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离子注入机靶室尘埃污染与系统改造 被引量:2

Particle Contamination and System Reformation in End Station of Ion Implanter
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摘要 讨论了离子注入机尘埃污染的原因 ,给出了用冷凝泵系统取代扩散泵系统的改造实践 ,并提出了预防维修措施以全面减少尘埃污染。 This paper discusses the causes of particle contamination in end station of ion implanter. A useful reformation that substitute CTI-CRYO pump system instead of oil diffusion pump system is reported. To reduce particle contamination effectively , it is important that execute preventive maintenance methods.
作者 陈毅功
出处 《电子工业专用设备》 2002年第2期103-105,共3页 Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词 靶室 系统改造 离子注入机 尘埃 污染 冷凝泵 晶片 Ion Implanter particle Contamination
  • 相关文献

参考文献2

  • 1[1]Julie Strain, Steve Moffatt, and Michael Current. Characterizing and Reducing Particle Contamination in Ion Implantation Procession[J]. Microcontamination, 1989,May,47-51.
  • 2[2]T. Hattori."Particle Reduction Contamination in VLSI Manufacturing ",Contamination Control and Defect Reduction in Semiconductor Manufacturing, Edited by Dennis N[J].Schmidt, 1994,1,3-14.

同被引文献7

引证文献2

二级引证文献3

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