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检测氧化硅厚度的简易方法

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摘要介绍一种应用光的干涉原理测量二氧化硅及有关介质厚度的简易实用方法,具有方便、直观和简化设备的特点。

作者陈福元

机构地区浙江大学

出处《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1992年第1期44-45,共2页 Semiconductor Technology

关键词晶体管工艺氧化硅厚度测量

分类号 TN320.5 [电子电信—物理电子学]

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参考文献1

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半导体技术

1992年第1期

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