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双层辉光离子钨钼共渗的渗层组织及其形成机制 被引量:16

The Microstruciure of Alloyed Layer Treated by Double Layer Ionized W、Mo Metallizing and its Formation Mechanism
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摘要 本文介绍双层辉光离子钨钼共渗的试验研究结果,经钨钼共渗处理后的渗层厚度可大于100μm,合金元素总含量可达80%,其表面显微硬度可高于HV1000.本文还讨沦了钨钼共渗层显微组织的形成机制。 In this paper some results of double layer ionized W、Mo meta-llizing were introduced.The thickness of alloyed layer is more than 100 μmand the total content of W and Mo in the layer comes up to 80%,the micro-hardness of the alloyed layer approaches more than 1000HV,the formationmechanism of microstructure in the alloyed layer was also discussed.
机构地区 太原工业大学
出处 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 1990年第2期22-28,共7页 Heat Treatment of Metals
关键词 钨钼共渗 化学热处理 显微组织 形成机制 Ionized W Mo Metallizing
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