上海微系统所在层数可控石墨烯薄膜制备方面获进展

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摘要中国科学院上海微系统与信息技术研究所在层数可控石墨烯薄膜制备方面取得新进展。研究人员设计了Ni／Cu体系，并利用离子注入技术引入碳源，通过精确控制注入碳的剂量，成功实现了对石墨烯层数的调控。研究人员围绕石墨烯层数的控制问题，结合Ni和Cu在化学气相沉积（CVD）法中制备石墨烯的特点。

作者上微

出处《军民两用技术与产品》 2015年第15期30-30,共1页 Dual Use Technologies & Products

关键词薄膜制备微系统石墨层数可控上海离子注入技术化学气相沉积

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军民两用技术与产品

2015年第15期

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