摘要
在 HCl(aq)溶液中 ,测试了 3种典型表面活性剂 (CTAB、SDS和 Triton X- 10 0 )对镍的缓蚀作用。结果表明 ,其缓蚀效率、腐蚀活化能的顺序是 :CTAB>Triton X- 10 0 >SDS。丁醇对 Ni在 HCl(aq)溶液中的电化学腐蚀行为有影响 ,其电化学腐蚀速率的顺序为 :HCl(aq) >丁醇 +HCl(aq) >表面活性剂 +丁醇 +HCl(aq) >表面活性剂 +HCl(aq) >表面活性剂 +丁醇 (aq) >表面活性剂 (aq)
The corrosion of Ni in HCl solution could be prevented in some extent in three typical surfactant systems. The order of efficiency of anti- corrosion is CTAB>Triton X 100>SDS. The addition of butanol could affcet the electrochemical corrosion rate of Ni in HCl solution
出处
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2000年第5期9-10,18,共3页
Materials Protection
基金
国家自然科学资助!项目 (2 97331 1 0 )
