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最新高功能CVD成膜技术

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摘要 随着工业技术的快速发展,对工业材料高功能、高性能化的要求也更高.作为高功能的工艺技术有气相沉积法.气相沉积大体分为两类即化学气相沉积法(CVD法)与物理气相沉积法(PVD法).特别是CVD法,由于是通过在气相中或在基板表面的化学反应形成所要求的材料的薄膜,因此通过控制流入反应室内的化合物气体,可以高纯度地合成多种材料.
作者 王冰 张玉河
出处 《国外金属热处理》 2002年第3期13-16,共4页 Heat Treatment of Metals Abroad
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参考文献2

  • 1[5]Hideki Matsumura: Formation of Silicon Based Thin Films Prepared by Catalytic Chemical Vapor Deposit on (Cat CVD)Method. Jpn J. Appl. Phys. 1998,37:3175- 3187.
  • 2[6]Ritsuko liduka. Akira Heya and Hideki Matsumura:Study on cat CVD poly Si films for solar cell application. Sola Energy Materials and Solar Cells. 1997,48:279- 285.

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