ITO薄膜性能、应用及其磁控溅射制备技术的研究被引量：7

Properties, Application and Magnetron Sputtering Depositing Techniques of ITO Thin Film

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摘要研究了ITO薄膜的性能、应用以及磁控溅射制备技术,并对相关技术的发展趋势进行了探讨。 The properties, application and magnetron sputtering depositing techniques of ITO thin films were analyzed. The development of ITO thin film was also discussed.

作者吴晓飞郗雨林

机构地区中国船舶重工集团公司第七二五研究所

出处《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2013年第2期88-90,共3页 Hot Working Technology

关键词 ITO 薄膜磁控溅射 ITO thin film magnetron sputtering depositing

分类号 TN304.055 [电子电信—物理电子学]

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