钇钡铜氧涂层超导用镍基片上立方织构氧化镍缓冲层的制备

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摘要在具有立方织构的镍基带上用外延生长法制备氧化镍缓冲层，有很强的立方织构，其（１１１）的Φ扫描峰的最大半高宽（ＦＷＨＭ）值达到１１°。它为进一步溅射沉积具有双轴取向的ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ７膜奠定了良好基础。

作者胡小军傅祖明

机构地区冶金研究院

出处《首钢科技》 2000年第3期21-23,共3页 Shougang Science and Technology

关键词氧化镍缓冲层制备钇钡铜氧涂层超导立方织构

分类号 TM260.51 [一般工业技术—材料科学与工程]

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