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高致密ITO靶材制备工艺的研究现状和发展趋势 被引量:12

Preparation Process Research Status and Development Trend of High Density ITO Target
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摘要 简述了ITO薄膜的各种性能和主要应用,综述了国内外ITO靶材的主要成形、烧结工艺及其研究现状,概括了ITO靶材的发展趋势。 The performance and application of ITO film were described; the forming and sintering processes in China and abroad were summarized; the developing trend of ITO target was prospected.
出处 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2012年第24期31-34,37,共5页 Hot Working Technology
基金 新国家自然科学联合基金资助项目(u0837601) 新国家基金资助项目(50874054) 云南省创新团队(2009CI003) 云南省自然科学基金资助项目(2008CD087)
关键词 ITO靶材 成形工艺 烧结工艺 ITO target forming process sintering process
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引证文献12

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