一种大面积小短路点的制版技术
出处
《电力电子技术》
CSCD
北大核心
1991年第1期37-38,共2页
Power Electronics
-
1Aaron Hand.先进掩膜帮助延长光学光刻的寿命[J].集成电路应用,2007,24(11):24-28.
-
2李记任,孙磊.一种超宽带紧耦合阵列天线单元设计[J].现代雷达,2017,39(2):74-78. 被引量：2
-
3胡志慧,姜永华,凌祥.基于电阻型频率选择表面的超宽带紧耦合阵列[J].电波科学学报,2013,28(6):1144-1151. 被引量：7
-
4郑雅然.新颖实用的短路点测定器[J].实用无线电,1992(1):45-46.
-
5董树忠.实现纳米结构的新途径──STM制版技术[J].物理,1991,20(11):647-649. 被引量：2
-
6倪耀成.电缆短路点检测二法[J].现代通信,2003(7):33-33.
-
7李漫,项建华.提高晶闸管结温的途径[J].半导体技术,2005,30(12):57-59. 被引量：2
-
8乔笑,彭琦.浅谈电路板短路点的查找方法[J].电子世界,2015(14):40-43. 被引量：2
-
9刘建荣.发射机“死机”故障两例[J].视听,2009,0(1):45-45.
-
10张晓情,李沛林,王敬松,杨建红.PECVD淀积Si_3N_4作为光刻掩膜版的保护膜[J].半导体技术,2009,34(11):1096-1098. 被引量：2
;
