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溅射技术在磁头制造方面的应用 被引量:2

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摘要 本文介绍了国外最新的溅射设备及溅射在磁头方面的应用,最后介绍一种通过改变磁场配置,提高溅射速度和溅射膜质量的新方法。
作者 刘丽丽
出处 《磁性材料及器件》 CAS CSCD 1992年第1期37-42,共6页 Journal of Magnetic Materials and Devices
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