与性能的影响规律,优化了压电薄膜的制备工艺参数。结合器件性能测试结果,对压电薄膜的制备工艺进行了深入分析,对器件的制备工艺进行了改进。

作者李宏广

机构地区赛莱克斯微系统科技(北京)有限公司

出处《现代工业工程》 2025年第12期107-109,共3页

关键词压电薄膜磁控溅射工艺参数器件性能

分类号 TN305.92 [电子电信—物理电子学]

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