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用DC-PCVD装置在绝缘体蓝宝石上沉积TiN 被引量：2

DEPOSITION OF TiN ON INSULATOR ALUNDUM BY DC-PCVD INSTRUMENT
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摘要 用直流等离子体化学气相沉积装置(简称 DC-PCVD)在绝缘体蓝宝石上沉积了与基体结合力强的 TiN,探讨了机制及影响成膜的因素。 The thin film TiN that has been deposited on the insulation alundum by DCplasma chemical deposition(DC-PCVD)instrument has a strong adhesion to the substrate.The forming mechanism of thin film TiN and effect factor of the film quality have been dis-cussed.
作者 杨川 吴大兴 高国庆
机构地区 西南交通大学材料工程系 西南交通大学
出处 《材料科学进展》 CSCD 1992年第1期60-63,共4页
关键词 蓝宝石 柴油机 测温装置 探头 DC-PCVD alundum deposition
分类号 TK423.2 [动力工程及工程热物理—动力机械及工程]
  • 相关文献

参考文献1

  • 1王福贞,闻立时编著,中国机械工程学会热处理学会.表面沉积技术[M]机械工业出版社,1989.

同被引文献11

  • 1吴大兴，硅酸盐学报，1991年，20卷，3期，248页
  • 2王力衡，薄膜技术，1991年
  • 3杨烈宇，材料表面薄膜技术，1991年
  • 4顾培夫，薄膜技术，1990年
  • 5甑汉生，薄膜科学与技术，1988年，1卷，1期，10页
  • 6杨烈宇等.材料表面薄膜技术[M]人民交通出版社,1991.
  • 7Taniuch T,Adachi T,Kobayashi K.3</sub>N<sub>4</sub> onto matal substrates&amp;sid=Surface and Coatings Technology&amp;aufirst=Taniuch T');&#xA; ">Chemical vapor deposition of Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub> onto matal substrates. Surface and Coatings Technology . 1991
  • 8Juergen Rawm,Ralph E Pixley.Characterization of ion-plated silicon nitride thin films. Surface and Coatings Technology . 1992
  • 9Aron P R,Grill A.Some properties of RF sputtered hafnium nitride coatings. Thin Solid films . 1982
  • 10Manju Gupta.the preparation, properties and applications of silicon nitride thin films deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition. Thin Solid films . 1991

引证文献2

材料科学进展
1992年 第1期

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