离子束成膜技术进展

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摘要由于离子源参数可独立控制、工作室内无等离子体以及能够精确控制膜的生长过程等优点,离子束成膜技术受到广泛重视。它已被用于超导材料、超硬材料、铁电材料、磁牲材料等的薄膜的制备研究工作。为满足科学技术对薄膜性能越来越高的要求,近年来人们发展了离子束辅助淀积及多离子束反应共溅射技术。本文将介绍这两方面的工作进展。

作者肖志力肖定全

机构地区四川大学

出处《材料导报》 EI CAS CSCD 1991年第10期11-13,共3页 Materials Reports

关键词离子束成膜薄膜沉积溅射

分类号 TB43 [一般工业技术]

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材料导报

1991年第10期

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