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二甲基甲酰胺中镁钴合金的电沉积 被引量:3

Electrodeposition of Mg-Co Alloy in DMF
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摘要 研究了二甲基甲酰胺溶液中Mg (Ⅱ )和Co (Ⅱ )在Pt和Cu电极上的电化学行为 ;用恒电位法沉积出有金属光泽、致密、附着力好的Mg_Co合金膜 ,并用EDAX分析Mg_Co合金膜组成 ,其Mg的质量分数可达到18 73% ,用扫描电子显微镜 (SEM)分析膜表面形貌 。 The cyclic voltammetry was used to study the electrochemical behaviours of Mg(Ⅱ) and Co(Ⅱ) in 0.20 mol·dm -3 Mg(ClO 4) 2+0.20 mol·dm -3 LiClO 4+DMF, 0.030 mol·dm -3 CoCl 2+0.10 mol·dm -3 LiClO 4+DMF and 0.20 mol·dm -3 Mg(ClO 4) 2+0.030 mol·dm -3 CoCl 2+0.20 mol·dm -3 LiClO 4+DMF systems on Pt and Cu electrodes. Smooth, adhesive,uniform and metalic luster Mg-Co alloy films were prepared by potentionstatic electrolysis on Cu substrates with deposition potential ranging from -2.40 V to -3.00 V(vs.SCE).The Mg mass concentration in the alloy films ranges from 10.74% to 18.73% analysed by EDAX.Their surface morphologies are investigated by scanning electron microscopy. According to the analysis by XRD,the alloy films are amorphous.
出处 《中山大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2002年第2期60-63,共4页 Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni
基金 教育部高等学校重点实验室访问学者基金资助项目 (H0 0 6 71) 广东省自然科学基金资助项目 (0 112 15 )
关键词 Mg-Co合金膜 恒电位沉积法 二甲基甲酰胺 镁钴合金膜 表面形貌 薄膜结构 共沉积机理 Mg-Co alloy potentionstatic-deposition dimethylformamide
  • 相关文献

参考文献1

  • 1刘鹏.非水体系电沉积稀土-铁族合金薄膜的研究[M].广州:中山大学,1998..

共引文献1

同被引文献23

引证文献3

二级引证文献1

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