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B^+离子注入p型Hg_(0.8)Cd_(0.2)Te
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摘要
在77K时对150keV的B^+注入p型HgCdTe进行微分霍尔测量表明:以不同剂量的B^+注入后所形成的n^+层是很明显的。n^+层的厚度取决于B^+的注入剂量,当剂量超过1×10^(13)cm^(-2)时,晶片载流子浓度趋于饱和。
作者
王淑云
出处
《红外与激光技术》
CSCD
1991年第6期49-51,共3页
关键词
HGCDTE
注入剂量
晶格
离子注入
分类号
TN305.3 [电子电信—物理电子学]
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红外与激光技术
1991年 第6期
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